「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes a step of forming the alignment film on a substrate having an electrode pad at a position corresponding to a transfer electrode for applying a voltage to a common electrode, and a step of locally etching the alignment film to expose the electrode pad without using a mask pattern.例文帳に追加

共通電極に電圧を印加するトランスファ電極に対応する電極パッドを備える基板上に配向膜を形成する段階と、前記電極パッドを露出させるようにマスクパターンを用いずに前記配向膜をエッチングする段階とを有する。 - 特許庁

Since an axial direction displacement mechanism for adjusting the alignment of the pattern to be transferred and a phase adjusting mechanism are provided for the plate cylinders 2a, 2b and/or the blanket cylinders 3a, 3b, in addition, the alignment can be adjusted for each of the divided drawing areas 7a, 7b.例文帳に追加

また、転写される絵柄のアライメントを調整する軸線方向変位機構および位相調整機構を版胴２ａ，ｂ及び／又はブランケット胴３ａ，ｂに設けることとしたので、分割された描画領域７ａ，ｂごとにアライメント調整を行うことができる。 - 特許庁

To provide a method for determining process alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask to be used for the manufacture of a semiconductor device, and to provide a method for determining photoresist pattern alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask.例文帳に追加

半導体装置の製造で用いられる位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時の処理アライメントの決定方法、位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時のフォトレジストパターンアライメントの決定方法を提供する。 - 特許庁

The exposure device EX comprises an exposure unit which exposes a substrate P to be exposed with a circuit pattern, and an alignment system 4 provided to penetrate the substrate P and to detect the position of the substrate P by passing light through an alignment mark AM becoming a position reference of exposure.例文帳に追加

本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a phase shifting mask in which dislocation of a resist pattern due to the waveguide effect of a Levenson phase shifting mask is suppressed and high alignment accuracy can be attained and to provide a method therefor and a pattern forming method.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスクの導波路効果に起因するレジストパターンの位置ずれの発生を抑制し、高度の位置合わせ精度を達成することが可能な位相シフトマスクの作製装置及び作製方法並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The alignment mark includes a set of mutually parallel conductor tracks from which the diffracted radiation is collected, and the pattern is determined by a pattern in which the pitch between successive tracks is varied as a function of position along the surface of the product.例文帳に追加

アライメントマークは、それから回折された放射が収集される相互に平行な導電体トラックのセットを備え、そのパターンは連続するトラックの間のピッチが、製品の表面に沿った位置の関数として変化するパターンによって決定される。 - 特許庁

Subsequently the two display panels 1, 2 are superposed on each other, and then a pattern generated by superposition of the alignment patterns (superposition pattern) is shot with a camera 16 located on the outside of the moving range of the display panel 1 while making the one display panel 2 move.例文帳に追加

その後、２枚の表示パネル１，２を重ね合わせた後、一方の表示パネル２を移動させながらアライメントパターンの重なりによって生じるパターン（重なりパターン）を、表示パネル１の移動範囲の外側に配置したカメラ１６で撮影する。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine uneven pattern on a substrate using a resin film, which can form the uneven pattern accurately at a position at which the uneven pattern is to be formed on the substrate even when the dispersion in shrinking ratios of the resin film, the change in temperature in an alignment step or the like occurs.例文帳に追加

樹脂製フィルムを用いて基板上に微細な凹凸パターンを形成する方法であって、樹脂製フィルムの収縮率のバラつきや位置合わせ工程における温度変化等があっても、基板上の凹凸パターンを形成すべき位置に精確に凹凸パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a casting pattern which can implement the correct alignment of sand molds to each other in manufacturing them, suppress the deformation of the casting pattern itself in manufacturing the molds, and prevent the breakage in manufacturing the casting pattern for manufacturing the sand molds in manufacturing castings.例文帳に追加

