「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To overcome a problem that alignment between layers is likely to become defective since a plurality of complementary split masks are used in manufacturing a semiconductor device having a multi-layer pattern using complementary split masks having alignment marks.例文帳に追加

アライメントマークを有する相補分割マスクを使用して複数レイヤのパターンを有する半導体デバイスを形成する際に、相補分割マスクが複数枚存在するため、各レイヤ間のアライメントが不良になりやすい。 - 特許庁

The alignment processing is performed by forming nearly parallel beam of ultraviolet light emitted by a light source unit section into a long irradiation pattern through a light irradiation pattern control section comprising a plurality of total reflection mirrors and irradiating the alignment layer with the ultraviolet light having the converted irradiation pattern at a prescribed angle.例文帳に追加

光源装置部から出射された紫外線の略平行光を、複数の全反射ミラーによって構成された光照射パターン制御部を介して長尺形状の照射パターンに形成し、変換された照射パターンの紫外線を所定の角度を保って配向膜に照射することによって配向処理を施すようにした。 - 特許庁

This pattern formation method is provided with process for forming a super-high resolution film, for narrowing the beam diameter of irradiated light on the resist film formed on a substrate, the process for irradiating the resist film with the light via the super-high resolution film and performing pattern alignment and the process for developing the resist film, to which the pattern alignment is performed.例文帳に追加

基板上に形成されたレジスト膜上に、照射される光のビーム径を絞る超解像膜を形成する工程と、前記超解像膜を介して前記レジスト膜に対して光を照射し、パターン露光を行なう工程と、前記パターン露光が行なわれた前記レジスト膜を現像する工程とを備えるパターン形成方法である。 - 特許庁

The test pattern generating circuit controls the alignment transition in the optional pattern for temporarily stopping based on existence, position, and value of the care bit in the k bit specified by the data and the periodicity of the optional pattern with respect to the PRPG 2.例文帳に追加

テストパターン発生回路は、ＰＲＰＧ２に対し、データにより特定されるｋビット内におけるケアビットの有無、位置および値と、任意パターンの周期性とに基づいて、任意パターンにおける配列遷移を一時的に停止可能に制御する。 - 特許庁

When the substrate, on which a pattern is drawn, is deformed in a complex manner of causing a second deformed substrate 46, a pattern drawing region of originally square shape turns into a second deformed pattern drawing region 47, which is a quadrangle formed by first to fourth alignment marks M_1-M_4.例文帳に追加

パターンを描画する基板が複雑に変形して第２変形基板４６が生じると、本来正方形であるべきパターンの描画領域は、第１〜第４アライメントマークＭ_1〜Ｍ_4を結んだ四角形である第２変形描画領域４７となる。 - 特許庁

A pattern forming section is formed on the side of each card 11 so that an alignment pattern for surface appears on the side of the card set 10 when the cards 11 are arranged and stacked in the sequence of the first numbers.例文帳に追加

第１の番号で各カード１１が並んで積み重なったカードセット１０の側面に表面用整列模様が浮き出るように、各カード１１の側面には模様形成部が形成されている。 - 特許庁

A pattern forming section is formed on the side of each card 11 so that an alignment pattern for backside appears on the side of the card set 10 when the cards 11 are arranged and stacked in the sequence of the second numbers.例文帳に追加

第２の番号で各カード１１が並んで積み重なったカードセット１０の側面に裏面用整列模様が浮き出るように、各カード１１の側面には模様形成部が形成されている。 - 特許庁

The patterned beam PB of radiation includes a pattern for forming device features in areas of a product die and a pattern for use in forming features of an alignment mark 101 in other areas.例文帳に追加

放射線のパターン形成ビームＰＢは、製品ダイの領域にデバイス・フィーチャーを形成するためのパターン、および他の領域にアラインメントマーク１０１のフィーチャーを形成する際に使用するパターンを含む。 - 特許庁

To provide a method of aligning an electrode pattern in a selective emitter structure in order to solve a problem of alignment that may occur in forming an electrode pattern in a selective emitter structure by a conventional technique.例文帳に追加

従来の技術で選択エミッタ構造に電極パターンを形成するときに発生しうるアラインメントの問題を解決するために、選択エミッタ構造の電極パターンのアラインメント方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern-formed from which color filter is efficiently manufactured through a a simple process and which does not cause cracking and does not affect alignment of liquid crystal, and to provide a color filter obtained by using the pattern-formed body.例文帳に追加

