「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a precision alignment apparatus in which a marker of high visibility is attached to a workpiece and uses pattern recognition which enables a fine work matching a purpose of the work.例文帳に追加

本発明は、視認度の高いマーカをワークにとりつけ、ワークの目的にあわせて微細な加工ができるパターン認識を利用するものである。 - 特許庁

The alignment method is carried out in process of projecting a pattern (34) drawn on a mask (30) onto a first face (10A) and a second face (10B) of a quartz wafer (10) by exposure.例文帳に追加

本アライメント方法は、マスク（３０）に描かれたパターン（３４）を水晶ウエハ（１０）の第一面（１０Ａ）と第二面（１０Ｂ）とに露光する際のアライメントである。 - 特許庁

To specify the header or footer pattern text, click in the field corresponding to the alignment (Left, Center, or Right) and select one of the buttons below. 例文帳に追加

ヘッダーまたはフッターのパターンテキストを指定するには、位置に対応するフィールド (「左」、「中央」、または「右」) をクリックし、次のいずれかのボタンを選択します。 - NetBeans

Thus, high alignment accuracy can be maintained, even when exposure processing is applied to the lots in which plates of different pattern forming states are mixed.例文帳に追加

これにより、パターンの形成状態の異なるプレートが混在したロットを露光処理する場合においても、高い重ね精度を維持することが可能となる。 - 特許庁

A pattern phase difference film is manufactured by transferring a convex-concave shape formed on a metal mold 13 for transfer onto a transparent sheet material to form an alignment film.例文帳に追加

転写用の金型１３に形成された凹凸形状を透明のシート材に転写して配向膜を形成し、パターン位相差フィルムを製造する。 - 特許庁

An observation of a region including the defect is performed by an atomic force microscope(AFM), and a shape of the defect and a pattern for alignment is extracted from an AFM image.例文帳に追加

原子間力顕微鏡(AFM)で欠陥を含む領域の観察を行い、AFM像から欠陥の形状と位置あわせのためのパターンを抽出する。 - 特許庁

Positions of centers C1 to C4 of the respective four mark figures T1 to T4 constituting the alignment pattern AP are identified based on the obtained accumulated waveforms.例文帳に追加

得られた積算波形に基づいて、アライメントパターンＡＰを構成する４つのマーク図形Ｔ１〜Ｔ４のそれぞれの中心Ｃ１〜Ｃ４の位置を特定する。 - 特許庁

Curing of an alignment pattern 106 of a resist (curing by ultraviolet ray or heat) is performed after ion implantation, and a cured layer 107 is formed on its surface.例文帳に追加

イオン注入後に、レジストからなるアライメントパターン１０６の硬化（紫外線あるいは熱による硬化）を実施し、その表面に硬化層１０７を形成する。 - 特許庁

The processor 6 compares the received signal VO with the prescribed threshold to binarize the signal VO and compares this binarized signal VO with an alignment pattern that is previously inputted.例文帳に追加

画像処理装置６は入力された出力信号ＶＯを予め定める閾値と比較して２値化し、予め入力された整列パターンと比較する。 - 特許庁

REFERENCE VALUE SETTING METHOD, PATTERN DETERMINING METHOD, ALIGNMENT TESTER, SEMICONDUCTOR APPARATUS MANUFACTURING SYSTEM, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACTORY AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加

基準値設定方法、パターン判定方法、アライメント検査装置、半導体装置製造システム、半導体製造工場および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide an alignment drawing apparatus capable of forming an accurate pattern even if dust deposits on a thin substrate which is liable to cause warpage.例文帳に追加

反りが生じやすい薄型の基板に塵埃が付着した場合にも、正確なパターンを形成することができる露光描画装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an interposer that improves precision of alignment between a top-surface pattern and a reverse-surface pattern, even if a semiconductor device using an organic substrate as the interposer has a displacement between the top-surface pattern and reverse-surface pattern or a deformation of the substrate itself, and to provide a method of manufacturing the semiconductor device employing the same.例文帳に追加

有機基板をインターポーザとして用いた半導体装置において、表面パターンと裏面パターンの位置ズレや基板自体の変形があっても、表面パターンと裏面パターンの位置合わせ精度を向上させることができるインターポーザ及びそれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern for a process causing an alignment market to be formed in a first pattern, without carrying out a developing process and then aligning the relative position between the first pattern and second pattern.例文帳に追加