鋳造品製造のための砂型等を製作するための鋳造用模型の作製において、砂型等の製作の際の型同士の正確な位置合わせを可能とし、また型の製作時における鋳造用模型自体の変形を抑制する共に破損をも防止しうるような鋳造用模型の作製方法を提案する。 - 特許庁

This alignment mark is formed in a manner whereby a a first film (insulating film) 2 transparent to light for mask alignment is formed on the prescribed region of a semiconductor substrate, and a second film (conductive film) 4 which is formed like a diffraction grating pattern composed of islands and provided on the first film 2 to reflect the mask aligning light.例文帳に追加

半導体基板１上の所定の領域に、マスク合わせ用の光に対して透明性の第１の膜（絶縁膜２）を形成し、その第１の膜上に、複数の島状体からなる回折格子パターンで、マスク合わせ用の光を反射する第２の膜（導電膜４）を形成する。 - 特許庁

In the alignment method of a semiconductor device utilizing aluminium interconnect lines 30 on the uppermost layer of a semiconductor substrate 10 as an alignment pattern for trimming, thickness of an antireflection film 30a on the surface of the aluminium interconnect lines 30 is set in the range of 200-400 Å.例文帳に追加

半導体基板１０上の最上層のアルミニウム配線３０をトリミング用のアライメントパターンとして利用する半導体装置のアライメント方法において、上記アルミニウム配線３０の表面の反射防止膜３０ａの膜厚を２００Å〜４００Åとする。 - 特許庁

On a reference mark plate FM, four reference marks WM_1, WM_2, WM_3, WM_4 for measuring the base line of an alignment system ALG are disposed in such a layout that the mean position of these marks aligns with the position of a measuring pattern ST for detecting a reticle alignment mark RM.例文帳に追加

基準マーク板ＦＭには、アライメント系ＡＬＧのベースライン計測用の４つの基準マークＷＭ_１，ＷＭ_２，ＷＭ_３，ＷＭ_４の平均位置が、レチクルアライメントマークＲＭを検出する計測用パターンＳＴの位置と一致するような配置で形成されている。 - 特許庁

In a substrate 9 which is the processing target for a pattern drawing apparatus, a plurality of alignment marks 60, each of which being an information recording code for recording the relative position between a reference position on the substrate 9 and itself, are formed in an assembled state in a predetermined domain as an alignment region 92.例文帳に追加

パターン描画装置が処理の対象とする基板９においては、アライメント領域９２としての所定の範囲内に、それぞれが基板９上の基準位置と自身との相対位置を記録した情報記録コードである複数のアライメントマーク６０が集合して形成されている。 - 特許庁

In a pattern drawing device, an alignment mark on a substrate is captured at a low resolution for acquiring a target image, thus acquiring a plurality of target profiles, namely, the distribution of pixel values on a plurality of straight lines crossing a plurality of positions of each edge in the alignment mark in the target image.例文帳に追加

パターン描画装置では、基板上のアライメントマークが低解像度にて撮像されて対象画像が取得され、対象画像中のアライメントマークの各エッジの複数の位置を横断する複数の直線上の画素値の分布である複数の対象プロファイルが取得される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal device with which an alignment layer excellent in film thickness uniformity is formed and generation of tilt irregularity is suppressed even when a printing method such as flexographic printing is used, by forming an alignment layer having a non-rectangular planar pattern.例文帳に追加

配向膜の平面形状を非矩形状とすることにより、フレキソ印刷法等の印刷手法を用いた場合であっても、膜厚均一性に優れた配向膜を形成し、ティルトムラの発生を少なくすることができる液晶装置の製造方法及び液晶装置を提供する。 - 特許庁

After a resist film 12 is formed to cover the wiring material layer 7, the surface recesses 6a of the conductive material layers 6 composing the alignment marks A are detected, to detect the positions of the alignment marks A which are used as references, when pattern exposure is applied to the resist film 12.例文帳に追加

