「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

It is decided whether the pattern is the alignment pattern or not, when it is found that the pattern is the alignment pattern, a step S17 is selected, and the alignment pattern is replaced with the predetermined split alignment pattern.例文帳に追加

パターンが位置合わせ用パターンであるかどうかを判断し、位置合わせ用パターンであるとすると、ステップＳ17に移行して、予め定められた分割済みの位置合わせ用パターンに置き換える。 - 特許庁

HARD DISK MEDIA WITH PATTERN FOR ALIGNMENT, AND ALIGNMENT METHOD例文帳に追加

アライメント用パターンを備えたハードディスクメディアおよびアライメント方法 - 特許庁

ALIGNMENT MARK, ALIGNMENT MARK FORMATION METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

アライメントマーク、アライメントマーク形成方法及びパターン形成方法 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN FORMING METHOD OF EPITAXIAL WAFER例文帳に追加

エピタキシャルウエハのアライメントパターン形成方法 - 特許庁

In an alignment system, an alignment reticle pattern is subjected to image formation on a wafer which contains alignment marks.例文帳に追加

アライメント装置は、アライメントレチクルパターンを、アライメントマークを含むウェファ上に結像させる。 - 特許庁

To form a pattern with high alignment accuracy.例文帳に追加

高いアライメント精度でパターンを形成する。 - 特許庁

The alignment pattern 11 is a pattern for carrying out the alignment with the second layer 40.例文帳に追加

位置合わせパターン１１は、第２層４０との位置あわせが行われるためのパターンである。 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN FORMING METHOD AND MASK ALIGNMENT PRECISION MEASURING METHOD例文帳に追加

アライメントパタ—ンの形成方法及びマスクとの合わせ精度測定方法 - 特許庁

METHOD FOR DECIDING LIGHT RECEIVING WIDTH FOR ALIGNMENT PATTERN DETECTING SENSOR, ALIGNMENT PATTERN DETECTING SENSOR, METHOD FOR FORMING ALIGNMENT PATTERN AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

位置合わせパターン検知センサの受光幅決定方法・位置合わせパターン検知センサ・位置合わせパターンの形成方法・画像形成装置 - 特許庁

PATTERN ALIGNMENT DEVIATION MEASUREMENT METHOD AND PROGRAM例文帳に追加

パターン合わせずれ計測方法およびプログラム - 特許庁

PATTERN ALIGNMENT METHOD, AND PATTERN INSPECTING DEVICE AND SYSTEM例文帳に追加

パターン位置合わせ方法、パターン検査装置及びパターン検査システム - 特許庁

The space pattern 2S of the second alignment mark 2 is a reversal pattern of the line pattern 1L of the first alignment mark 1.例文帳に追加

第２アライメントマーク２のスペースパターン２Ｓは、第１アライメントマーク１のラインパターン１Ｌの反転パターンとなっている。 - 特許庁

An alignment charge recording layer pattern is arranged on the alignment key region.例文帳に追加

前記アライメントキー領域上にアラインメント電荷記録層パターンが配置される。 - 特許庁

Alignment is conducted to attain matching between the reference coordinates of alignment for alignment pattern and the center coordinates of the target pattern (S16), to thereby detect the target pattern (S17).例文帳に追加

そのアライメント・パターンのアライメント基準座標と、ターゲット・パターンの中心座標とが一致するように位置合わせし（S16）、ターゲット・パターンを検出する（S17）。 - 特許庁

Then, information indicating that the circuit pattern is an alignment pattern is added to the circuit pattern (S14).例文帳に追加

次に、それが位置合わせ用パターンであることを識別する情報を付加する（Ｓ14）。 - 特許庁

SPLICING PATTERN ANALYSIS METHOD OF BIOPOLYMER ALIGNMENT例文帳に追加

生体高分子配列のスプライシングパターン解析方法 - 特許庁

The first layer 30 includes an alignment pattern 11.例文帳に追加

第１層３０は、位置合わせパターン１１を含む。 - 特許庁

The pattern region (BD) functions as an alignment mark.例文帳に追加

パターン領域（ＢＤ）はアライメントマークとして機能する。 - 特許庁

MEMS BUMP PATTERN DIE ALIGNMENT SYSTEMS AND METHOD例文帳に追加

ＭＥＭＳバンプパターンダイ位置合わせシステムおよび方法 - 特許庁

PATTERN INSPECTION DEVICE, IMAGE ALIGNMENT METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

パターン検査装置、画像位置合わせ方法及びプログラム - 特許庁

LONG PATTERN ALIGNMENT FILM AND LONG PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM USING THE SAME例文帳に追加

長尺パターン配向膜およびそれを用いた長尺パターン位相差フィルム - 特許庁

PATTERN TRANSFER DEVICE, IMPRINT DEVICE, PATTERN TRANSFER METHOD, AND ALIGNMENT METHOD例文帳に追加

パターン転写装置、インプリント装置、パターン転写方法および位置合わせ方法 - 特許庁

PHOTOMASK FOR CRYSTAL SURFACE ALIGNMENT AND PATTERN DRAWING DEVICE例文帳に追加

結晶面アライメント用ホトマスクおよびパターン描画装置 - 特許庁

Trenches 14 for the alignment pattern have corner portions 23 at ends of the linear portions 13 of the alignment pattern 7A.例文帳に追加

アライメントパターン用トレンチ１４は、アライメントパターン７Ａの直線部１３の端部において、角部２３を有している。 - 特許庁

A thin film pattern for alignment is formed on a substrate 2.例文帳に追加

基板２にアライメント用の薄膜パターンを形成する。 - 特許庁

Radiation is transmitted toward the alignment mark and diffracted by a pattern in the alignment mark.例文帳に追加

