「Total boron」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The mixing ratio of boron nitride to the total quantity of the high resistance material is designed to be greater than 20 wt%.例文帳に追加

高抵抗材料の全量に対する窒化ホウ素の混合割合は、２０ｗｔ％より多くなっている。 - 特許庁

The composition for via hole conductor contains a conductor material containing Cu, or the like, and an inorganic boron compound, wherein the content of inorganic boron compound is set in the range of 0.5-30.0 vol.% with respect to the total conductive material and the inorganic boron compound.例文帳に追加

Ｃｕ等を含む導体材料と無機ホウ素化合物とを含み、無機ホウ素化合物の含有量を、導体材料と当該無機ホウ素化合物の合計に対して、０．５〜３０．０体積％とした、ビアホール導体用組成物。 - 特許庁

The positive electrode material a for lithium secondary battery is made of secondary particles of a lithium transition metal complex oxide containing boron and/or bismuth, and the atomic ratio of the total of boron and bismuth to the total of metal elements other than lithium, boron, and bismuth on the surface portion of the secondary particles is ≥5 times and ≤70 times of that atomic ratio of the whole of secondary particles.例文帳に追加

ホウ素及び／又はビスマスを含むリチウム遷移金属複合酸化物の二次粒子からなり、二次粒子の表面部分のリチウム、ホウ素及びビスマス以外の金属元素の合計に対するホウ素とビスマスの合計の原子比が、二次粒子全体の該原子比の５倍以上７０倍以下であることを特徴とするリチウム二次電池用正極材料。 - 特許庁

The method for insolubilizing the fluorine and/or boron of a solid content containing the fluorine and/or boron comprises insolubilizing the fluorine and/or boron by using the insolubilizing agent containing calcium aluminate and calcium silicate and curing the fluorine and/or boron by allowing moisture of 5 to 250wt% to coexist in the total of the solid content and the insolubilizing agent.例文帳に追加

フッ素及び／又はホウ素を含有する固形分のフッ素及び／又はホウ素の不溶化方法であって、カルシウムアルミネートとケイ酸カルシウムとを含有する不溶化剤を用いるとともに、固形分と不溶化剤との合計量に対して５〜２５０重量％の水分を存在させて養生するフッ素及び／又はホウ素の不溶化方法である。 - 特許庁

The sheet material can further contain at least one kind selected from silicon (Si), phosphorus (P), boron (B), sulfur (S) and carbon (C) by ≥50 ppm in total.例文帳に追加

また、シリコン（Ｓｉ）、りん（Ｐ）、硼素（Ｂ）、イオウ（Ｓ）若しくは炭素（Ｃ）成分のうち少なくとも一種を合計５０ｐｐｍ以上含有することとする。 - 特許庁

The semiconductor device sequentially comprises a first part 22 of a collector region 29 of an IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor), and contains boron at a high concentration; a second part 23 of the collector region 29 which contains boron and gallium at a high concentration in total; and a base region 24 containing phosphorus.例文帳に追加

IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)であり、ボロンを高濃度に含むコレクタ領域２９の第１部分２２と、ボロンとガリウムを合計で高濃度に含むコレクタ領域２９の第２部分２３と、リンを含むベース領域２４を順に備えている。 - 特許庁

The highly heat-conductive thermoplastic resin composition is a thermoplastic resin composition containing 1-70 pts.mass of boron nitride (B) and boron oxide (C) based on 100 pts.mass of a thermoplastic resin (A), wherein an amount of the boron oxide (C) is 1-20 mass% based on the total 100 mass% of (B) and (C).例文帳に追加

熱可塑性樹脂（Ａ）１００質量部に対し、窒化ホウ素（Ｂ）および酸化ホウ素（Ｃ）を１〜７０質量部含有する熱可塑性樹脂組成物であって、酸化ホウ素（Ｃ）の量は、（Ｂ）および（Ｃ）の合計１００質量％に対し、１〜２０質量％であることを特徴とする高熱伝導性熱可塑性樹脂組成物による。 - 特許庁

This water base ink composition comprises at least a colorant and water, and 0.01-10.0 wt.%, based on the total weight of the ink composition, at least one kind selected from a boron hydride and an organic boron compound.例文帳に追加

少なくとも、着色剤及び水を含有し、かつ、ホウ素ハイドライド及び有機ホウ素化合物から選ばれる少なくとも１種をインキ組成物全量に対して、０．０１〜１０．０重量％含有することを特徴とする水性インキ組成物。 - 特許庁

For an appreciable embedding capacity and resistance to seizure, bismuth and/or lead may be added in a maximal total amount of 20 wt.%, or a solid lubricant such as boron nitride and graphite in a maximal total amount of 5 wt.%.例文帳に追加

