「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain an optical semiconductor device having an electrode pad surface, whose size makes improvement of light leading-out efficiency and high efficiency of a bonding process compatible with each other, without causing troubles in that a P-N junction is shorted by alignment deviation when an electrode pattern is formed, and a manufacturing method of the device.例文帳に追加

電極パターン形成時のアラインメントずれによりＰＮ接合間がショートされるといったトラブルを起こさず、光取出効率の向上とボンディング工程の効率化を両立させる大きさの電極パッド面を持つ光半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fringe field switching liquid crystal display in which alignment distortion of a liquid crystal is improved and a rubbing mark in the edge of a pixel electrode or generation of a boundary line can be prevented by changing a curved pattern of the edge of the pixel electrode into a straight line.例文帳に追加

画素電極のエッジ部を曲線形状から直線形状に変更することにより、液晶の配向歪みを改善し、画素電極のエッジ部に発生するラビングの跡、境界線の発生を防止することができるフリンジフィールドスイッチング液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

Besides as the ultraviolet rays of ≤180 nm wavelength hardly pass through a transparent electrically conductive oxide such as ITO, the rays can be used to remove a polyimide alignment layer, with a defect such as defective printing, on a color filter substrate on a dyestuff part surface of which an ITO transparent electrode pattern is formed.例文帳に追加

また、１８０ｎｍ以下の紫外線は、ＩＴＯなどの透明導電酸化物をほとんど透過しないので、色素部の表面にＩＴＯの透明電極パターンが形成されたカラーフィルター基板上の、印刷不良などの欠陥のあるポリイミド配向膜を除去するのに用いることができる。 - 特許庁

In the color filter substrate W, alignment between a manufactured TFT substrate Wt and a reference mask Ms is performed, a correction amount is calculated based on detected measurement data, exposure is performed in accordance with the correction amount and, therefore, the exposure is performed on the basis of the pattern precision of the manufactured TFT substrate Wt.例文帳に追加

カラーフィルタ基板Ｗは、製造したＴＦＴ基板Ｗｔと基準マスクＭｓとのアライメントを行なって、検出した測定データを元に補正量を算出し、この補正量に基づいて露光されるので、製造したＴＦＴ基板Ｗｔのパターンの精度に基づいて露光される。 - 特許庁

The aligner has a reticle stage RST which is disposed on one side of a projection optical system 13, holds a reticle R having a transfer pattern and is equipped with an alignment reference plate SP, and a wafer stage WST equipped with a reference mark FM on the other side.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系１３の一方の側に配置され、転写パターンを有するレチクルＲを保持するとともに位置合わせ用の基準プレートＳＰを具備したレチクルステージＲＳＴと、他方の側に基準マークＦＭを具備したウエハステージＷＳＴを有する。 - 特許庁

In a box mark area or an alignment mark area, a range from a trench 2 to an active area is etched to form a dummy pattern 7 around the trench 2 and CMP is applied to an insulating film 3 to form a step 8 within the trench 2 where the insulating film 3 is to be buried.例文帳に追加

ボックスマーク領域あるいはアライメントマーク領域において、トレンチ２からアクティブ領域にかかる範囲をエッチングすることにより、トレンチ２の周囲にダミーパターン７を形成し、絶縁膜３のＣＭＰを行うことにより、絶縁膜３が埋め込まれるトレンチ２内に段差８を形成する。 - 特許庁

This position detecting mark 1, which is used in common at each rotating position and whose position is detected, is used in order to perform alignment at each rotating position of the base plate, when the image of rotation symmetry is formed on the base plate by the successive exposure of the same pattern, while the base plate is rotated at a prescribed angle.例文帳に追加

