「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

Afterwards, the transcription substrate and a substrate 14 are positioned by an alignment system 28, and the pattern of the organic light emitting layer 4a is transcribed by heating the surface of the transcription substrate 12 at the side that the pattern of the organic light emitting layer 4a is not formed, at a transcription part 23 by a heater 27.例文帳に追加

その後、アライメント機構２８により転写基板と基板１４との位置合わせを行い、転写部２３にて転写基板１２を有機発光層４ａのパターンが形成された面と反対側の面からヒータ２７によって加熱して、基板１４上に有機発光層４ａのパターンを転写する。 - 特許庁

A notch 52 is provided to both the widthwise positions of a resistor 1 at which a trimming operation starts respectively, the notch at the one lengthwise end of the resistor is formed into an L-shaped pattern that also serves as an alignment pattern, and furthermore a reflecting layer 54 is formed below the resistor 1.例文帳に追加

抵抗体１の幅方向の両側であってトリミングの開始位置と対応する位置にそれぞれ切込み５２を形成するとともに、長さ方向の一端の切込みをＬ字状のパターンとしてアライメントパターンを兼用するようにし、さらに抵抗体１の下側に反射層５４を形成する。 - 特許庁

At this time, a rotated image provided by rotating the image by an angle θ of a distributed interference pattern is created, and a one-dimensional differential filter is put on the image, thereby influence of fluctuation of brightness of the interference pattern is eliminated, and the position of alignment mark of the acquired image is correctly detected.例文帳に追加

このとき、分布干渉縞の角度θだけ画像を回転させた回転画像を作成し、その画像に対して１次元微分フィルタを掛けることにより干渉縞の輝度変動の影響を無くす事が出来、取得画像のアライメントマークの位置を正しく検出する事が出来る。 - 特許庁

By a CAD system 18, comprising a CAD tool and an operation controlling portion utilizing a mask-pattern data base, liquid-crystal driving and controlling signals are obtained so as to control the alignment of liquid-crystal molecules in the respective segments of a panel displaying portion 171 and to form a mask pattern for passing/intercepting exposure lights.例文帳に追加

ＣＡＤツール及びマスクパターンデータベースを利用した演算制御部により構成されるＣＡＤシステム１８により液晶駆動制御信号が得られ、パネル表示部１７１における各セグメントで液晶分子の配向が制御され露光光が通過／遮断されるマスクパターンが形成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and manufacturing system of a plasma display panel, by which positional misalignment can be determined with proper accuracy at any given location in the panel, and the substrates can be glued together with a high accuracy, because the actual transparent electrode pattern and rib pattern in a cell can be observed without relying on an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークによらず、セル内の実透明電極パターンとリブパターンとを観察可能であるため、精度良くまたパネル内の任意の箇所において位置ずれを確認でき、高精度の基板貼り合わせが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法及び製造システムを実現する。 - 特許庁

A correction similar to the correction of irradiated region with respect to the pattern matching processing from the usual secondary ion image or secondary electron image of the ion beam defect correcting device is performed and a defect region 3b which is extracted by the AFM and is subjected to fine adjustment by the conformation of the pattern for alignment is corrected by ion beams 8.例文帳に追加

イオンビーム欠陥修正装置の通常の二次イオン像もしくは二次電子像からのパターンマッチング加工に対する照射領域の補正と同様な補正を行い、AFMで抽出し、位置合わせ用のパターンの合わせ込みで微調整された欠陥領域3bをイオンビーム8で修正する。 - 特許庁

This electrode pattern is easily formed by exposing an electrode layer having photosensitivity from the rear side of a glass substrate structure, or by exposing the electrode layers having two or more than two layers by means of using the first layer of them as a shielding pattern and exposing from the rear side in self-alignment.例文帳に追加