埋収性、非焼付性の向上のために、ビスマスおよび／または鉛を総量で２０重量％以下含ませたり、また、窒化ほう素、黒鉛などの固体潤滑剤を総量で５重量％以下含ませたりすることもできる。 - 特許庁

As a raw material for refining, a raw material for refining the aluminum is used, in which the raw material contains the peritectic element and boron, and the amount of the boron is contained excessively by 5-80 mass ppm to the total chemical equivalent calculated as a metal boride with the peritectic element.例文帳に追加

精製に供する原料として、包晶元素およびホウ素を含み、ホウ素が包晶元素との金属ホウ化物として計算される合計化学当量よりも５〜８０質量ｐｐｍ過剰に含有されてなるアルミニウム精製用原料を使用する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing pure water and a device for manufacturing the same which can stably manufacture ultra pure water with a low concentration of boron without raising the cost and preventing TOC (total organic carbon) from increasing.例文帳に追加

コストを上げることなく、ＴＯＣの増加を防ぎ、かつ、安定してホウ素濃度の低い超純水を製造することが可能な純水の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

The total content of sodium oxide, boron oxide, and silicon oxide is preferably 99 wt.% or more to 100 wt.% or less of the whole phase-separated glass.例文帳に追加

前記酸化ナトリウム、酸化ホウ素および酸化ケイ素の合計の含有量が、相分離ガラスの全体に対し９９重量％以上１００重量％以下であることが好ましい。 - 特許庁

The present invention provides a boron-free oil-soluble lubricant additive package having a succinimide dispersant, an antiwear agent, and an extreme pressure agent, with a total phosphorus content of 500 ppm or less.例文帳に追加

本発明は、コハク酸イミド分散剤、摩耗防止剤、及び極圧剤を有し、全リン含量が５００ｐｐｍ以下である、ホウ素を含まない油溶性潤滑剤用添加剤パッケージを提供する。 - 特許庁

To reduce total capacitance between wirings by forming a semiconductor device, using a fluorine added carbon film (CF film) as an interlayer insulating film while using a boron nitride film(BN film) as a hard mask.例文帳に追加

層間絶縁膜としてフッ素添加カ−ボン膜（ＣＦ膜）を用いた半導体装置を、ハ−ドマスクとして窒化ホウ素膜（ＢＮ膜）を用いて形成することによりト−タルの線間容量を小さくすること。 - 特許庁

The repair squealer chip 46 is manufactured from second nickel super alloy different from the first nickel alloy super alloy and containing carbon, boron, silicon, zirconium and hafnium of total quantity less than 0.15 wt%.例文帳に追加

補修スクィーラチップ（４６）は、第１のニッケル系超合金とは異なり、炭素、ホウ素、ケイ素、ジルコニウム及びハフニウムの総量が約０．１５重量％未満である第２のニッケル系超合金から製造される。 - 特許庁

This aluminum nitride sintered compact consists essentially of aluminum nitride and contains an alkaline earth element(AE) and rear earth element(RE) in a range of 0.3 to 20 wt.% in terms of oxide in total, aluminum oxide of 20 to 30 wt.% and at least one kind selected from boron and boron compound of ≤2 wt.%.例文帳に追加

窒化アルミニウム焼結体は、窒化アルミニウムを主成分とし、かつアルカリ土類元素（ＡＥ）と希土類元素（ＲＥ）を合計量として酸化物換算で0.3〜20重量% 、酸化アルミニウムを 2〜20重量% 、および硼素および硼素化合物から選ばれる少なくとも 1種を硼素換算で 2重量% 以下の範囲で含有する。 - 特許庁

The heat-dissipating resin composition comprises polytetramethylene adipamide and boron nitride, wherein the amount of the former and the amount of the latter are 15 to 95 mass% and 5 to 85 mass% (the total amount of both the components is 100 mass%), respectively.例文帳に追加

ポリテトラメチレンアジパミド及び窒化ホウ素を含有し、前者の割合が１５〜９５質量％、後者の割合が５〜８５質量％（但し、両者の合計量は１００質量％）である放熱性樹脂組成物。 - 特許庁

(iv) Among artificial graphite with a boron content level less than 5/1,000,000 of the total weight and apparent specific gravity exceeding 1.50 at 20 degrees centigrade, those falling under any of the following 例文帳に追加

四　人造黒鉛であって、ほう素当量が全重量の一、〇〇〇、〇〇〇分の五未満で、かつ、二〇度の温度における見掛け比重が一・五〇を超えるもののうち、次のいずれかに該当するもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