放射がアライメントマークに向かって伝送され、アライメントマーク内のパターンによって回折される。 - 特許庁

ALIGNMENT METHOD, DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, MASK, DEVICE MANUFACTURING METHOD, ALIGNMENT DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

アライメント方法、マスクパターンの設計方法、マスク、デバイス製造方法、アライメント装置、露光装置 - 特許庁

PATTERN CENTER DETERMINATION DEVICE, PATTERN DIRECTION DETERMINATION DEVICE, PATTERN ALIGNMENT DEVICE AND PATTERN COMPARISON DEVICE例文帳に追加

紋様中心決定装置および紋様方向決定装置並びに紋様位置合わせ装置および紋様照合装置 - 特許庁

An alignment pattern consisting of a trench groove 21 is formed in an alignment mark formation region A1 and a light transmitting film material 3a is formed covering the alignment pattern.例文帳に追加

アライメントマーク形成領域Ａ１にトレンチ溝２１からなるアライメントパターンを形成し、該アライメントパターンを覆う態様で透光性の膜材３ａを成膜する。 - 特許庁

An alignment pattern and a TEG pattern, which are used in a photolithography process, are formed in the alignment pattern forming regions 23 of the scribing regions 10.例文帳に追加

スクライブ領域１０のアライメントパターン形成領域２３にはフォトリソグラフィ工程で使用されるアライメントパターンやＴＥＧパターンが形成される。 - 特許庁

Finally, an alignment mark pattern is formed in the metallic wiring layer.例文帳に追加

最後にアライメントマーク パターンがメタル配線層に形成される。 - 特許庁

POSITION CORRECTING METHOD FOR ALIGNMENT SENSOR, REFERENCE PATTERN CORRECTING METHOD, EXPOSURE POSITION CORRECTING METHOD, PATTERN FOR CORRECTION, AND ALIGNMENT DEVICE例文帳に追加

アライメントセンサの位置校正方法、基準パターン校正方法、露光位置補正方法、校正用パターン及びアライメント装置 - 特許庁

An alignment device performs alignment by a pattern formed before a current step to align the pattern of the current step in pattern exposure.例文帳に追加

位置合わせ装置は、パターン露光における現行工程のパターンの位置合わせを現行工程よりも前に形成されたパターンを用いて位置合わせを行う。 - 特許庁

PATTERN FORMING APPARATUS, ALIGNMENT APPARATUS, SUBSTRATE HANDLING APPARATUS, PATTERN FORMATION METHOD, AND SUBSTRATE HANDLING METHOD例文帳に追加

パターン形成装置、アライメント装置、基板処理装置、パターン形成方法、基板処理方法 - 特許庁

Visible light and infrared light after entering a first alignment pattern and a second alignment pattern are focused on a detector by a focusing device and an object is aligned for the following feature pattern based on the detected first alignment pattern and second alignment pattern.例文帳に追加

フォーカシング装置により第１のアライメントパターンおよび第２のアライメントパターンへ入射した後の可視光および赤外光が検出器へフォーカシングされ、検出された第１のアライメントパターンおよび第２のアライメントパターンに基づき後続のフィーチャパターンに対してオブジェクトがアライメントされる。 - 特許庁

ALIGNMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, PATTERN FORMING METHOD AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

アライメント方法、露光方法、パターン形成方法および露光装置 - 特許庁

ALIGNMENT MARK STRUCTURE HAVING PROTECTIVE DUMMY PATTERN FOR PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加

保護ダミ—パタ—ンを有する半導体製造用アライメントマ—ク構造 - 特許庁

To achieve highly accurate alignment not only for direct alignment but also for indirect alignment among a plurality of pattern layers to be laminated.例文帳に追加

積層される複数のパターンレイヤ間で、直接合わせのみならず、間接合わせに対しても高精度の位置合わせを可能にする。 - 特許庁

An optical anisotropic layer 105 showing a birefringent effect is provided on an alignment layer having alignment regions with different alignment directions in a lattice pattern.例文帳に追加

格子状に異なる方向の配向領域を有する配向層上に複屈折効果を示す光学異方性層１０５を設ける。 - 特許庁

A plurality of alignment marks 4R for the coloring pattern of R, a plurality of alignment marks 4G for the coloring pattern of G, and a plurality of alignment marks 4B for the coloring pattern B are disposed on a mask 2 at different intervals for each coloring pattern.例文帳に追加

マスク２に、Ｒの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用の複数のアライメントマーク４Ｂを、着色パターン毎に異なる間隔で設ける。 - 特許庁

MASK, METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN, METHOD FOR MEASURING ALIGNMENT ACCURACY, AND APPARATUS例文帳に追加

マスク、パターンの転写方法、アライメント精度測定方法、および装置 - 特許庁

ALIGNMENT PATTERN, METHOD FOR FORMING IT AND IMAGE FORMING APPARATUS例文帳に追加

位置合わせパターンの形成方法・位置合わせパターン・画像形成装置 - 特許庁

Pattern arrangement of an alignment layer of an array substrate and a panel substrate are set.例文帳に追加

アレイ基板やパネル基板の配向膜のパターン配置を設定した。 - 特許庁

SELF ALIGNMENT MULTIPLE PATTERN FORMATION FOR ADVANCED MICROSCOPIC SIZE CONTACT例文帳に追加

高度な微小寸法コンタクトのための自己整合多重パターン形成 - 特許庁

To prevent wrong alignment of a mask and a substrate, using an alignment mark for a different coloring pattern.例文帳に追加

異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うのを防止する。 - 特許庁