感光性を有して電極層を、ガラス基板構体の背面側より露光処理することにより、または２層以上の電極層で、１層目の電極パターンを遮光パターンとして用い、基板背面側よりセルフアライメント露光することにより、容易に形成できる。 - 特許庁

When replacement of print head units 11a-11d is detected through a sensor 17 (103, 104) under a ready state for waiting input of image data, an alignment adjustment pattern being referred in alignment adjusting work is printed automatically on a recording sheet (108), and imaging processing based on the inputted image data is not performed until the alignment work is completed (110→102).例文帳に追加

画像データの入力を待機するレディ状態において、センサ１７を介して印字ヘッドユニット１１ａ〜１１ｄが交換されたことを検出すると（１０３，１０４）、アライメント調整作業において参照すべきアライメント調整用パターンを自動的に記録用紙に印刷し（１０８）、アライメント作業が完了するまで、入力された画像データに基づく画像形成処理を行なわない（１１０→１０２）。 - 特許庁

Moreover, a reaction product formed in a pattern sidewall part in self-alignment in dry etching of a metal film or a sidewall insulation film formed in self-alignment in an isotropic etching of a thick insulation film is used as a doping mask in the formation of an offset region or an LDD region.例文帳に追加

また、オフセット領域或いはＬＤＤ領域を形成する際のドーピングマスクとして、金属膜のドライエッチング時にパターン側壁部に自己整合的に形成される反応生成物、或いは厚い絶縁膜の異方性エッチングを行った時に自己整合的に形成される側壁絶縁膜を用いる。 - 特許庁

A user can recognize the necessity of alignment adjusting work surely by detecting the recording sheet printed with the alignment adjustment pattern, and the image quality can be prevented surely from deteriorating due to a print head 16 being driven at a timing inappropriate for the gap between the print head 16 and the recording sheet.例文帳に追加

ユーザは、アライメント調整用パターンが印刷された記録用紙を見てアライメント調整作業を行うべきことを確実に認識することができ、印字ヘッド１６と記録用紙との間のギャップに対して不適性な駆動タイミングで印字ヘッド１６が駆動されることによる画質の劣化を確実に防止することができる。 - 特許庁

A pattern formed on an active matrix substrate having pixel parts, which is one of a pair of substrates arranged opposite to each other, is formed as a first marker for alignment, and an opening part on a light-shielding film formed on a counter substrate, which is the other one of the pair of substrates, is formed as a second marker for alignment.例文帳に追加

対向して配置された一対の基板の一方であり、画素部を有するアクティブマトリクス基板上に形成されたパターンを位置合わせのための第１のマーカーとして形成し、一対の基板の他方である対向基板上に形成された遮光膜の開口部が位置合わせのための第２のマーカーとして形成されている。 - 特許庁

When the original having an exposure pattern that is carried in the aligner is aligned by observing an alignment mark on the original by an observation means, the alignment mark on the original is observed by the observation means for measuring the position in advance (step 51), and the measured result is stored as data accompanying the original (step 52).例文帳に追加

露光装置に搬入された露光パターンを有する原板を、該原板上のアライメントマークを観察手段により観察してアライメントする場合に、あらかじめ、観察手段により原板のアライメントマークを観察してその位置を計測し（ステップ５１）、この計測結果を原板に付随するデータとして記憶しておく（ステップ５２）。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device using SiC for the substrate comprises: a process for forming an alignment mark 2 on a {0001} plane in the SiC substrate 1; and a process for forming a prescribed pattern on the SiC substrate 1 by aligning a transfer mask and the SiC substrate 1, based on the alignment mark 2.例文帳に追加

本発明は、ＳｉＣを基板に用いた半導体装置を製造する方法であって、ＳｉＣ基板１の｛０００１｝面に、アライメントマーク２を形成する工程と、アライメントマーク２に基づき、転写マスクとＳｉＣ基板１との位置合わせを行いＳｉＣ基板１上に所定のパターンを形成する工程とを備える。 - 特許庁