複数のフォト工程で現像工程を経ず、材料形成工程と露光工程のみを繰り返し、最後に一括して現像工程を行う場合、前記第１パターンの現像工程がなくなるため、第１パターンと同時に作成していたアライメントマーカーを第２パターンの露光時に参照することができず、複数のパターン間にずれが生じる。 - 特許庁

In the method of manufacturing the color filter, an R pixel pattern 3, a G pixel pattern 4 and a B pixel pattern 5 are formed on the substrate 2 and the substrate side alignment mark 6 is simultaneously formed on the substrate 2 together with any of the pixel patterns 3, 4 and 5.例文帳に追加

本発明によるカラーフィルターの製造方法において、基板２上にＲ画素パターン３と、Ｇ画素パターン４と、Ｂ画素パターン５とが形成され、同時にこれら画素パターン３、４、５のいずれかとともに基板２上に基板側アライメントマーク６が形成される。 - 特許庁

A plurality of pattern-like apertures 30A for depictions are formed in a film 30B of the stencil mask 30, and the film thickness of its alignment pattern 30E used for aligning it with the wafer is made smaller than the film thickness of its film 30B having the formed pattern-like apertures for depictions.例文帳に追加

膜部３０Ｂに複数のパターン状の描画用開口３０Ａが形成されるとともに、ウエハとの位置合わせに使用するアライメントパターン部分３０Ｅの膜厚を、パターン状の描画用開口が形成されている膜部３０Ｂの膜厚より小とする。 - 特許庁

The alignment pattern used for patterning wiring of an aluminum film 15 comprises a planar shape of an inclining face formed between the upper edge of an alignment hole 12 opened in a BPSG film 20 on a silicon substrate 18, and the surface of a tungsten plug 14 filling the alignment hole 12 wherein the alignment hole 12 is formed deeper than the thickness of the BPSG film 20.例文帳に追加

シリコン基板１８上のＢＰＳＧ膜２０に開けられた目合わせ用ホール１２の上端エッジと、目合わせ用ホール１２に埋設されたタングステンプラグ１４表面との間に形成される傾斜面の平面形状からなり、アルミニウム膜１５の配線パターニングに用いられる目合わせパターンであって、目合わせ用ホール１２の深さを、ＢＰＳＧ膜２０の膜厚より深く形成した。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a plane antenna capable of performing position alignment between the center of radiating slot pattern and the center of power feeding slot pattern easily and accurately, and a high-performance plane antenna at a low price.例文帳に追加

放射用スロットパターンの中心と給電用スロットパターンの中心との位置合わせを容易にかつ精度良く行うことができる平面アンテナの製造方法、及び安価で高性能な平面アンテナを提供する。 - 特許庁

To dispense with fine alignment between a contact terminal of a printed circuit board inspection device and a pattern for inspecting the function of the printed circuit board, and to avoid the mounting efficiency of the printed circuit board from being degraded by the pattern for inspecting function.例文帳に追加

プリント基板検査装置の接触端子とプリント基板の機能検査用パターンとの細かな位置合わせを不要とし、かつ、機能検査用パターンによってプリント基板の実装効率が損なわれないようにする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a multilayer printed-wiring board capable of accurately forming the place of the circuit pattern of the next layer by using an alignment mark in response to a previously formed circuit pattern.例文帳に追加

本反発明は、既に形成された回路パターンに対応して、次の層の回路パターン位置をアライメントマークを用い精度よく形成することのできる多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing an illuminative decorative sheet and illuminative decorative molded goods which allow the exact alignment of light shielding pattern parts and translucent pattern parts and have light shieldability and translucency which are sure even after premolding.例文帳に追加

遮光パターン部と透光パターン部とが正確に位置合わせでき、予備成形後も確実な遮光性および透光性を有する照光性加飾シートと照光性加飾成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To perform accurate alignment of a bendable stamper so that positions of the regions to which a rugged pattern is transferred are aligned between a plurality of clad materials or core materials to which a rugged pattern is transferred.例文帳に追加

凹凸パターンが転写される複数のクラッド材又はコア材相互間において、凹凸パターンが転写される領域の位置がそろうように、屈曲性スタンパの位置合わせ（アライメント）を精度良く行なえるようにする。 - 特許庁