基板を所定角度回転させながら同一パターンを順次露光して回転対称の像を前記基板上に形成する際に、前記基板の各回転位置におけるアライメントのために、各回転位置で共通に使用され、位置が検出される位置検出マーク１を用いる。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern of a semiconductor device in which a smaller photomask pattern stage can be achieved by performing an etching stage for photomask patterns using photosensitive film patterns as an etch-stop layer after forming the photosensitive film patterns between the photomask patterns by using a self-alignment system using negative photoresist and then performing a heat treatment stage for expanding the photoresist film patterns.例文帳に追加

本発明は、ネガ型フォトレジスト(Negative Type Photo Resist)を用いた自己整列方式を利用してフォトマスクパターンの間に感光膜パターンを形成し、感光膜パターンを拡大するための熱処理工程を行った後、感光膜パターンをエッチング防止膜として用いてフォトマスクパターンに対してエッチング工程を行うことにより、さらに微細なフォトマスクパターン工程が可能な半導体素子のパターン形成方法を提供するものである。 - 特許庁

Subsequently an interlayer insulating film and a spacer insulating film 117 formed on the entire surface are patterned, and self-alignment contact holes, making the semiconductor substrate 101 between the gate electrodes 107a expose, are formed, and spacers 117a are formed in the side wall of the gate electrodes 107a and the etching protecting film pattern 109a.例文帳に追加

その後全面に形成された層間絶縁膜及びスペーサ絶縁膜１１７をパターニングし、ゲート電極１０７ａの間の半導体基板１０１を露出させる自己整列コンタクトホールを形成し、ゲート電極１０７ａ及びエッチング阻止膜パターン１０９ａの側壁にスペーサ１１７ｓを形成する。 - 特許庁

The semiconductor circuit comprising a substantially transparent thin film transistor and lines constituted by a substantially transparent conductive material having an electrical contact which conducts electricity to the thin film transistor is disposed on the surface of the color filter facing the side opposite to the substrate 3 while performing alignment with a filter array pattern.例文帳に追加

前記カラーフィルターが基材３の反対側に臨む面に、実質的に透明な薄膜トランジスタと前記薄膜トランジスタに導通される電気的接点を有する実質的に透明な導電材料によって構成される配線とを有する半導体回路を、前記フィルター配列パターンと位置合わせを行って設けた。 - 特許庁

When successively transferring the pattern of a mask R on those partition regions on the substrate via a projection optical system PL, by making accurate alignment of the partition regions on the substrate with the image surface of the projection optical system, based on the measurement results, defective exposures caused by defocusing can be prevented.例文帳に追加

従って、基板上の複数の区画領域に投影光学系ＰＬを介してマスクＲのパターンを順次転写する際に、前記計測結果に基づいて、基板上の区画領域を投影光学系の像面に精度良く位置合わせすることにより、デフォーカスに起因する露光不良の発生を防止することができる。 - 特許庁

The surface of an object to be inspected having wiring formed thereon is photographed by an electronic camera, a wiring pattern included in the photographed image is detected, wiring images inclined to alignment of pixels out of the detected wiring patterns are extracted, and the presence or absence of defects of the extracted wiring images is determined.例文帳に追加

表面に配線が形成された検査対象物の表面を電子カメラで撮像し、その撮像した画像に含まれる配線パターンを検出し、検出した配線パターンのうち画素の配列に対して傾斜した配線像を抽出し、その抽出した配線像の欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

This hollow cylindrical printing base material is a cylindrical laminate comprising a photosensitive resin cured matter layer with uneven pattern formed on the surface thereof on a hollow cylindrical support, wherein at least one through hole or recess for the alignment is formed on the hollow cylindrical support.例文帳に追加

中空円筒状支持体上に、表面に凹凸パターンを有する感光性樹脂硬化物層が形成された円筒状積層体であって、前記中空円筒状支持体に位置合わせ用の貫通孔あるいは凹部が少なくとも１箇所に形成されていることを特徴とする中空円筒状印刷基材。 - 特許庁

If, in the case of insertion of the divider between a plurality of sets, the non-image region exists in the divider in a job where the sets exist, a test pattern relating to image quality correction, such as image adjustment and alignment, is generated/outputted by using the non-image region (S30), but the transfer to the output paper is prohibited (S32).例文帳に追加