本発明は、カラーフィルタを簡易な工程で、効率よく製造でき、かつクラックや液晶の配向に影響等のない、パターン形成体や、カラーフィルタを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The number N of times by which the operations are repeated is determined based on a position alignment accuracy (accuracy of superposition) of patterns or a time taken for pattern transfer.例文帳に追加

繰り返しの回数Ｎは、パターンの位置合わせ精度（重ね合わせ精度）又はパターンの転写に要する時間に基づいて定められる。 - 特許庁

Based on the expansion/contraction rate measured at the time of alignment, incident angle of an electron beam to the mask pattern is controlled thus correcting the transfer magnification.例文帳に追加

そして、転写時に前記測定した伸縮率に基づいて電子ビームのマスクパターンへの入射角度を制御し、転写倍率を補正する。 - 特許庁

The shape of every hole pattern 400 arranged therein is observed, thereby finding distortion during the alignment step.例文帳に追加

この四隅に配置される各ホールパターン４００の形状を観察することにより、露光工程時におけるディストーションの発生の有無の観察を行う。 - 特許庁

A first alignment mark 1 is formed on an n-type semiconductor layer 12, and an insulation film 13 having a trench pattern is formed on the whole surface on it.例文帳に追加

ｎ型半導体層１２に第１のアライメントマーク１を形成し、その上全面にトレンチパターンを有する絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

To provide a mask having both improved position accuracy of a pattern and easiness of alignment, an exposure method and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

パターンの位置精度の向上と、アライメントの容易性を兼ね備えたマスク、露光方法、半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Than, an alignment pattern growth stopping mask and one pair of growth stopping masks extending in the same direction are selectively formed on the substrate 9.例文帳に追加

次に、半導体基板９上に目合わせパターン成長阻止マスク及び１対の同方向に延びる成長阻止マスクを選択的に形成する。 - 特許庁

To precisely and speedily transfer a pattern by providing an accurate alignment system suitable to a charged particle beam exposure device of a reflection type.例文帳に追加

反射型の荷電粒子ビーム露光装置に適した高精度なアライメント方式を提供し、高精度・高速度なパターン転写を可能とする。 - 特許庁

To provide an aligner which can perform alignment of a substrate and a pattern image efficiently and precisely even when immersion method is applied.例文帳に追加

液浸法を適用した場合にも、基板とパターン像との位置合わせを効率良く精確に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

The SAP is included in a mask layout for efficient self-alignment of various sub-layouts of a target pattern in a multi-patterning lithography process.例文帳に追加

ＳＡＰは、マルチパターニングリソグラフィ工程中のターゲットパターンの様々なサブレイアウトの効率的なセルフアライメントのためにマスクレイアウト内に含まれる。 - 特許庁

To allow a checker board pattern of 600 dpi to be printed by one passage of a print head and allow correct alignment between a number of print heads.例文帳に追加

プリントヘッドの１回の通過で、６００ｄｐｉのチェッカーボードパターンを印刷でき、かつ、多数のプリントヘッド間の正確な整列を可能にする。 - 特許庁

CIRCUIT BOARD MOUNT STRUCTURE AND METHOD FOR MULTILAYER CERAMIC CAPACITOR, LAND PATTERN OF CIRCUIT BOARD, AND PACKAGE AND ALIGNMENT METHOD FOR MULTILAYER CERAMIC CAPACITOR例文帳に追加

積層セラミックキャパシタの回路基板実装構造、方法及び回路基板のランドパターン、積層セラミックキャパシタの包装体並びに整列方法 - 特許庁

A first alignment mark 1 is formed at an n-type semiconductor layer 12, and an insulation film 13 having a trench pattern is formed on the whole surface on it.例文帳に追加

ｎ型半導体層１２に第１のアライメントマーク１を形成し、その上全面にトレンチパターンを有する絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

To provide an exposure technique inexpensively forming a fine pattern under wavelength grade of an illumination light and acquiring high alignment accuracy.例文帳に追加