To provide a production method of an original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display, for easy and mass production with high accuracy of a pattern retardation film, which is planar and has no roughness, for a three-dimensional display device.例文帳に追加

凹凸のない平面状の３次元表示装置用パターン位相差フィルムを、高精度で容易かつ大量に製造するための、３次元表示用パターン配向膜用原版の製造方法を提供する。 - 特許庁

For aligning the number of stripes of interference pattern to be within a target number in a specific tolerance range, alignment processing including processing for detecting the number of the stripes of the interference pattern (step S201) is conducted.例文帳に追加

干渉縞の縞本数が、所定の許容範囲である目標縞本数範囲内となるようにアライメントを行うため、干渉縞の縞本数を検出する処理を含むアライメント処理が行われる（ステップＳ２０１）。 - 特許庁

The counter substrate has a color filter 30 formed on a glass substrate, a counter electrode 32 formed on the color filter, an alignment film 33 formed on the counter electrode 32, and a protruding pattern 40 and a plurality of columnar spacers 42 for alignment division protruding from the alignment film to the array substrate.例文帳に追加

対向基板は、ガラス基板上に形成されたカラーフィルタ３０と、このカラーフィルタ上に形成された対向電極３２と、対向電極上に形成された配向膜３３と、配向膜からアレイ基板に向かって突出した配向分割用の突起パターン４０および複数の柱状スペーサ４２と、を有している。 - 特許庁

Also, in the alignment apparatus, there is provided a photographing means for photographing the alignment marks provided in the wafer, and such a filter is provided in the optical path of the photographing means that it has a transmittance not smaller than a predetermined value in the wavelength wherein the transmittance of the spectral transmittance characteristic of the alignment pattern has a local-maximum value.例文帳に追加

また、アライメント装置において、ウエハに設けられた位置合わせ用のマークを撮像する撮像手段を備え、この撮像手段の光路中にフィルタを配置し、このフィルタをアライメントパターン部分の分光透過率特性における透過率の極大値となる波長において所定値以上の透過率を有するものとする。 - 特許庁

A standard waveform, having a highest matching rate with the detected waveform of an alignment mark which is detected by alignment in the case of pattern exposure, is selected from among the plural standard waveforms stored in the signal database and position data corresponding to that standard waveform are applied as a center position O of this alignment mark.例文帳に追加

そして、シグナルデータベースに格納された複数の標準波形のうち、パターン露光の際のアライメントで検出されたアライメントマークの検出波形とのマッチング率の一番高い標準波形を選択し、その標準波形に対応する位置データをこのアライメントマークの中心位置Ｏとして付与する。 - 特許庁

An alignment mark is constituted of at least two or more different light shielding films on a photomask consisting of a transparent substrate and the light shielding films, an alignment pattern is formed on one light shielding film layer out of the two or more light shielding films, and exposed light is shielded by the alignment mark part.例文帳に追加

透明基板および遮光膜からなるフォトマスクにおいて、少なくともアラメントマーク部が２層以上の異なる遮光膜から構成され、前記アライメントマーク部の２層以上の遮光膜の１層にアライメントパターンが形成されており、前記アライメントマーク部は露光光を遮光することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a multi-layer printed wiring board which can be manufactured by an exposure method, in which visibility of an alignment mark is enhanced, recognition of the alignment mark and aligning are executed automatically, alignment accuracy is enhanced, and productivity is improved, when exposure of a pattern is executed to a PSR resin layer in a multi-layer printed wiring board, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

多層プリント配線板において、ＰＳＲ樹脂層にパターンを露光照射する時、アライメントマークの視認性が向上し、アライメントマークの認識及び位置合わせを自動的に行い、アライメント精度が向上、生産性が向上する露光照射方法で製造する多層プリント板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In a metal layer having a wiring pattern and an alignment mark 120 formed by electrolytic plating as a lead for electrolytic plating, a protective mask 150 is formed over the alignment mark and the periphery thereof, the metal layer and the wiring pattern are roughened and then the protective mask is removed.例文帳に追加

金属層を電解めっき用リードとして、電解めっきにより形成された配線パターンおよびアライメントマーク１２０を有する金属層において、少なくとも、アライメントマークおよびその周辺部分に保護マスク１５０を形成し、金属層および配線パターンに粗化処理を施した後、保護マスクを除去する。 - 特許庁