配線材料層７を覆う状態でレジスト膜１２を形成した後、アライメントマークＡを構成する導電性材料層６表面の窪み６ａを検出することによってアライメントマークＡの位置を検知し、これを基準にしてレジスト膜１２に対してパターン露光を行う。 - 特許庁

The functions of a protective layer and the alignment layer can be simultaneously performed by patterning the pixel electrode on a source and a drain electrodes and then immediately vapor-depositing polyimide resin on the entire surface of the pattern from a stage for forming a substrate to a stage for forming the alignment layer in the manufacturing process of the liquid crystal display device.例文帳に追加

本発明によると、液晶表示装置の製造過程の中、基板から配向膜まで形成する段階でソース及びドレイン電極上に画素電極をパターンニングしてすぐポリイミド樹脂を全面蒸着することで保護層及び配向膜の機能を同時に遂行できるようになる。 - 特許庁

In a pattern drawing apparatus, the alignment mark on an object side of a substrate which is a drawing object is imaged on an image pick-up portion 15 via the optical system for drawing by the observation light with a wavelength different from that of the drawing light, and the alignment mark is memorized in a memory 31 as a mark image intensity distribution 311.例文帳に追加

パターン描画装置では、描画対象である基板の対象面上のアライメントマークが描画光の波長とは異なる波長の観察光により描画用の光学系を介して撮像部１５にて撮像され、マーク像強度分布３１１として記憶部３１に記憶される。 - 特許庁

Substrates 10 for multilayered wiring are laminated upon another by passing alignment pins 101 through through holes 19 for alignment formed in conductive paste 18 packed in through holes formed through the insulating substrates 11 at positions separated from the wiring pattern sections 12 of the substrates 11.例文帳に追加

絶縁性基材１１の配線パターン部１２とは離間した位置にある貫通孔に充填された導電性ペースト１８にアライメント用貫通孔１９をあけ、このアライメント用貫通孔１９にアライメントピン１０１を通して多層配線用基材１０を積層させる。 - 特許庁

In manufacturing the substrate, constituting the liquid crystal display device with a liquid crystal interposed between itself and the facing substrate, and having at least the alignment control protrusions, the alignment control protrusions are formed by pattern inversion effect of a positive photosensitive resin composition.例文帳に追加

対向する基板との間で液晶を挟持する液晶表示装置を構成する、少なくとも配向制御用突起を有する基板の製造において、該配向制御用突起が、ポジ型感光性樹脂組成物のパターン反転効果により形成されてなるものとする。 - 特許庁

In the precision alignment apparatus, a plate (a liquid crystal display substrate) 27 of a light emitting element is set on a stage 19 and a stage 24, a pattern of the substrate 27 is controlled, and a place to be spotted is marked (turned on).例文帳に追加

本発明では、発光素子のプレート（液晶表示基板）２７がステージ１９、２４上にセットされ、基板２７のパターンを制御してスポッティングする場所をマーキング（点灯）させる。 - 特許庁

In a pattern inspection of an Nth substrate to be inspected, other than first one, among a plurality of substrates to be inspected, an N-1th alignment position O3, O4 is detected in step S30.例文帳に追加

複数の被検査基板のうち、第１番目を除く第Ｎ番目の被検査基板のパターン検査において、ステップＳ３０では第Ｎ−１番目のアライメント位置Ｏ３、Ｏ４を検出する。 - 特許庁

To provide an alignment mark forming device capable of carrying out the positioning of a pattern formed on both sides of a substrate without employing through-hole even though having simple constitution.例文帳に追加

簡易な構成でありながら、貫通孔を使用することなく、基板の両面に形成されるパターンの位置決めを実行することが可能な、アライメントマーク形成装置を提供すること。 - 特許庁

While the alignment mark 10 is superposed upon the reference mark 20 and parallel light rays are projected from the upper surface of the mark 10, the light quantity at the position corresponding to each pattern is detected on the lower surface of the reference mark 20.例文帳に追加