複数のセットが存在するジョブにおいて、セット間に仕切紙を挿入する場合において、その仕切紙に無画像領域が存在する場合には、無画像領域を利用して、画像調整や位置合せなどの画質補正に関わるテストパターンを生成・出力する（Ｓ３０）が、出力用紙への転写を禁止する（Ｓ３２）。 - 特許庁

A method for manufacturing a liquid crystal display device includes collectively producing a plurality of liquid crystal panels, by using a large transparent substrate on which a plurality of liquid crystal panels are laid out; the method includes applying by printing an alignment film 6 on the large transparent substrate, by using a flexographic printing plate 10, having an uneven pattern 11 provided in stripes over the plurality of display areas 12.例文帳に追加

複数の液晶パネルがレイアウトされた大判の透明基板を用いて、複数の液晶パネルを一括して作製する製造方法で、複数の表示エリア１２に亘って帯状に設けられた凹凸パターン１１を持つフレキソ印刷版１０によって大判の透明基板上に配向膜６を印刷塗布する。 - 特許庁

The multi-core cable connector 1 comprises a cable fixing member 2, an assembled cable housed in the cable fixing member 2, an alignment plate 4 to align signal lines 312 included in the assembled cable 3, and a substrate 5 on which a wiring pattern 53 that is conducted and connected to the signal lines 312 of the assembled cable 3 is formed.例文帳に追加

多芯ケーブルコネクタ１は、ケーブル固定部材２と、ケーブル固定部材２内に収容される集合ケーブル３と、集合ケーブル３が含む信号線３１２を整列させる整列板４と、集合ケーブル３の信号線３１２と導通接続される配線パターン５３が形成された基板５とを有する。 - 特許庁

To enhance uniformity of film thickness distribution on a plurality of substrate faces in a vacuum vapor-deposition method in which an organic electroluminescent element is fabricated by using a mask for vapor-depositing the substrate and pixel pattern, and using a mask holder and a vapor deposition source provided with alignment mechanism in order to carry out positioning of the substrates and the masks.例文帳に追加

基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。 - 特許庁

This machining method for the encoder glass disk is so formed that the glass pane 1 sticking with an ultraviolet hardening tape 10 is mounted on an absorbing stand 12, the mechanical coordinates of the disk pattern 2 are determined by reading the alignment marks 11 on the glass pane 1 by a CCD camera 15, and the edge 17 of the coring grinding wheel cuts it to provide the glass disk.例文帳に追加

本発明によるエンコーダ用ガラスディスクの加工方法は、紫外線硬化テープ(10)を貼着したガラス板(1)を吸着台(12)上に載置し、ガラス板(1)のアライメントマーク(11)をＣＣＤカメラ(15)で読み取ってディスクパターン(2)の機械座標を決定し、コアリング用砥石(16)の刃(17)が切断してガラスディスクを得る方法である。 - 特許庁

In the imprint method for imprinting a pattern formed on a mold onto a resin, a wavelength of light incident on an imaging device is controlled in accordance with a gap between the mold and the substrate when an alignment mark provided on the mold is imaged by the imaging device.例文帳に追加

本発明の第１の側面は、モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、インプリント方法である。 - 特許庁

A multilayer SOI substrate having an amorphous or polycrystal semiconductor layer formed beneath an SOI layer through a gate insulation film is employed, the semiconductor layer is implanted with ions in a pattern reverse to that of an upper gate electrode, and a buried gate is formed in self- alignment with the upper gate.例文帳に追加

ＳＯＩ層下部に埋め込みゲート絶縁膜を介して構成された非晶質又は多結晶である半導体層を有する多層ＳＯＩ基板を用い、上部ゲート電極の逆パターンで上記半導体層にイオン注入を施し、埋め込みゲートを上部ゲートと自己整合の関係で構成することを特徴とする。 - 特許庁