While keeping the peak position of alignment sensitivity as an entire second lens array 21e, a light-shielding pattern having, such alignment sensitivity such that a light reduction rate to the peak position becomes large is specified by simulation, and a predetermined cell lens which is shielded from light by a mask 15 is selected, in accordance with the specified light shielding pattern.例文帳に追加

第２レンズアレイ２１ｅ全体としてのアライメント敏感度のピーク位置を保ったまま、そのピーク位置に対する減光率が大きくなるようなアライメント敏感度を持つ遮光パターンをシミュレーションにより特定し、特定した遮光パターンに従ってマスク１５により遮光する所定のセルレンズを選択する。 - 特許庁

The substrate 5 is carried in an exposure apparatus, the position of the alignment mark 6 is detected by an alignment scope 24 to position the substrate 5 at a position where a pattern 8 with a second inspection mark 9 on a mask 1 aligns with the first inspection mark 7 on the substrate 5, and the pattern 8 with the second inspection mark 9 is exposed and transferred onto the substrate 5.例文帳に追加

続いて、露光装置に基板５を搬入して、アライメントスコープ２４でアライメントマーク６の位置を検出して、マスク１上の第２の検査マーク９のパターン８が基板５上の第１の検査マーク７と一致する位置に基板５を位置決めした後、第２の検査マーク９のパターン８を基板５上に露光転写する。 - 特許庁

The alignment controlling protrusion of the color filter is the alignment controlling protrusion 39 formed by grinding a pattern 37 with a nearly rectangular planar shape and a nearly rectangular sectional shape or a pattern with a circular planar shape and a nearly rectangular sectional shape formed by using a photoresist so as to form a protrusion with the circular arc shaped sectional shape.例文帳に追加

配向制御用突起が、フォトレジストを用いて形成した平面形状及び断面形状が略矩形状のパターン３７、或いは平面形状が円形状で断面形状が略矩形状のパターンを研磨して、その断面形状を円弧状の突起に形成した配向制御用突起３９であることを。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display device comprises: a process of forming an electrode layer 120a for pixel electrode on a first substrate 100; a process of forming a prescribed alignment layer pattern 500 on the electrode layer 120a for pixel electrode; and a process of patterning the electrode layer 120a for pixel electrode by using the alignment layer pattern 500 as a mask and forming a pixel electrode pattern 120.例文帳に追加

第１基板１００上に画素電極用電極層１２０ａを形成する工程と、画素電極用電極層１２０ａ上に所定の配向膜パターン５００を形成する工程と、配向膜パターン５００をマスクにして画素電極用電極層１２０ａをパターニングし、画素電極パターン１２０を形成する工程と、を含んで液晶表示素子の製造方法を構成する。 - 特許庁

The photomask comprises: a frame body which is made of quartz glass and has an opening part; and a mask pattern formation part which is disposed on the opening part and is made of quartz glass formed of a mask pattern, wherein the frame body and the mask pattern formation part respectively have alignment marks for alignment, and the frame body is joined to the mask pattern formation part with a joint member.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、石英ガラスからなり、開口部を有する枠体と、上記開口部に配置され、マスクパターンが形成された石英ガラスからなるマスクパターン形成部とを有し、上記枠体および上記マスクパターン形成部はそれぞれ位置合わせ用のアライメントマークを有し、上記枠体および上記マスクパターン形成部が接合部材によって接合されていることを特徴とするフォトマスクを提供する。 - 特許庁

By having a structure in which a perfect Cr shading part is a self-alignment type, a dicing mark part is a Cr recessing type and a pattern part is a HT pattern, the resist shape on the wafer after photomask pattern exposure can be improved and the defect detection sensitivity in the photomask defect inspection can be sufficiently obtained.例文帳に追加

完全Ｃｒ遮光部はセルフアライン型、ダイシングマーク部はＣｒ後退型、パターン部はＨＴパターンという構造を有することにより、フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスク欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができる。 - 特許庁

By combining the first and second transferring motions of the transfer robot, and the conveying motions of the first and second alignment conveyors 55, 56, the bag cargos 12 are taken out two by two by the transfer robot, and aligned on the basis of the stacking pattern on the alignment part 25.例文帳に追加

移載ロボットの第１および第２の移載動作と第１および第２の配列コンベヤ55，56の搬送動作との組み合わせにより、移載ロボットで袋物12を２個ずつ取り扱って配列部25上で積付パターンに袋物12を配列する。 - 特許庁