両マーク１０，２０を重ね合わせ、アライメントマーク１０の上面から平行光を照射し、基準マーク２０の下面で各パターンに対応する位置での光量を検出する。 - 特許庁

An imprint device is equipped with: a discharging mechanism 7 for discharging the uncured resin to a substrate 2; a detector 9 for detecting the alignment mark disposed on a pattern face of a mold 3; and a control part C.例文帳に追加

インプリント装置は、未硬化樹脂を基板２に吐出する吐出機構７と、型３のパターン面に配置されたアライメントマークを検出する検出器９と、制御部Cと、を備える。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display element in which the influence of an alignment defect occurring in the vicinity of an end portion of a slit on the display of a contour portion of a display pattern can be prevented or reduced.例文帳に追加

スリットの端部近傍で発生する配向欠陥の、表示パターンの輪郭部の表示への影響を防止又は軽減することができる液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

In the mold with the pattern formed by a fine uneven shape, alignment marks for determining the relative positional relationship between the substrate and the mold are attached in the shape of a concentric circle to at least two spots.例文帳に追加

微細な凹凸形状によりパターンを形成したモールドに、基板とモールドとの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを同心円状に２箇所以上にする。 - 特許庁

To provide technique for forming a pattern on a substrate while suppressing the position shift by enabling detection of a position shift of an underlying mark from an alignment mark formed on the substrate.例文帳に追加

下地マークと基板上に形成されたアライメントマークとの位置ずれを検出することを可能とし、位置ずれを抑えながら基板上にパターンを形成することができる技術を提供する。 - 特許庁

Prealignment is performed on the circuit board in a process separate from a hole machining process by using an alignment device to make position data for indicating a position of the hole machining in a pattern in the circuit board.例文帳に追加

予め回路基板にアライメント装置を用いて孔加工工程とは別工程でプリアライメントを行い、回路基板内のパターンにおける孔加工の位置を示す位置データを作成する。 - 特許庁

The user calls a setting screen of an output paper setting part 22 of a printer driver 20 from a user interface of an application 10 and sets the size of each sheet of output paper and an alignment pattern.例文帳に追加

ユーザは、アプリケーション１０のユーザインタフェースからプリンタドライバ２０の出力用紙設定部２２の設定画面を呼び出し、出力用紙１枚のサイズと配列パターンを設定する。 - 特許庁

Additionally, in the internal lottery, it is determined whether or not to announce that the special winning is obtained before a pattern arrangement associated with the special winning is done in alignment on an effective line.例文帳に追加

また、この内部抽選において、特別入賞にかかる図柄配列が有効ライン上に並ぶ前に特別入賞が当選したことを報知するか否かが決定される。 - 特許庁

The core layer 13 includes an optical circuit and an optical waveguide pattern 133 for alignment purpose, which are composed of a core part having a higher refractive index compared with the peripheral parts.例文帳に追加

コア層１３には、光回路およびアライメント用光導波路パターン１３３が設けられており、これらは周囲の部分に比べて屈折率が高いコア部で構成されている。 - 特許庁

The compensation means decreases the birefringent effect which is caused by tilt alignment of liquid crystal molecules near the edge of the protruding pattern and which affects the light propagating in the thickness direction of the liquid crystal layer.例文帳に追加

補償手段は、突起パターンの縁近傍の液晶分子が傾斜配向することに起因し、液晶層の厚さ方向に伝搬する光に作用する複屈折効果を軽減する。 - 特許庁

To provide a system and a method capable of measuring or detecting alignment patterns of an upper layer and one or a plurality of layers formed precedently before the formation of the next feature pattern.例文帳に追加

次のフィーチャパターンの形成前に、上部の層および先行して形成される１つまたは複数の層のアライメントパターンを測定または検出できるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

Related to the alignment mark, around a cross-shaped mark main body part 1 formed as a solid pattern of an aluminum layer 3, a diffusion reflection layer of aluminum is formed.例文帳に追加

