「WAVE FRONT ABERRATION」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wave front aberration correction mirror and an optical pickup in which influence of temperature on the flatness of a mirror is reduced.例文帳に追加

温度によるミラーの平面度への影響を少なくすることの可能な波面収差補正ミラーおよび光ピックアップを提供する。 - 特許庁

To accurately measure the wave front aberration of a light beam without being adversely affected by the change in surrounding environments such as a fluctuation in air.例文帳に追加

空気の揺らぎ等の周囲の環境の変動の悪影響を受けることなく光ビームの波面収差を正確に測定する。 - 特許庁

To provide an aspheric plastic lens capable of reducing an influence of wave front aberration and improving a beam profile, and to provide a molding die.例文帳に追加

波面収差の影響を低減でき、ビ−ムプロファイルを良化できる非球面プラスチックレンズと金型を提供する。 - 特許庁

To prevent the decline of flatness at the time of fixing a wave front aberration correction mirror and to improve the accuracy of positioning.例文帳に追加

波面収差補正ミラーの固定時における平面度の低下を防止し、また、位置決めの高精度化を図る。 - 特許庁

In addition, the wave front aberration in the condensed spot is set to be less than 0.14λ (0.07λ) in the ranges of upper and lower 60 (30)°C of a use reference temperature T_0.例文帳に追加

また、使用基準温度Ｔ_0の上下６０（３０）［℃］の範囲で、集光スポットにおける波面収差を、０．１４λ（０．０７λ）以下とする。 - 特許庁

The ±1st order diffracted light has a phase distribution equivalent to the wave front aberration of the optical disk 80 when there is a tilt in the optical 80.例文帳に追加

±１次回折光は、光ディスク８０にチルトがある場合の光ディスク８０の波面収差と等価な位相分布を有する。 - 特許庁

Thus, a condensing spot in which wave front aberration is suppressed to 0.01λms is formed in each standard.例文帳に追加

これにより、各規格において、波面収差を０．０１λｒｍｓに抑えた集光スポットを形成することができる。 - 特許庁

To provide a wave front aberration correction mirror with a structure which is easily deformed and which further maintains a more stable posture in order to be driven at a low voltage.例文帳に追加

低電圧で駆動させるために、変形しやすく、かつ、より一層安定な姿勢を維持できるような構造の波面収差補正ミラーを提供する。 - 特許庁

To provide a wave front aberration correcting mirror and an optical pickup capable of reducing influence on the flatness of a mirror by a temperature.例文帳に追加

温度によるミラーの平面度への影響を少なくすることの可能な波面収差補正ミラーおよび光ピックアップを提供する。 - 特許庁

Further, by changing the beam diffusion angle of the light beam from the light source 8 of the second optical disk 1b, the generation of a wave front aberration can be inhibited.例文帳に追加

さらに、第二の光ディスク１ｂの光源８からの光ビームのビーム拡散角度を変化させて波面収差の発生を抑止する。 - 特許庁

To measure wave front aberration characteristics of an optical system to be inspected with high precision without using an optical system for measurement which is large-sized and has high precision.例文帳に追加

大型で高精度な計測用の光学系を用いることなく、被検光学系の波面収差特性を高精度に計測する。 - 特許庁

To reduce the time required to compensate aberration to a high-resolution photographing level in a fundus image photographing apparatus with compensation optics, where aberration is generally corrected by feedback control using a wave front sensor and a wave front correction device.例文帳に追加

補償光学付き眼底撮像装置においては一般的に波面センサーと波面補正デバイスを用いたフィードバック制御により収差補正が行われるが、高分解能撮像レベルまでに収差を補正するまでの時間短縮が求められている。 - 特許庁

To obtain a wave front aberration measuring method and a projection aligner which can measure precisely the wave front aberration at a high speed for grasping imagery performance of a projection optical system which is changed by an exposing load and environmental change in the projection aligner.例文帳に追加