More preferably, the inorganic filler 1 is a scale-shaped boron nitride having ≥50 W/m×K heat conductivity, and is contained so as to occupy 10-60 vol.% in the volume of the total of the solid component of the thermosetting resin and the inorganic filler 1.例文帳に追加

さらに好ましくは、無機フィラ１が、熱伝導率５０Ｗ／ｍ・Ｋ以上である鱗片状の窒化ホウ素であり、熱硬化性樹脂固形分と無機フィラ１を合わせた体積中に１０〜６０体積％占めるように含有される。 - 特許庁

The immersion member 742 for hot-dip metal plating bath is formed by using silicon nitride (Si_3N_4)-based ceramic composite material in which 20-70 mass% of boron nitride (BN) is blended with respect to the total mass of the ceramic composite material.例文帳に追加

セラミックス複合材の全質量基準で、窒化硼素（ＢＮ）を２０質量％以上７０質量％以下配合した窒化珪素（Ｓｉ_３Ｎ_４）基セラミックス複合材を用いて溶融金属浴用の浸漬部材７４２を形成する。 - 特許庁

The inorganic filler is 20-50 volume% and the hexagonal boron nitrides is 15-30 volume%, based on the total volume of the inorganic filler and the matrix resin.例文帳に追加

無機充填材の含有量を、マトリックス樹脂と無機充填材の合計体積に対して２０〜５０体積％とし、かつ、六方晶窒化ホウ素の含有量を、マトリックス樹脂と無機充填材の合計体積に対して１５〜３０体積％とする。 - 特許庁

The plate refractory for sliding nozzles has a chemical composition comprising 0.05-10 mass ratio of boron nitride and metal aluminum, 1-15 mass% of the total amount of boron nitride and metal aluminum, ≤5 mass% of carbon, ≥65 mass% of alumina, and 0-15 mass% of other components, and is characterized by being heat treated at 200-750 °C.例文帳に追加

本発明のスライディングノズル用プレート耐火物は、窒化硼素と金属アルミニウムの質量比が０．０５〜１０、窒化硼素と金属アルミニウムの合計量が１〜１５質量％、カーボンが５質量％以下、アルミナが６５質量％以上、その他成分が０〜１５質量％である化学組成を有し、２００〜７５０℃の範囲内の温度で熱処理されていることを特徴とする。 - 特許庁

The magnesia carbon refractory characteristically comprises metallic boron of 0.1-6 percent by mass, carbon of 1-40 percent by mass, one kind or two kinds or more of metallic aluminium, metallic silicon and metallic magnesium of 1-10 percent by mass in total and the balance mainly composed of magnesium oxide.例文帳に追加

質量％で、金属ホウ素0.1〜6%、炭素1〜40%を含有し、金属アルミニウム、金属シリコン、金属マグネシウムの一種又は二種以上を合計で1〜10％含有し、残部が酸化マグネシウムを主体とすることを特徴とするマグネシア・カーボン質耐火物。 - 特許庁

The vitreous particle for glaze/stain contains silicon oxide, aluminum oxide, boron oxide, zinc oxide and sodium oxide as main components and has an average particle diameter of 5-10 μm, wherein the ratio of the number of particles having a diameter of ≤1 μm in the total number of the particles is ≤10%.例文帳に追加

平均粒子径が５〜１０μｍ、１μｍ以下の粒子の全粒子の個数に占める割合が１０％以下であり、主成分として酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ホウ素、酸化亜鉛および酸化ナトリウムを含むグレーズ／ステイン用ガラス質粒子とする。 - 特許庁

A substrate having an LiO_2-Al_2O_3-SiO_3-based composition as a base is etched by using a gaseous mixture prepared by adding at least one kind selected from boron atoms and chlorine atoms of 20 to 80% based on the total flow rate to gaseous fluorocarbon.例文帳に追加

ＬｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系組成をベースとして有する基板を、フロロカーボンガスに総流量基準で２０〜８０％のホウ素原子及び塩素原子から選ばれた少なくとも一種を含むガスを添加してなる混合ガスを用いてエッチングする。 - 特許庁

The stereoregular polyacrylonitrile-based resin composition comprises 100 pts.wt. of a stereoregular polyacrylonitrile-based resin and 0.01-100 pts.wt. of boron nitride nanotubes, wherein the stereoregular polyacrylonitrile-based resin is such that the isotactic triad content of the polyacrylonitrile component is 35 mol% or greater in the total polyacrylonitrile's recurring units.例文帳に追加