In a first implantation mask pattern 9a, a first impurity region 11a whose impurity concentration is higher than that of a second impurity region to be formed later is formed, by using a third implantation mask 101 having a recessed part region 106 whose quantity is equivalent to alignment precision, and the silicide film is formed on a gate electrode.例文帳に追加

第１の注入マスクパターン９ａにおいて、位置合わせ精度に相当する量分の凹部領域１０６を有する第３の注入マスク１０１を用いて、後に形成される第２の不純物領域の濃度よりも高い第１の不純物領域１１ａを形成し、ゲート電極上にシリサイド化膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method for measuring the alignment of a photolithographic step capable of correcting the error range of a pattern image to be transferred to the contraction and the expansion of the image, by measuring the aligning state to each short region on a wafer so as to be more effective and reliable.例文帳に追加

ウェハ上の各ショート領域に対するアライン状態を計測し、これをもとにアラインを補正することにより、転写されるパターンイメージの収縮膨張に対する誤差範囲をより効果的且つ信頼性のあるように補正することができるフォトリソグラフィー工程のアライン計測方法を提供する。 - 特許庁

Each patch is constituted of a plurality of lines formed by putting line images Bk in black being a reference color and line images C in a color other than the reference color, for example, cyan, one over the other, and an alignment pattern Pm is constituted by continuously forming patches of which the relative positional relations between line images in two colors are shifted from one another by an arbitrary amount.例文帳に追加

位置合わせパターンＰｍは、基準色である黒のライン像Ｂｋと該基準色以外の色、例えばシアンのライン像Ｃとを重ねて形成された複数ラインを１つのパッチとし、２色のライン像の相対的位置関係を任意量ずつずらしたパッチを連続的に形成して構成されている。 - 特許庁

When a plurality of sectioned regions on a wafer are exposed by the step-and-scan system, a processing for enhancing the precision of alignment between a pattern and an object is performed based on the measurements of the encoder systems for every exposure start point where the measurement error of the encoder system caused by acceleration of the wafer stage WST is reduced.例文帳に追加

すなわち、ウエハ上の複数の区画領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する際に、ウエハステージＷＳＴ体の加速度に起因するエンコーダシステムの計測誤差が小さくなる露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいてパターンと物体との位置合わせ精度を向上させるための処理が行なわれる。 - 特許庁

The light shielding pattern is formed on the flat surface of the lens sheet by self-alignment method which is provided with a stage for forming a photosensitive curing type resin layer (1st layer) including a colorant, a photosensitive curing type resin layer (2nd layer) the content of the colorant of which is smaller than that in the 1st layer, and light transmissive base material in this order.例文帳に追加

レンズシートの平坦な表面に、着色剤を含む感光性硬化型樹脂層（第１層）および着色剤の含有量が第１層よりも少ない感光性硬化型樹脂層（第２層），および透光性基材を、この順に形成する工程を具備するセルフアライメント手法によって遮光パターンを形成する。 - 特許庁

The apparatus comprises a sensor system for detecting the intensity distribution of the projection radiation pattern and an alignment system, capable of controlling such that the position and/or orientation of at least one of the array of plural elements, the components of the projection system, and the illumination system is adjusted on the basis of the detection result.例文帳に追加

装置は、投影放射パターンの強度分布を検出するセンサ・システム備え、その検出結果に基づいて複数のエレメントのアレイ、投影システムの構成要素及び照明システムのうちの少なくとも１つの位置及び／又は配向が調整されるように制御することができる位置決めシステムとを備える。 - 特許庁

To prevent the position of a via contact from deviating with repeat to metal wiring, even if deviation of alignment occurs in a mask pattern for forming a via hole in the case of designing the wiring width of the metal wiring and the diameter of the via hole which is connected with the upper surface of that metal wiring into the same dimension.例文帳に追加