照明光の波長程度以下の微細パターンを、安価に形成可能であるとともに高い重ね合わせ精度が得られる露光技術を提供する。 - 特許庁

FOAMED RESIN PLATE HAVING ALIGNMENT PATTERN OF BRICK OR CONCRETE SECONDARY PRODUCT FORMED ON SURFACE AND LAYING AREA REGULATING AND DRAINING FUNCTIONS BY CONNECTION例文帳に追加

煉瓦又はコンクリート系二次製品の配列模様を表面に形成し、連結により敷設面積調整と排水機能を持った発泡樹脂板。 - 特許庁

To provide a body or the like with a pattern which allows evaluation of the reproducibility or the like of an alignment sensor without being subject to the effect by the fluctuation of air on the measuring optical path of an interferometer in a VRA type reticle alignment device.例文帳に追加

ＶＲＡ方式のレチクルアライメント装置において、干渉計の計測光路上の空気のゆらぎに影響されることなくアライメントセンサの再現性等を評価することができるパターン付き物体等を提供する。 - 特許庁

An alignment mark structure having a protective dummy pattern for production of semiconductor is provided wherein the alignment mark on a wafer is protected such that the mark is not damaged definite quality is not deteriorated visually by chemical mechanical polishing(CMP).例文帳に追加

保護ダミーパターンを有する半導体製造用アライメントマーク構造が提供され、ウェハ上のアライメントマークを保護し、該マークが損なわれることなくかつ化学機械研磨（ＣＭＰ）によって視覚的に明瞭な品質が劣化しないようにする。 - 特許庁

To provide an aligner capable of simultaneously observing a plurality of alignment marks irrespective of the size of a pattern region depending on the device, and capable of designing a reticle without being bound by the arrangement places of the alignment marks.例文帳に追加

本発明は、デバイスによるパターン領域の大きさに拘らず複数のアライメントマークを同時観察できるようにし、かつアライメントマークの配置場所に縛られることなくレチクル設計ができる露光装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for forming pattern, an electrooptical device, and an electronic apparatus which forms an alignment mark by a liquid discharge method in the state positioned with high precision by eliminating the waste of a process for forming an alignment mark by photolithograph.例文帳に追加

フォトリソグラフィによるアライメントマークを形成する工程の無駄を省き、高精度に位置決めされた状態で液体吐出法によりアライメントマークを形成するパターン形成方法、電気光学装置、及び電子機器を提供すること。 - 特許庁

A spacing between a barrier plate 7 and the bus alignment mark 50 is changed by varying the width of the bus alignment mark 50 in each cell, and variations in spacings among the barrier plate 7, the bus electrode 12 and a discharge electrode 11 are assessed by pattern recognition.例文帳に追加

セル毎にバスアライメントマーク５０の幅を変えることによって、隔壁７とバスアライメントマーク５０の間隔を変化させ、隔壁７と、バス電極１２ひいては放電電極１１との距離のばらつきをパターンに認識で評価する。 - 特許庁

To the alignment marks provided on both sides of the magnetic recording medium 404, an alignment mark provided on a corresponding master disk is matched, and the magnetic pattern formed on a soft magnetic material of the master disk is transferred onto the magnetic recording medium 404.例文帳に追加

磁気記録媒体４０４の表裏面に設けられたアライメントマークに、対応するマスタディスクに設けられたアライメントマークを合致させて、マスタディスクの軟磁性体上に形成された磁気パターンを磁気記録媒体４０４に転写する。 - 特許庁

A dummy substrate to be used for alignment processing is carried from an exposure unit to a substrate processing device, immediately before or immediately after alignment processing has been carried out for adjusting an exposure position of a pattern image in the exposure unit, corresponding to liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光対応の露光ユニットにおいてパターン像の露光位置を調整するアライメント処理を行う直前または直後に、アライメント処理に使用するダミー基板を露光ユニットから基板処理装置に搬送する。 - 特許庁

A protection film 20 including a shape pattern 20a in response to the shape of the piezoelectric substrates 12 and an opening 20b in response to the shape of the alignment marker 18 relative to the alignment of a photo mask or the like is formed on the surface of the piezoelectric wafer 10.例文帳に追加

圧電ウエハ１０の表面には、圧電基板１２の形に応じた形状パターン２０ａと、フォトマスク等の位置合わせ基準となるアライメントマーカー１８の形に応じた開口部２０ｂとを有する保護膜２０が形成される。 - 特許庁