An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are arranged so that the detection of the alignment information on the other substrate W2 (W1) can be performed in parallel when exposing a mask pattern on one substrate W1 (W2) out of substrates retained side by side on a substrate stage ST.例文帳に追加

基板ステージＳＴに並べて保持された一方の基板Ｗ１（Ｗ２）にマスクパターンを露光するときに、他方の基板Ｗ２（Ｗ１）のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系ＰＬと第１および第２のアライメント光学系ＡＡ１ａ，ＡＡ１ｂ、ＡＡ２ａ，ＡＡ２ｂを配置する。 - 特許庁

The exposure apparatus includes a pressing plate 42 for pressing the body to be exposed, an image recognition part 54 for observing a first alignment mark formed on the body to be exposed and a second alignment mark formed on the circuit pattern mask, and a first moving part 43 for simultaneously moving the pressing plate and the image recognition part in the prescribed width direction of the body to be exposed.例文帳に追加

被露光体を押さえる押さえ板４２と、被露光体に形成された第１アライメントマークと回路パターンマスクに形成された第２アライメントマークとを観察するための画像認識部５４と、押さえ板と画像認識部とを被露光体の所定幅方向に同時に移動させる第１移動部４３とを備える。 - 特許庁

A pattern for alignment of a read line is formed outside an effective area part, with respect to an optical element having had a high rotational eccentricity sensitivity with respect to an optical axis and high eccentricity sensitivity in a subscanning direction because the optical element has a power asymmetric with respect to the optical axis, to thereby facilitate the alignment adjustment.例文帳に追加

そこで、本発明では、光軸非対称なパワーを有することが原因で、光軸に対して回転の偏心敏感度や副走査方向の偏心敏感度の高かった光学素子に対して、読み取りラインのアライメント用のパターンを有効領域部外に形成し、アライメント調整を容易に行えるようにした。 - 特許庁

An optical system PL and first and second alignment optical systems AA1a, AA1b, AA2a, and AA2b are so provided that detection of alignment information for one wafer W2 (W1) is performed in parallel, when the other wafer W1 (W2) which is held side by side on a wafer stage ST is exposed with a mask pattern.例文帳に追加

基板ステージＳＴに並べて保持された一方の基板Ｗ１（Ｗ２）にマスクパターンを露光するときに、他方の基板Ｗ２（Ｗ１）のアライメント情報の検出を並行して行なうように、光学系ＰＬと第１および第２のアライメント光学系ＡＡ１ａ，ＡＡ１ｂ、ＡＡ２ａ，ＡＡ２ｂを配置する。 - 特許庁

A dummy substrate used for alignment process for adjusting the exposure position of a pattern image in an oil immersion-compliant exposure unit are conveyed to a substrate processing apparatus, for performing a resist coating process and a development process before and after the exposure.例文帳に追加

液浸露光対応の露光ユニットにおいてパターン像の露光位置を調整するアライメント処理に使用するダミー基板を露光前後のレジスト塗布処理および現像処理を行う基板処理装置に搬送する。 - 特許庁

Therefore, an integrated circuit pattern is formed in a region in which the sensitization agent has been dissolved, and the alignment marks 2A, 2B protected by the sensitization agent can be prevented from being damaged in treatments such as etching or the like which are processed after that.例文帳に追加

よって、感光剤が溶解した領域に集積回路パターンを形成し、かつ、感光剤で保護されたアライメントマーク２Ａ，２Ｂに対しその後のエッチングなどの処理で損傷を与えることを防止できる。 - 特許庁

To eliminate the need of retreat of an image acquisition device during exposure to shorten the tact time by acquiring an image of an alignment mark to align a mask and a substrate without covering a part of a pattern of the mask with the image acquisition device.例文帳に追加

マスクのパターンの一部を画像取得装置で覆うことなく、アライメントマークの画像を取得して、マスクと基板との位置合わせを行い、露光時の画像取得装置の退避を不要にして、タクトタイムを短縮する。 - 特許庁