金属配線の配線幅と、該金属配線の上面と接続されるビアホールの径とが同一寸法に設計される半導体装置の製造方法において、ビアホールを形成するためのマスクパターンにアライメントずれが発生しても、ビアコンタクトが金属配線に対して位置ずれしないようにする。 - 特許庁

In such a constitution, the configuration that the active layer exists on the under part of wiring and is extended to the outer part is not used, therefore, an aperture region is improved, at the same time, the opaque metal pattern is further disposed on the surrounding of the pixel electrode and, thereby, an alignment margin can be minimized to enlarge the aperture region.例文帳に追加

このような構成によって、アクティブ層が配線の下部に存在して外部へと延長された形態ではないので、開口領域を改善すると同時に、画素電極の周辺に不透明な金属パターンをさらに構成することによって、アラインマージンを最小にできるので、開口領域がさらに拡大される。 - 特許庁

On the surface where the color filter is facing to the opposite side of the base material 3, a substantially transparent thin film transistor and a semiconductor circuit that is constituted with a substantially transparent conductive material having an electrical contact conductive to the thin film transistor are provided through alignment with a filter arrangement pattern.例文帳に追加

前記カラーフィルターが基材３の反対側に臨む面に、実質的に透明な薄膜トランジスタと前記薄膜トランジスタに導通される電気的接点を有する実質的に透明な導電材料によって構成される配線とを有する半導体回路を、前記フィルター配列パターンと位置合わせを行って設けた。 - 特許庁

To provide a packaging method of an electronic device that can accurately align a discharge head, a wiring pattern on a substrate, and a connection terminal of the electronic device when using a droplet discharge method for forming connection wiring, and can achieve a reliable packaging structure by reliable connection wiring obtained by the accurate alignment.例文帳に追加

液滴吐出法を用いて接続配線を形成する際に、吐出ヘッドと、基板上の配線パターンと、電子デバイスの接続端子とを正確に位置合わせすることができ、これにより得られる信頼性に優れた接続配線によって高信頼性の実装構造を実現し得る電子デバイスの実装方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for bonding a shadow mask, which prevents a pattern from deforming after the mask has been bonded and enables the alignment to be previously confirmed, by making the shadow mask adjoin to a vertically arranged mask frame in a state of applying tensile force, and weld-bonding the mask frame to the mask frame while previously reflecting a sag of the mask in a vertical direction.例文帳に追加

鉛直配置されたマスクフレーム上にシャドウマスクを隣接させ、引張力を加えた状態で、マスクフレームに溶接をして付着することにより、鉛直方向への垂れを予め反映してマスク付着後のパターンの変形を防止し、整列可否を予め確認可能にしたシャドウマスクの付着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter for use in a multi-domain vertical alignment mode (MVA mode) liquid crystal display device, which has the structure devised to resolve the occurrence of image persistence that a pattern having a certain shape is viewed persistently when overall uniform display is performed after leaving the pattern displayed for a long period of time, and is superior in reliability.例文帳に追加

液晶表示装置で、配向分割垂直配向方式（ＭＶＡ方式）の液晶表示装置において、ある形状の模様を長時間表示しておくと、その後全体に均一な表示をしようとしても先の模様が残って見えてしまう表示焼き付きといった現象が発生する不具合を、その液晶表示装置に用いるカラーフィルタの構造を工夫することで改善する、信頼性に優れたカラーフィルタを提供すること。 - 特許庁

The liquid crystal display device of a multi-domain homeotropic alignment mode is configured by forming a liquid crystal layer between two substrates, forming a multi-domain pattern to divide one pixel to multi-domains on the surface of the one substrate, forming a plurality of long line type patterns on the surface of the other substrate and dividing the pixel by the long line type patterns and the multi-domains.例文帳に追加

２枚の基板の間に液晶層を形成し、一方の基板は表面には一画素をマルチドメインに分割するマルチドメインパターンを形成し、他の基板は表面に複数の長条形パターンを形成し、該長条形パターンと該マルチドメインによって該画素を分割してマルチドメイン垂直配向モードの液晶表示装置を構成する。 - 特許庁