ポリアクリロニトリル成分中のアイソタクティックトライアド含量が全ポリアクリロニトリルの繰り返し単位中の３５モル％以上である立体規則性ポリアクリロニトリル系樹脂１００重量部と窒化ホウ素ナノチューブ０．０１〜１００重量部とからなる立体規則性ポリアクリロニトリル系樹脂組成物。 - 特許庁

Where the total mass of carbon formed by carbonizing the boron carbide and the resol type phenol resin, and the carbon powder is 100 pts.mass, the carbon powder is 2-10 pts.mass and the amount of carbon formed by carbonizing the resol type phenol resin is 1-5 pts.mass.例文帳に追加

炭化硼素、レゾール型フェノール樹脂が炭化して生成するカーボン及びカーボン粉体の合計質量を１００質量部とした際に、カーボン粉体が、２〜１０質量部、レゾール型フェノール樹脂が炭化して生成するカーボンの量で１〜５質量部である炭化硼素焼結体。 - 特許庁

The heat-dissipating resin composition comprises a polyarylene sulfide (A), polytetramethylene adipamide (B), and boron nitride (C), wherein the amounts of the components (A), (B) and (C) are 10 to 90 mass%, 5 to 70 mass%, and 5 to 85 mass% [the total amount of the components (A) to (C) is 100 mass%], respectively.例文帳に追加

ポリアリーレンスルフィド（Ａ）、ポリテトラメチレンアジパミド（Ｂ）及び窒化ホウ素（Ｃ）を含有し、成分（Ａ）の割合が１０〜９０質量％、成分（Ｂ）の割合が５〜７０質量％、成分（Ｃ）の割合が５〜８５質量％（但し、成分（Ａ）〜（Ｃ）の合計量は１００質量％）である放熱性樹脂組成物。 - 特許庁

To provide a method for carrying out oxidation of carbon-boron bond performed at a low temperature, controlled in quantity-velocity by adding Oxone (registered trademark) solution, excellent in total safety to the oxidation and allowing accurately weighing and adding the reagent for reaction because the Oxone is a solid with high yield and high purity.例文帳に追加

低温で実施され、オキソン（登録商標）溶液の添加により量−速度制御され、酸化に対する総体的安全性が優れ、オキソンは固定であり反応用試薬を正確に秤量・添加可能となる、炭素−ホウ素結合の酸化を高収率高純度に行うの方法の提供。 - 特許庁

Provided is this polyimide film consisting mainly of a polyimide obtained by reacting aromatic tetracarboxylic acids with aromatic diamines and having the ≤0.5 ng/cm^2 total content of 3 kinds of the elements of iron, chromium and nickel, and also having the 0.0001 to 0.3 ng/cm^2 content of a boron element as the attaching foreign materials.例文帳に追加

フィルム表面の付着異物として、鉄、クロム、ニッケルの３種類の元素含有量が合計で０．５ｎｇ／ｃｍ^２以下でかつホウ素元素が０．０００１〜０．３ｎｇ／ｃｍ^２である、芳香族テトラカルボン酸類と芳香族ジアミン類とを反応させて得られるポリイミドを主成分とするフィルム。 - 特許庁

The sputtering target has a composition which contains chromium as a main component and also contains 10 to 50 atomic % of at least one element selected from the group consisting of aluminum, silicon, titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, tungsten, molybdenum and boron and in which the total content of oxygen, carbon, sulfur and hydrogen is made to ≤3,000 ppm.例文帳に追加

クロムを主成分とし、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、タングステン、モリブデンおよびボロンからなる群より選択される少なくとも一種の元素を１０〜５０原子％含み、酸素、炭素、硫黄および水素の合計含有量が３０００ｐｐｍ以下であることを特徴とする、スパッタリングターゲット。 - 特許庁

The silver paste for a solar battery element contains a glass frit having composition of, in terms of oxides, zinc oxide of 5 wt.% or higher and 10 wt.% or lower, bismuth oxide of 70 wt.% or higher and 84 wt.% or lower, and boron oxide and silicon oxide in total of 6 wt.% or higher, silver powder, and an organic vehicle.例文帳に追加

酸化物換算で、酸化亜鉛が５重量％以上１０重量％以下、酸化ビスマスが７０重量％以上８４重量％以下、酸化ホウ素と酸化ケイ素とが合計で６重量％以上の組成を有するガラスフリットと、銀粉末と、有機ビヒクルと、を含有する太陽電池素子用銀ペーストとする。 - 特許庁

At least a part of a casting nozzle which is in contact with molten steel contains one or more kinds of magnesia, alumina, spinel, zirconia, mullite and silica as chief components and contains more than 50 wt.% in total and further contains 0.3-15 wt.% of boron nitride and refractories containing an organic binder.例文帳に追加