To provide a barrier wall pattern and an alignment layer surface constitution for preventing the generation of a liquid crystal non-injected part when a liquid crystal is injected into a panel having a barrier wall structure, in a ferroelectric liquid crystal panel.例文帳に追加

強誘電性液晶パネルでその構成に、隔壁構造を有するパネルで液晶注入の際に、未注入部の発生を防ぐような、隔壁パターンと配向膜表面の構成を提案するものである。 - 特許庁

Axial alignment is performed by using a mask for adjustment, which has a bored region (white subfield) having practically the same dimensions as those of a pattern region transferred and exposed at a time, and a film region (black subfield) in which holes are not made.例文帳に追加

一度に転写露光するパターン領域と実質的に同じ寸法の孔明き領域（白サブフィールド）、及び、孔の開いていない膜領域（黒サブフィールド）を有する調整用マスクを用いて軸合わせを行う。 - 特許庁

Then, a pattern forming process is carried out for the transparent conductive layer, a source and a drain are formed, an active layer is formed in such a manner that the source, the drain, and the dielectric layer are covered, and a self-alignment TFT structure is completed.例文帳に追加

次に、該透明導電層にパターン形成プロセスを実行して、ソースとドレインとを形成し、ソース、ドレイン、及び誘電体層を覆うようアクティブ層を形成して、自己整合ＴＦＴ構造体が完成する。 - 特許庁

To provide a screen printing plate that hardly causes a relative displacement between a printing pattern formed in an inner mesh and an alignment mark formed in an outer mesh, and manufactured at low cost, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

内紗に形成される印刷パターンと外紗に形成されるアライメントマークとの間に相対的な位置ずれが生じにくく、かつ、製造コストの安価なスクリーン印刷版およびその製造方法を提供する - 特許庁

An extended direction of a slit formed closer to the contact at a boundary of the bending point among slits formed in the pixel electrode pattern and an alignment direction of the liquid crystal layer cross at ≥7° angle.例文帳に追加

ここで、画素電極パターンに形成されるスリットのうち、屈曲点を境にコンタクト寄りに形成されるスリットの延設方向と液晶層の配向方向とが７°以上の角度で交差するように形成する。 - 特許庁

In this case, the lower part of the pixel electrode 11 is made not to extend from the parasitic capacitance compensation pattern 22 surface toward the gate wire 3 side, even if the alignment deviation between the pixel electrode 11 and the gate wire 3 is generated.例文帳に追加

この場合、画素電極１１の下辺部は、該画素電極１１とゲート線３との間にアライメントずれが生じても、寄生容量補償用パターン２２上からゲート線３側に突出しないようになっている。 - 特許庁

To provide a transfer device that can transfer a fine transfer pattern to an accurate position of a molded article even if a mold is formed of a material that does not transmit light and the molded article is not provided with an alignment mark.例文帳に追加

型が光を透過しない材質で構成され、また、被成型品にアライメントマークが設けられていなくても、被成型品の正確な位置に微細な転写パターンを転写できる転写装置を提供する。 - 特許庁

In this case, the alignment of the image forming lens 28 or of the CCD 29 is adjusted so that the output state of the dot pattern of the test chart 30 indicates a well-focused output by the image forming lens 28.例文帳に追加

その時に、テストチャート３０による網点パターン３４の出力状態が、結像レンズ２８にて焦点が合った状態での出力になるように結像レンズ２８、またはＣＣＤ２９の配置位置調整を行う。 - 特許庁

Regarding an optical imprint mold for transferring a recording pattern to a disk substrate, the optical imprint mold having an alignment mark disposed in a position equivalent to an opening around the nontransferred rotary axis of a disk substrate center is provided.例文帳に追加