The bus electrode 13 and the exposed electrode 15 can be formed so that the respective positions of the side edge parts of the bus electrode 13 and the exposed electrode 15 nearly coincide with each other without strictly controlling pattern accuracy and alignment accuracy, since the bus electrode 13 is utilized as a part of an exposure mask when the exposure from the rear side of a first glass substrate 11 is performed.例文帳に追加

第１のガラス基板１１の裏面側からの露光に際して、バス電極１３を露光マスクの一部として利用するため、パターン精度及びアライメント精度を厳密に制御することなく、バス電極１３の側縁部の位置と、露出電極１５の側縁部の位置とをほぼ一致するように形成することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent conductive laminate which improves pattern alignment accuracy of a plurality of transparent conductive films by suppressing a dimensional change due to heat applied during a post process by conducting crystallization of a transparent conductive layer in a short time and a heat contraction processing of a substrate prior to patterning and joining of the conductive layer.例文帳に追加

短時間で透明導電層を結晶化させること、及び、基板の熱収縮処理を行い、導電層のパターニング、貼り合せの前に、後工程で加えられる熱による寸法変化を抑制することで、複数の透明導電性フィルムのパターン位置合わせ精度を向上させる透明導電性積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In adjacent light-emitting units 160, each color element 92 of the light-emitting element 90, and a frequency 170 of a vibration added for formation of the ruggedness on the interface of a hole transport layer 54 are arranged in a given alignment pattern so that frequencies 170 of the vibration given at least one or more color elements of the same color are to be different.例文帳に追加

隣接する発光単位１６０において、少なくとも１つ以上の同一色の色要素９２に与える振動の周波数１７０を異なるようにすべく、発光層９０の各色要素９２と、正孔輸送層５４の界面に凸凹を形成すべく付加する振動の周波数１７０とを所定の配置パターンに従い配置する。 - 特許庁

The alignment mask D of the head unit 1 carrying a plurality of the droplet delivery heads 3 on the single carriage 2 is provided with a master plate 161 being a pattern formation of a reference position 164 of each droplet delivery head 3 in a planar surface parallel to the nozzle formative surface 52 of the droplet delivery head 3 and a reference position 165 of the carriage 2.例文帳に追加

単一のキャリッジ２に複数の液滴吐出ヘッド３を搭載したヘッドユニット１のアライメントマスクＤであって、液滴吐出ヘッド３のノズル形成面５２に平行な平面内における各液滴吐出ヘッド３の基準位置１６４およびキャリッジ２の基準位置１６５をパターン形成したマスタプレート１６１を備えたものである。 - 特許庁

As alignment disorder of a liquid crystal is diminished by arranging a first partition 106a and a second partition 106b on the both sides of a seal pattern 107, contrast is improved and the contamination of the liquid crystal display device due to the deterioration of the sealant is reduced and further the liquid crystal display device with little fluctuation of the gap between the substrates is provided.例文帳に追加

シールパターン１０７の両側に第１の隔壁１０６ａ及び第２の隔壁１０６ｂを設けることによって液晶の配向乱れが少なくなったので、コントラストを改善する事ができ、また、シール材の劣化による液晶表示装置の汚染を減少させ、さらに、基板の間隔のばらつきの少ない液晶表示装置を提供できる。 - 特許庁

This image defect inspection device 10 is equipped with an image alignment part 22 for detecting a sub-pixel offset amount between two images which are objects under inspection, and a correction amount determination part 25 for determining a correction amount for a gray level difference detected by a difference detection part 26 at pattern edge parts of the two images based on the detected offset amount.例文帳に追加