To provide miniaturizable exposure equipment of alignment division type capable of normally exposing an alignment material film in a predetermined pattern even if the inclination angle of exposure light relative to an exposure object surface needs to be made small.例文帳に追加

配向分割方式の露光装置において、露光光が露光対象面に対して傾斜する角度を小さくする必要がある場合でも配向材料膜を所定のパターンで正常に露光することができ、小型化できる露光装置を提供する。 - 特許庁

In the <1-100> direction where the growth speed of the crystal is slow at a portion, where the interval D_1 of the alignment mark 15A is larger than the interval D_2 at the seed crystal section 15, an interval D_3 of the pattern of the alignment mark 15A should be 4 μm or less.例文帳に追加

なお、アライメントマーク１５Ａのパターンの間隔Ｄ_1 が、種結晶部１５の間隔Ｄ_2 より大きいところでは、結晶の成長速度が遅い＜１—１００＞方向において、アライメントマーク１５Ａのパターンの間隔Ｄ_3 を４μｍ以下とする。 - 特許庁

To provide the manufacture of a semiconductor device, which can automatically recognize alignment marks and performs alignment automatically and accurately and can form a wiring pattern precisely, even if the thickness of a wiring film becomes large, in a semiconductor device for high power.例文帳に追加

ハイパワー用の半導体装置で、配線膜の厚さが厚くなっても、アライメントマークを自動的に認識することができ、自動で、かつ、正確に位置合せをして配線パターンを精密に形成することができる半導体装置の製法を提供する。 - 特許庁

When the alignment marker 3 of the upper transparent substrate 1 is recognized by a recognizing camera 6, the lower transparent substrate 2 is moved to the right side to recognize the alignment marker 3 on the left side through a bare transparent substrate part 7 having no pattern part 4 of the lower transparent substrate 2.例文帳に追加

上透明基板１のアライメントマーカ３を認識用カメラ６で認識する際に、下透明基板２を右側に移動させて、下透明基板２のパターン部分４のない素透明基板部分７を通して左側のアライメントマーカ３を認識する。 - 特許庁

The pattern forming method which has the process step of previously forming the alignment markers on a first thick film in a first thick film forming process step and references the alignment markers in the exposing process step of a second thickness film.例文帳に追加

第１厚膜形成工程において、あらかじめ第１厚膜上にアライメントマーカーを形成する工程を有し、第２厚膜の露光工程において、前記アライメントマーカーを参照することを特徴とするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To improve a test pattern that is printed to distinguish the displacement of the alignment of print heads from a print head property that affects the ejection of ink from the print heads, and to provide a method for analyzing image data corresponding to the printed test pattern.例文帳に追加

プリントヘッド配向のずれと、プリントヘッドからのインクの射出に影響を与えるプリントヘッド特性と、を識別するため、印刷されるテストパターンを改良、および印刷されるテストパターンに対応する画像データの分析法を提供する。 - 特許庁

The wiring board 1 includes a light transmissive substrate 10, an alignment mark 14 and a first wiring pattern 21 which are formed on a first surface 11 of the substrate 10, and a second wiring pattern 22 formed on a second surface 12 of the substrate 10.例文帳に追加

配線基板１は、光透過性の基板１０と、基板１０の第１の面１１に形成されたアライメントマーク１４及び第１の配線パターン２１と、基板１０の第２の面１２に形成された第２の配線パターン２２と、を含む。 - 特許庁

In a step for forming a laminate 18, an alignment pattern 14a that can be visually recognized through an area 24 exposing along two continuous peripheries 26a, 26b on the upper surface of the laminate 18 is formed as a conductor pattern.例文帳に追加

積層体１８を形成する工程において、積層体１８の上面の連続する二つの周辺２６ａ，２６ｂに沿って露出した領域２４を介して視認されるアライメントパターン１４ａを導体パターンとして形成する。 - 特許庁

The wiring board 1 includes a substrate 10 with light transparency; an alignment mark 14 and a first wiring pattern 21 formed on a first face 11 of the substrate 10, and a second wiring pattern 22 formed on a second face 12 of the substrate 10.例文帳に追加

配線基板１は、光透過性の基板１０と、基板１０の第１の面１１に形成されたアライメントマーク１４及び第１の配線パターン２１と、基板１０の第２の面１２に形成された第２の配線パターン２２と、を含む。 - 特許庁