ディスク基板に記録パターンを転写するための光インプリントモールドであって、ディスク基板中央の転写されない回転軸周りの開口部に該当する位置にアライメントマークを設けた光インプリントモールドを提供する。 - 特許庁

Thereafter, the adjustment substrate AW is replaced with a substrate to be processed for performing the transfer of the pattern, and the alignment is performed so that the plate-side mark of the printing plate aligns with the substrate-side mark of the substrate to be processed.例文帳に追加

その後、調整用基板ＡＷをパターンの転写を行うべき処理対象基板に置き換え、印刷版の版側マークと処理対象基板の基板側マークとが一致するように位置合わせを行う。 - 特許庁

(3) A liquid crystal display device has a region having the opposite rising state of liquid crystal molecules when a voltage is applied to the rising state of liquid crystal molecules in the surrounding region by forming a rugged pattern on the interface of one alignment film.例文帳に追加

（３）一方の配向膜界面に凹凸を設け、電圧印加による液晶分子の立ち上がりかたが周囲の液晶分子の立ち上がりかたと逆になるような領域を設けた液晶表示素子とする。 - 特許庁

In this liquid crystal panel, slits are formed in the pixel electrode pattern so that extension directions of slits formed closer to the contact with the bending point as the boundary and an alignment direction of the liquid crystal layer may cross at ≥7°.例文帳に追加

ここで、画素電極パターンに形成されるスリットのうち、屈曲点を境にコンタクト寄りに形成されるスリットの延設方向と液晶層の配向方向とが７°以上の角度で交差するように形成する。 - 特許庁

A test pattern 21 for inspecting the characteristics of a wiring 3 involved in an element chip 10a, and an alignment 20 which is capable of detection of a position of a semiconductor substrate, are formed on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上には、素子チップ１０ａに含まれる配線部３の特性を検査するためのテストパターン２１、および半導体基板の位置を検出可能とするためのアライメント２０が形成されている。 - 特許庁

In the pattern drawing apparatus, the plane mirror 51 rotates in the opposite direction to a rotating direction of the stage 3 in pre-alignment of a substrate, so that a reflection surface of the plane mirror 51 is set perpendicular to the main scanning direction.例文帳に追加

パターン描画装置では、基板のプリアライメント時におけるステージ３の回転方向とは反対向きにプレーンミラー５１が回転することにより、プレーンミラー５１の反射面が主走査方向に対して垂直とされる。 - 特許庁

To provide an alignment mark, having a pattern of a box-in-box for clearly evaluating the overlap of masks at positioning the mask, and to provide a method for manufacturing a semiconductor element using the mark.例文帳に追加

マスクの位置合わせを行う際に、マスクの重ね合わせを明確に評価できるボックスインボックスのパターンを有するアライメントマークを提供すると共に、そのマークを用いた半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, the alignment mask of the substrate can be detected directly from the surface of the color filter material 49 which is approximate in distance from a substrate 41, when the pattern is transferred and exposed, and the deterioration of image quality can be reduced by lessening the errors in detection.例文帳に追加

また、上記パターン転写露光時に下地アライメントマークを基板４１からの距離が近いカラーフィルタ材料４９の面から直接検出でき、検出誤差を小さくして画質劣化を少なくする。 - 特許庁

To provide a screen frame positioning structure of a screen printing machine capable of rapidly, easily and properly performing the alignment of a pattern with an object to be printed at the time of replacement of a screen frame, and a screen frame positioning method.例文帳に追加

版枠を差し替えた際に被印刷体に対するパターンの位置合わせを迅速容易に且つ適正に行うことのできるスクリーン印刷機の版枠位置決め構造及び版枠位置決め方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a microlens substrate which makes alignment of the optical axis easier and simplifies the manufacturing processes by using a first microlens array to pattern the lens form of a second microlens array.例文帳に追加