画像欠陥検査装置１０は、検査対象たる２つの画像のサブピクセルずれ量を検出する画像アライメント部２２と、検出したサブピクセルずれ量に基づいて、差分検出部２６により検出されるグレイレベル差の、前記の２つの画像のパターンエッジ部における補正量を決定する補正量決定部２５とを備えることとする。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope that accurately specifies the measuring region of a sample having a minute pattern that cannot be observed easily by an optical microscope, is capable of alignment, and can correct measuring profile distortion caused by the variation of a probe shape or probe wear, based on the state of the probe shape and probe wear.例文帳に追加

光学顕微鏡では観察が困難であるような微細パターンを有する試料の計測領域を正確に特定し、位置合わせすることができ、探針形状および探針磨耗の状態に基づいて、探針形状のばらつき、もしくは探針磨耗に起因する計測プロファイル歪みの補正を行うことのできる走査プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask, capable of obtaining a reflection signal having sufficient contrast even for a reflective mask for EUV exposure, when detecting an alignment mark using a laser drawing device, thus forming a resist pattern for forming a light-shielding region with good position accuracy, and to provide a manufacturing method of the same.例文帳に追加

本発明は、ＥＵＶ露光用の反射型マスクにおいても、レーザ描画装置を用いてアライメントマークを検出する際に、十分なコントラストを有する反射信号を得ることができ、それゆえ、位置精度良く、遮光領域形成用レジストパターンを形成することができる反射型マスク、およびその製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In a method of forming a marker MX for double-gate SOI processing on an SOI wafer, at least one marker has a diffracting structure in a first direction, and the diffracting structure is positioned so as to generate an asymmetrical diffraction pattern during use in an alignment and overlay detection system for detection in the first direction.例文帳に追加

ＳＯＩウエハ上でのダブルゲートＳＯＩ処理のためのマーカーＭＸの作成方法においては、少なくとも１つのマーカーは第１方向への回折構造を有し、回折構造は、第１方向における検出のために、配列及びオーバレイ検出システムで用いている間に、非対称的回折パターンを生成するよう配置される。 - 特許庁

In this state, data information is retained according to the space intensity distribution as the signal light 5 of P polarization, one without including the alignment pattern is obtained, and a second hologram is recorded by making multiplex the second hologram onto the first hologram in a region where the first hologram of the optical storage medium 10 is recorded by the reference light 6 of S polarization.例文帳に追加

この状態で、Ｐ偏光の信号光５として、空間強度分布によりデータ情報を保持し、かつ位置合わせ用パターンを含まないものを得て、Ｓ偏光の参照光６によって、光記録媒体１０の第１のホログラムが記録されている領域中に第１のホログラムに多重させて第２のホログラムを記録する。 - 特許庁

A transfer layer composed of a release layer 22, a mask metal pattern 24, the alignment layer 26, a buffer layer 28, an electrode 30, a protective layer 32, and a color filter layer 34 is formed on a temporary substrate 20 without limiting manufacturing conditions and thereafter, the transfer layer is transferred/formed via an adhesive layer 36 on the plastic film 10.例文帳に追加

仮基板２０の上に、剥離層２２、マスク金属パターン２４、配向膜２６、バッファ層２８、電極３０、保護層３２及びカラーフィルタ層３４から構成される転写層を製造条件が制限されることなく形成した後に、プラスチックフィルム１０の上に接着層３６を介して転写層を上下反転した状態で転写・形成する。 - 特許庁

The exposure equipment 1 makes exposure light 11a, 12a emitted from two light sources (a first light source 11 and a second light source 12) transmit through different light transmission areas respectively, in a predetermined pattern of a mask 13, and irradiate regions corresponding to respective bisected regions of each picture element or pixel of the alignment material film formed on an exposure object member 2.例文帳に追加

露光装置１は、２個の光源（第１の光源１１及び第２の光源１２）から出射した露光光１１ａ，１２ａを、マスク１３の所定のパターンにおける夫々異なる光透過領域に透過させ、露光対象部材２上に形成された配向材料膜の各絵素又は画素の各分割領域に対応する領域に照射する。 - 特許庁