When alignment is performed using an electron beam in the test, the acceleration voltage of the electron beam in the electron beam alignment and the acceleration voltage in the pattern test can be set at different voltages.例文帳に追加

また、この検査において、電子線を用いたアライメントを行う際には、電子線アライメントにおける電子線の加速電圧と、パターン検査における電子線の加速電圧とを、異なる電圧に設定することができるようにする。 - 特許庁

First to fourth alignment marks M_1-M_4, that serve as standards, when determining the position of the drawn pattern, are provided on the peripheral part of the upper face 14U of the lower plate.例文帳に追加

下板上面１４Ｕの周辺部には、描画されるパターンの位置を定める際の基準となる第１〜第４アライメントマークＭ_1〜Ｍ_4が設けられている。 - 特許庁

An inspection system prints an image pattern with a lowered visual sensitivity on the inspection target print image from which the feature point is not extracted, to perform alignment processing.例文帳に追加

特徴点が抽出できない検品対象の印刷画像に、視覚感度の低い画像パターンを印字することで位置合わせの処理を行う検品システム。 - 特許庁

On the alignment mark 45, the first gate electrode 38 is provided and a cover pattern 47 is also provided having the same structure as the first gate electrode 38.例文帳に追加

アライメントマーク４５上には、第１ゲート電極３８が設けられると同時に、第１ゲート電極３８と同じ構造のカバーパターン４７が設けられる。 - 特許庁

Since the second optical part is formed using the first optical part as a pattern, alignment and lamination of the first and the second optical members are not needed.例文帳に追加

第２の光学部品が第１の光学部品を型として作成されるので、第１、第２の光学部品の位置合わせ、貼り付けを行う必要がない。 - 特許庁

This not only prevents the pattern defects due to the level difference caused when carrying out the exposure thereof for forming the sub vernier 104 but also accurately measures the alignment degree thereof.例文帳に追加

それによって、子バーニア１０４を形成するための露光工程時に段差によるパターンの不良を防止して整列度を正確に測定することができる。 - 特許庁

To provide a drawing apparatus capable of drawing a test pattern for adjusting alignment at a high speed and at a high adjusting resolution level, and to provide a drawing method.例文帳に追加

アライメント調整用のテストパターンを高速且つ高い調整分解能レベルで描画可能な描画装置、および描画方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a step-type proximity exposure method by which a measurement position of a gap and a position of an alignment mark can be disposed while avoiding overlapping on an exposure pattern.例文帳に追加

ギャップの測定位置及びアライメントマークの位置を露光パターンに重ならないように設けることができるステップ式近接露光方法を提供する。 - 特許庁

The second wiring pattern 22 is formed so that an orthographic projection 122 onto the first surface 11 may be prevented from both overlapping on and contacting the alignment mark 14.例文帳に追加

第２の配線パターン２２は、第１の面１１への正射影１２２が、アライメントマーク１４とオーバーラップ及び接触のいずれもしないように形成されてなる。 - 特許庁

The alignment layer 3, the light selection reflecting pattern layer 4, the hologram formation layer 5 and the reflective layer 6 may be sequentially layered on one surface of the base material 2.例文帳に追加

基材２の片面に配向膜３、光選択反射パターン層４、ホログラム形成層５および反射性層６を順に積層したものでもよい。 - 特許庁

By etching selectively the layers 2 to 5 and the layer 18, the shape of the alignment pattern growth stopping mask is made to reveal.例文帳に追加

そして、半導体層２乃至５及びクラッド層１８を選択的にエッチングすることにより目合わせパターン成長阻止マスクの形状を発現させる。 - 特許庁

Then, using the step part as an alignment mark, a photo resist pattern for forming an active region on the semiconductor substrate is formed.例文帳に追加

その後、前記段差部をアラインメントマークとして用いて前記半導体基板に活性領域を形成するためのフォトレジストパターンを形成して行われる。 - 特許庁

To mount a semiconductor substrate on a stage and to correct the alignment rotational component at the time of exposure by a stepper when measuring a pattern dimension with a length measurement SEM.例文帳に追加

測長ＳＥＭにてパターンの寸法を測定する際、ステージ上への半導体基板設置、およびステッパによる露光時のアライメント回転成分を補正する。 - 特許庁