投影露光装置において、露光負荷や環境変化により変化する投影光学系の結像性能を把握する為、波面収差を精度良く、かつ、高速に計測することのできる波面収差測定方法及び投影露光装置を得ること。 - 特許庁

A measuring beam RL including an image of pin-hole PH of a test reticle Rt is controlled to be incident to the wave-front aberration measuring unit 75 to measure the wave- front aberration information of the projected optical system PL and this measuring beam RL is developed to various elements including the defocus element using the polynomial of Zernike.例文帳に追加

テストレチクルＲｔのピンホールＰＨの像を含む測定光ＲＬを波面収差測定ユニット７５に入射させ、投影光学系ＰＬの波面収差情報を測定するとともにツェルニケの多項式を用いてデフォーカス成分を含む種々の成分に展開する。 - 特許庁

To provide an optical pickup mounting a wave front aberration correcting element which can correct coma aberration and astigmatism, and an optical disk apparatus using the optical pickup.例文帳に追加

コマ収差、非点収差を補正可能な波面収差補正素子を搭載した光ピックアップ、ならびに該光ピックアップを用いた光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

The electrodes 4a and 5 and the piezoelectric layer 2a constitute an aberration- correcting driving means which changes the form of the reflection surface 1 to correct the wave front aberration caused by the tilt of an optical disk 11 or the like.例文帳に追加

電極４ａ、５と圧電層２ａとが、光ディスク１１の傾き等に起因する波面収差を補正するように反射面１の形状を変化させる収差補正用駆動手段を構成している。 - 特許庁

In the wave front aberration correction mirror for correcting aberration by displacing the mirror surface of a mirror substrate (6) by a piezoelectric material, a layer (21) for suppressing the deformation of the mirror substrate (6) by thermal expansion is provided.例文帳に追加

ミラー基板（６）のミラー面を圧電材料によって変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーにおいて、熱膨張によるミラー基板（６）の変形を抑制するための層（２１）が設けられている。 - 特許庁

To provide a pickup lens in which a state, where wave-front aberration is reduced, is guaranteed, and the aberration resulting from deviation of an optical axis of a condenser lens and the optical axis of an incident light beam does not occur.例文帳に追加

波面収差が低減された状態を保証し、集光レンズの光軸と入射光の光軸のずれに起因する収差が発生しないピックアップレンズを提供すること。 - 特許庁

To provide an adjusting method and adjusting device of an objective lens, which unitizes an objective lens and an optical element for wave front aberration so as to make high aberration correction, and also to provide a manufacturing method of an objective lens.例文帳に追加

対物レンズと波面収差用の光学素子とを高い収差補正が得られる状態でユニット化することの出来る対物レンズユニットの調整方法、調整装置ならびに対物レンズユニットの製造方法を提供する。 - 特許庁

A beam shaping lens 10 consists of an anamorphic single lens, and each lens 10 forms a wave front aberration independently of each other in the main scanning direction and subscanning direction so that the aberration generated by a rotating polygon mirror and a scanning lens may be compensated.例文帳に追加

ビーム整形レンズ１０はアナモフィックな単レンズよりなり、回転多面鏡及び走査レンズで発生する収差を補正するように、主走査方向と副走査方向とにおいて、各々独立して波面収差を形成する。 - 特許庁

A wavefront correcting system 1 finds the optical characteristics of an eye to be inspected by measuring the wave-front measurement data containing the wavefront aberration and/or aberration to be corrected of the eye to be inspected.例文帳に追加

波面補正系１は、被検眼の波面収差及び／又は補正される収差を含む波面測定データを測定し、被検眼の光学特性を求める。 - 特許庁

An arithmetic part obtains wave front aberration including low order and high order aberration of the eye to be examined, based on a light receiving signal obtained by receiving luminous flux irradiated to and reflected from the eye to be examined (S2105).例文帳に追加