溶鋼と接する部分の少なくとも一部が、マグネシア、アルミナ、スピネル、ジルコニア、ムライト、シリカのうちのいずれか１種または２種以上の主成分を合量で５０重量％以上、および、チッ化ホウ素を０．３〜１５重量％、ならびに、有機バインダーの結合材を含有する耐火材からなることを特徴とする鋳造用ノズルを用いる。 - 特許庁

This ZnS-SiO_2 sputtering target of ≥90% in relative density is sintered by using the powder prepared by uniformly dispersing and mixing 1 to 50 mol% SiO_2 base glass powder contg. 0.01 to 20 wt.% in total ≥1 kind selected from metal elements, boron, phosphorus, arsenic and their oxides as additives and the balance ZnS powder.例文帳に追加

添加物として金属元素、硼素、燐、砒素又はこれらの酸化物から選択した１種以上を総量で０．０１〜２０ｗｔ％含有するＳｉＯ_２系ガラス粉末１〜５０ｍｏｌ％と残部ＺｎＳ粉末とを均一に分散混合した粉を使用して焼結したことを特徴とする相対密度９０％以上のＺｎＳ−ＳｉＯ_２スパッタリングターゲット。 - 特許庁

The aluminum foil for an low-tension anode for an electrolytic capacitor can be manufactured by using high-purity aluminum prepared by the segregation process and contains, by mass, 50-200 ppm, in total, of iron, silicon and copper, 0.2-3.0 ppm zirconium and 0.5-15.0 ppm boron.例文帳に追加

電解コンデンサ低圧陽極用アルミニウム箔は、偏析法によって得られた高純度アルミニウムを用いて製造されるものであり、鉄と珪素と銅とを合計量で５０質量ｐｐｍ以上２００質量ｐｐｍ以下、ジルコニウムを０．２質量ｐｐｍ以上３．０質量ｐｐｍ未満、ホウ素を０．５質量ｐｐｍ以上１５．０質量ｐｐｍ以下含む。 - 特許庁

In the method for manufacturing the silicon single crystal by a Czochralski method, the single crystal in which the whole surface of the crystal is the N region and/or I region is grown by doping boron and carbon so that the total concentration of the dopants in the crystal becomes within a range of ≥1×10^17 atoms/cc when the single crystal is grown.例文帳に追加

チョクラルスキー法によりシリコン単結晶を製造する方法において、単結晶を育成する際に、ボロン及び炭素を、単結晶中の濃度が合せて１×１０^１７ａｔｏｍｓ／ｃｃ以上の範囲となるようにドープして、結晶全面がＮ領域及び／又はＩ領域の単結晶を育成することを特徴とするシリコン単結晶の製造方法。 - 特許庁

(B) 15-60 wt.% at least one ceramic filler selected from the group consisting of aluminum oxide, magnesium oxide, silicon carbide, aluminum nitride, and boron nitride, and (C) 5-45 wt.% glass fiber and/or carbon fiber, provided that the amounts of the components are percentages by weight based on the total amount of the components (A) to (C).例文帳に追加

（Ａ）ポリブチレンテレフタレート、ポリアリーレンサルファイド、液晶ポリマー、シンジオタクチックポリスチレン及びポリフタルアミドからなる群から１以上選択される熱可塑性樹脂：２０〜６５重量％（Ｂ）酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭化ケイ素、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素からなる群から１以上選択されるセラミック系フィラー：１５〜６０重量％（Ｃ）ガラス繊維及び／又は炭素繊維：５〜４５重量％（前記各成分の配合量は、成分（Ａ）〜（Ｃ）の合計量に対する重量分率である） - 特許庁

The resin composite composition includes an epoxy resin, a curing agent, and an inorganic filler, wherein the epoxy resin is a polycyclic aromatic epoxy resin having biphenyl structure, anthracene structure, or naphthalene structure, the curing agent is an aromatic amine, and the inorganic filler includes conifer cone-like hexagonal boron nitride obtained when flaky primary particles are not oriented but aggregated and is 30-85 vol.% of the total resin composite composition.例文帳に追加

エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機フィラーを有する樹脂複合組成物であって、エポキシ樹脂がビフェニル構造或いはアントラセン構造或いはナフタレン構造である多環芳香族型エポキシ樹脂であり、硬化剤が芳香族アミンであり、無機フィラーが鱗片状の一次粒子が配向せずに集合してなる松ボックリ状の六方晶窒化ホウ素を含み、樹脂複合組成物全体の３０〜８５体積％である樹脂複合組成物。 - 特許庁