本発明のアライメントマークでは、アルミニウム層３のベタパターンとして形成された十字形状のマーク本体部１の周辺領域に、アルミニウムから成る拡散反射層が形成されている。 - 特許庁

Accordingly, the field alleviating layer having the amount of gate overlap defined by the widths L1 and L2 of the space of the first insulating film pattern is formed in the self-alignment process manner in the gate electrode 111.例文帳に追加

よって、第１の絶縁膜パターンのスペースの幅Ｌ１、Ｌ２で画定されたゲートオーバーラップ量を有する電界緩和層を、ゲート電極１１１に自己整合的に形成する。 - 特許庁

Moreover, a relative position to the transfer pattern to be imprinted is pinpointed, and formed in one surface of the mask membrane, so that an alignment mark composed of a recess shallower than the thickness of a mask membrane may be formed.例文帳に追加

さらに、被転写パターンとの相対位置が特定され、前記マスクメンブレンの一方の面に形成され、マスクメンブレンの厚さよりも浅い凹部で構成されたアライメントマークが形成されている。 - 特許庁

A score calculation part 31 calculates a matching score corresponding to an optimal alignment where similarity between the event data series and the standard pattern series becomes largest on the basis of dynamic programming.例文帳に追加

スコア算出部３１は、イベントデータ系列と基準パターン系列との間の類似度が最も高くなる最適アラインメントに対応するマッチングスコアを、動的計画法に基づいて算出する。 - 特許庁

To provide an exposure method which achieves satisfactory alignment even in a terminal part in a moving direction in an exposure area, when forming a color pixel by slit exposure to a pattern of a black matrix.例文帳に追加

ブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光で着色画素を形成する際、露光領域の移動方向末端部にても位置合わせが良好な露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a printed wiring board used in various electronic apparatus in which the circuit pattern and solder resist can be formed with extremely excellent alignment accuracy.例文帳に追加

各種電子機器に用いられるプリント配線板において、その回路パターンとソルダレジストを極めて優れた合致精度により形成する製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Especially, each drive IC 20 is arranged, out of alignment with the center in a direction along the outer periphery of the display panel DP so as to make the wiring pattern of the corresponding flexible wiring board 21 asymmetric.例文帳に追加

特に、各駆動ＩＣ２０は対応フレキシブル配線板２１の配線パターンを非対称にするように表示パネルＤＰの外縁に沿った方向において中央からずれて配置される。 - 特許庁

To provide a pattern layout that can prevent changes in transistor characteristics caused by rounding which generates inside a corner of a diffusive region or a gate wiring and by an alignment error of a mask.例文帳に追加

拡散領域あるいはゲート配線の角部内側に発生する丸まりとマスクの位置合わせ誤差とに起因するトランジスタ特性の変動を防止し得るパターンレイアウトを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can simply decrease the error of alignment between a plurality of layers, and reduce an environmental load and an electronic device manufacturing method.例文帳に追加

複数レイヤー間の位置合わせ誤差を小さくすることができ、簡便で環境負荷を低減させることが可能となるパターン形成方法および電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

An LC material is then deposited on the substrate in direct contact with the photo-alignable material, so that an LC director is aligned according to the photo-induced vortex alignment pattern.例文帳に追加

次に、基板の上に、光配列可能材料と直接接触してＬＣ材料が付着され、それにより、光誘導された渦配列パターンに従ってＬＣディレクタが配列する。 - 特許庁

An alignment mark comprises an OUT-LINE100 and an IN-LINE110 having a pattern profile comprising four sides obtained excluding four corners from a rectangle.例文帳に追加

合わせマークは，矩形から４つの角部（４隅）を除外して得られる４本の辺からなるパターン形状を有するＯＵＴ−ＬＩＮＥ１００とＩＮ−ＬＩＮＥ１１０により構成される。 - 特許庁