演算部は、被検眼に照射し反射された光束を受光して得られた受光信号に基づき、被検眼の低次及び高次収差を含む波面収差を求める（Ｓ２１０５）。 - 特許庁

To excellently record/reproduce information by suppressing a wave front aberration (coma aberration or the like) caused by an inclination of an optical recording medium, thereby improving a spot shape on the recording surface of an optical recording medium in an optical pickup of an information recording/reproducing device.例文帳に追加

情報記録再生装置の光ピックアップにおいて、光記録媒体の傾きに起因する波面収差（コマ収差等）を抑制し、光記録媒体の記録面でのスポット形状を改善し、良好な記録・再生を実現する。 - 特許庁

To conduct support for carrying out precisely and efficiently eccentricity regulation and lens space regulation in an inspected optical system, by making constitution capable of measuring an eccentric comatic aberration and a transmission wave front aberration in the inspected optical system, by one device.例文帳に追加

被検光学系の偏心コマ収差及び透過波面収差を１台で測定可能な構成とし、被検光学系の偏心調整及びレンズ間隔調整を高精度かつ効率的に行うための支援を行うこと。 - 特許庁

To provide a small size wave-front aberration measuring apparatus which can mount easily a measuring apparatus to an exposing apparatus and can quickly measure with higher accuracy the aberration of the optical system to be detected, a method of measuring such aberration, an exposing apparatus which can manufacture devices with higher accuracy and excellent productivity, and a method of manufacturing devices.例文帳に追加

露光装置への測定装置の装着が容易で、被検光学系の収差を迅速かつ高精度に測定可能な小型の波面収差測定装置及び方法、デバイス等を高精度にかつ生産性よく製造可能な露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wave front evaluation method applicable to various optical systems easily with a simple system, to evaluate quantitatively the flatness of a wave front, and to correct aberration in a microscope easily and surely.例文帳に追加

簡単なシステムで、容易に様々な光学系に適用することができ、波面の平坦度を定量的に評価して、容易かつ確実に顕微鏡における収差の補正を行う。 - 特許庁

The reflected beams are analyzed to identify any deformed wave front indicating that retina correction is needed and any induced wave front indicating that aberration has been induced by bubbles made at the time of delamination of tissues.例文帳に追加

反射したビームは分析されて、必要な角膜修正を表す変形された波面と、組織の剥離時に形成された気泡により光収差が誘起されたことを表す誘起された波面とを同定する。 - 特許庁

The optical pickup is provided with a laser light source irradiating an optical disk with a light beam, an objective lens converging the light beam emitted from the laser light source to the optical disk, a first lens correcting astigmatism being wave front aberration of the light beam, a second lens correcting coma aberration being wave front aberration of the light beam, and a photodetector receiving the light beam reflected from the optical disk.例文帳に追加

本発明に係る光ピックアップは、光ディスクに光ビームを照射するレーザ光源と、レーザ光源から照射された光ビームを光ディスクに集光する対物レンズと、光ビームの波面収差である非点収差を補正する第１のレンズと、光ビームの波面収差であるコマ収差を補正する第２のレンズと、光ディスクから反射された光ビームを受光する光検出器と、を備える。 - 特許庁

To appropriately correct wave front aberration caused in an optical system by a liquid crystal element without being affected by a quarter wave plate disposed on an optical path from a light source via a recording medium to a light detector.例文帳に追加

光源から記録媒体を経て光検出器に到る光路上に配置される１／４波長板の影響を受けることなく、光学系に生じる波面収差を液晶素子によって適正に補正する。 - 特許庁

A first region on the optical path of the first optical system 2 of the liquid crystal element 40 is used instead of a 1/4 wavelength plate, a second region on the light path of the second optical system 3 of the liquid crystal element 40 is used as an aberration correction region for correcting wave front aberration.例文帳に追加