第１マイクロレンズアレイを利用して第２マイクロレンズアレイのレンズ形状のパターニングを行うことで、光軸合わせを簡単化し、作製工程を簡略化することのできるマイクロレンズ基板の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide an alignment pattern and its forming method in which a peak can be read out readily by detecting a level difference surely through scanning even when planarization is performed by CMP without requiring any extra process.例文帳に追加

新たな工程を付加することなく、ＣＭＰによる平坦化を行った場合でも、スキャンにより段差を確実に検出して容易にピークを読み取ることができる目合わせパターン及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

An alignment pattern 10 is substantially formed in parallel to the scanning direction of the rays of light to scan in exposure in one scribe line 6 positioned at the rightmost end of the exposure region 4 of a semiconductor wafer 1.例文帳に追加

半導体ウェハ１の露光領域４の最右端に位置する１本のスクライブライン６に、露光時に走査される光の走査方向に対して実質的に平行にアライメントパターン１０が形成されている。 - 特許庁

On an alignment layer forming surface of one substrate, a repeated pattern of light transmissive pixel electrodes 58 are formed having a minimum separated breadth along the long axis of liquid crystal molecules charged between the substrates.例文帳に追加

一方の基板の配向膜形成面に、基板間に充填される液晶分子の長軸方向に沿って最小の離間幅を有する光透過性の画素電極５８の繰り返しパターンが形成されている。 - 特許庁

A multilayer wiring board comprises a board layer having wiring patterns formed by a plurality of wirings in multiple layers, an auxiliary layer comprising an auxiliary pattern provided on the upper surface of the board layer and an electrical insulating material which covers the auxiliary pattern, an electrode pattern formed by a plurality of electrodes provided on the upper surface of the auxiliary layer, and an alignment mark provided on the upper surface of the auxiliary layer.例文帳に追加

多層配線基板は、複数の配線により形成された配線パターンを多層に有する基板層と、該基板層の上面に設けられた補助パターン及び該補助パターンを覆う電気絶縁材料を備える補助層と、該補助層の上面に設けられた複数の電極により形成された電極パターンと、補助層の上面に設けられた位置合わせ用マークとを含む。 - 特許庁

To provide an authenticity determining device of a card, capable of objectively determining authenticity of the card, even in the card having a hologram seal in which a lattice pattern having a predetermined pitch and a lattice pattern, in which an alignment direction of a diffraction grating is the same direction and having a different predetermined pitch each other are arranged alternately with a fixed period.例文帳に追加

所定ピッチを有する格子パターンと回折格子の配列方向が同方向でかつ互いに異なる所定ピッチを有する格子パターンとが一定周期で交互に配列されたホログラムシールを有するカードであっても、その真贋を客観的に判定できるカードの真贋判定装置を提供する。 - 特許庁

A light shielding pattern 54 having a plurality of arrayed polygonal light shielding portions 53 and a light transmitting portion 55 of a resolution limit or lower disposed at the center of the array is formed in the light transmitting region of a photomask, as a unit light shielding pattern for forming a projection 56 for alignment control in a photosensitive composition layer.例文帳に追加

感光性組成物層に配向制御用突起５６を形成するための単位の遮光パターンとして、フォトマスクの光透過領域中に、多角形状の遮光部５３が複数個配列され、その配列の中心部に解像限界以下の光透過部５５を有する遮光パターン５４を形成する。 - 特許庁

To simultaneously and nondestructively measure a panel alignment position and a pattern profile by improving resolution, quantifying accuracy, and repeatability for realize a pattern imaging which does not rely on optical measurement technology for inspection using a device which is markedly reduced in cost and complexity, while increasing the throughput of the device significantly.例文帳に追加

検査のためのパターン像化に依らない光学的測定技術を、スループットを大きく向上させつつ、コスト及び複雑性を非常に低下させた装置によって実現し、分解能、定量化精度、及び繰り返し精度の向上を図り、重ね合せ位置及びパターンプロフィールの同時かつ非破壊測定を行えるようにする。 - 特許庁