液晶素子４０の第１光学系２の光路上にある第１領域は、１／４波長板の代わりとして使用され、液晶素子４０の第２光学系３の光路上にある第２領域は、波面収差を補正する収差補正領域として使用される。 - 特許庁

In the wave front aberration correction mirror for correcting aberration by displacing the mirror surface of a mirror substrate 6 by using a piezoelectric material, an adhesive layer 21 of such a thickness that a mirror side electrode 4a and a piezoelectric material side electrode 4 are not brought into direct contact is provided.例文帳に追加

ミラー基板６のミラー面を圧電材を使用して変位させることにより収差補正する波面収差補正ミラーにおいて、ミラー側電極４ａと圧電材側電極４とが直接接触しない程度の厚さの接着層２１が設けられている。 - 特許庁

Though wave front aberration by the difference of the thickness of the substrates 2 and 3 of the DVD and the CD is generated, it is offset by the generation of color aberration by the difference of the wavelengths of the light beams 4 and 5 and the light is excellently converged on the respective information recording surfaces 2a and 3a even when the thickness of the transparent substrate is different.例文帳に追加

ＤＶＤとＣＤとの基板２，３の厚さの違いによる波面収差が発生するが、光ビーム４，５の波長の違いによる色収差の発生によってこれが相殺され、透明基板の厚さに違いがあっても、夫々の情報記録面２ａ，３ａに良好に集光することになる。 - 特許庁

To provide a small wave front aberration measurement apparatus that can be easily mounted on an exposure system and can quickly and highly accurately measure aberration in an optical system to be inspected, and the exposure system and a device manufacturing method that can improve exposure accuracy and highly accurately and productively manufacture a device.例文帳に追加

露光装置への装着が容易で、被検光学系の収差を迅速、高精度に計測可能な小型の波面収差測定装置、及び、露光精度を向上できて、デバイス等を高精度にかつ生産性よく製造可能な露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The wave front correcting mirror 10 comprises a reflection surface 1, a silicone substrate 6, an insulating layer 7, a flatness-correcting electrode 4b, a flatness-correcting piezoelectric layer 2b, a common electrode 4a, an aberration-correcting piezoelectric layer 2a and an aberration-correcting electrode 5, which are all laminated in this order.例文帳に追加

波面補正ミラー１０は、反射面１、シリコン基板６、絶縁層７、平面補正用電極４ｂ、平面補正用圧電層２ｂ、共通電極４ａ、収差補正用圧電層２ａ、収差補正用電極５が順に積層されて構成されている。 - 特許庁

The blue ray compatible objective lens 108 designed with a satisfied aberration property is used for the blue ray optical recording medium, and a DVD system optical path is constituted of a finite system for correcting the wave front aberration caused on the DVD system optical recording medium by infinite system light incidence.例文帳に追加

青色光記録媒体に対し良好な収差特性で設計の青色対物レンズ１０８を用い、ＤＶＤ系光記録媒体に無限系入射により発生する波面収差を補正するために、ＤＶＤ系光路は有限系で構成する。 - 特許庁

Wave front aberration by difference of thickness of the substrates 2, 3 of the DVD and the CD is caused, but this is canceled by occurrence of color aberration caused by difference of wavelength of light beams 4, 5, even if thickness of transparent substrates is different, the light beam is converged good on respective information recording planes 2a, 3a.例文帳に追加

ＤＶＤとＣＤとの基板２，３の厚さの違いによる波面収差が発生するが、光ビーム４、５の波長の違いによる色収差の発生によってこれが相殺され、透明基板の厚さに違いがあっても、夫々の情報記録面２ａ、３ａに良好に集光することになる。 - 特許庁

To prevent decrease in the speed of response of the liquid crystal panel at low temperatures compared with the rate at normal temperature in an optical head which corrects the aberration of the wave front aberration caused by the tilt angle of an optical disk or the like by using a liquid crystal panel to add a phase to the transmitted light.例文帳に追加

液晶パネルを利用して透過光に位相を与えることにより、光ディスクのチルト角等で発生する波面収差を補正する光ヘッドにおいて、低温時に液晶パネルの応答速度が常温時と比べて低下するのを防止する。 - 特許庁

To provide an optical scanning device which is large in latent comatic aberration and selectively corrects the wave front aberration of an intermediate image height disadvantageous to disturbance (a shape error or fitting error of an optical element), to provide an optical writing device, and to provide an image forming apparatus with the optical scanning device and optical writing device.例文帳に追加

潜在的コマ収差が大きく、外乱（光学素子の形状誤差・取り付け誤差）に対して不利な中間像高の波面収差を選択的に補正する光走査装置、光書込装置、及びその光走査装置と光書込装置を備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a model eye for an ocular characteristic measuring instrument which has various aberration and/or power characteristics by combining a refraction lens and a phase plate for adding aberration and is available for confirming the accuracy of the ocular characteristic measuring instrument in the case of wave front measurement or the like, and a correction method therefor.例文帳に追加

屈折型レンズと収差を付加するための位相板を組み合わせることにより様々な収差及び／又はパワーの特性を有し、波面測定等の眼特性測定装置の精度確認として使用できる、眼特性測定装置用模型眼及びその校正方法を提供する。 - 特許庁

The optical pickup device is provided with a focus error detection circuit connected to the first light receiving part and detecting the focus error of the light beam on the basis of photoelectric conversion output from it and a wave front aberration error detection circuit connected to the second light receiving part and detecting the wave front aberration of the light beam on the basis of the photoelectric conversion output from it.例文帳に追加

光ピックアップ装置は、第１受光部に接続されかつこれからの光電変換出力に基づいて光ビームの焦点誤差を検出する焦点誤差検出回路と、第２受光部に接続されかつこれからの光電変換出力に基づいて光ビームの波面収差を検出する波面収差誤差検出回路と、を備える。 - 特許庁

When calibration of wave front aberration measuring equipment is performed, calibration pinhole pattern images PHI' are formed in a plurality of different regions of a measurement opening 46 and each calibration pinhole pattern image PHI' is received by the CCD of a wave front sensor.例文帳に追加

波面収差測定装置の較正を行う際に、測定用開口４６の複数の異なる領域に較正用ピンホールパターン像ＰＨＩ’を結像させ、各較正用ピンホールパターン像ＰＨＩ’を波面センサのＣＣＤで受光する。 - 特許庁

Therefore, optical planes of the half wavelength plate 17 and the quarter wavelength plate 18 are laminated through a gap 22, wave front aberration in the wide band quarter wavelength plate 20 is dissolved.例文帳に追加

従って、１／２波長板１７と１／４波長板１８の光学面は、ギャップ２２を介して積層することになり、広帯域１／４波長板２０における波面収差は解消される。 - 特許庁

To effectively correct degradation in scanning line deflection and wave front aberration in an optical scanner of an oblique incidence system suitable for low cost, low power consumption and downsizing.例文帳に追加

低コスト，低消費電力，小型化に適した斜入射方式の光走査装置における走査線曲がりと波面収差の劣化を有効に補正する。 - 特許庁

To provide an objective lens which is small-sized and can suppress a wave front aberration within a use wavelength range and reduce a focus position shift due to wavelength variation of light, and an optical pickup unit.例文帳に追加

小型のレンズにおいて、使用波長範囲での波面収差を小さく抑えられ、かつ、光の波長変動による焦点位置ズレを小さくできる対物レンズ及び光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁

Moreover, the wave front recorded in the hologram 330 includes aberration compensation constituting parts and the about 780 nm laser beams converged on a CD substrate are made into a perfect or at least a limited diffraction.例文帳に追加

また、ホログラムに記録された波面は収差補正構成部品を含み、ＣＤ基板に集束された７８０ｎｍのレーザビームはほぼ完全または少なくとも限定された回折となるようになっている。 - 特許庁