「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, the signal light 5 is broken, reading light 6 of S polarization is applied to the optical storage medium 10, the first hologram is reproduced as diffraction light 8 of S polarization, its intensity is detected by a photo detector 53s, and the recording/reproducing head 20 is aligned to the optical storage medium 10 based on the detection signal of the alignment pattern included in the first hologram.例文帳に追加

次に、信号光５は遮断し、Ｓ偏光の読み出し光６を光記録媒体１０に照射して、第１のホログラムをＳ偏光の回折光８として再生し、その強度を光検出器５３ｓにより検出して、第１のホログラムに含まれている位置合わせ用パターンの検出信号に基づいて、記録再生ヘッド２０と光記録媒体１０の位置合わせをする。 - 特許庁

A controller 30 conducts the sampling of a supply capacity of the article 1 on the article supply conveyor 3 using a detector 20, extracts the maximum value of the supply capacity of the article 1 based on the sampling data, and adjusts the treating capacity of the article 1 on the alignment conveyor 2 using an established value of the operation pattern suitable for the maximum value.例文帳に追加

そして、制御装置３０が、検出手段２０を用いて物品供給コンベア３での物品１の供給能力のサンプリングを行い、このサンプリングデータに基づいて物品１の供給能力の最大値を抽出し、この最大値に適合する運転パターンの設定値を用いて整列コンベア２での物品１の処理能力を調整する方法である。 - 特許庁

The alignment method comprises a process of fixing the substrate 1 with the magnetic layer 2 formed thereon to the substrate holder 3 by the magnetic force generated from the electromagnet, and setting the position of the mask 4 to the flexible substrate 1 in the above state, a process of forming a pattern using the mask 4, and a process of separating the flexible substrate 1 from the substrate holder 3 by turning-off the electromagnet.例文帳に追加

そして、磁性膜２が形成されたフレキシブル基板１を電磁石から発生する磁力により基板ホルダ３に固定し、この状態でフレキシブル基板１とマスク４との位置合わせを行う工程と、上記マスク４を用いてパターン形成を行う工程と、上記電磁石をオフして上記フレキシブル基板１を基板ホルダ３から分離する工程とを有する。 - 特許庁

In the alignment mark Sm composed of a mask mark Mm given to a mask M having a specified pattern and of a work mark Wm given to a substrate W so as to align the mask and the substrate, the work mark is composed of a first reference mark Km_1 formed as penetrating the substrate and of a second reference mark Km_2 formed near the first reference mark and not penetrating the substrate.例文帳に追加

所定のパターンを備えるマスクＭに設けたマスクマークＭｍと、基板Ｗに設けたワークマークＷｍとにより前記マスクおよび前記基板の整合作業を行う整合マークＳｍにおいて、前記ワークマークは、その基板に貫通して形成した第一基準マークＫｍ_1と、この第一基準マークの近傍で前記基板に非貫通に形成した第二基準マークＫｍ_2とから構成される整合マークとした。 - 特許庁

The embossing apparatus forming an emboss pattern of the projecting parts along the transporting direction on the side end parts of the thermoplastic resin film belt-like on the film has a process of using the embossing apparatus provided with a cooling device for blowing air to control the bearing temperature of the roller with the projecting parts to ≤300°C and an automatic alignment bearing as an embossing mark uniformity adjusting mechanism.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムの側縁部に搬送方向に沿った突起部のエンボス模様をフィルムに帯状に形成するエンボス加工装置において、突起付きローラの軸受温度を３００℃以下とするために、エアーを吹き付ける冷却装置とエンボス痕均一調整機構として自動調芯軸受けであることを特徴とするエンボス加工装置を用いる工程を有することを特徴とする、熱可塑性樹脂フィルムの製造方法である。 - 特許庁

The inner lead of COF film is formed by forming the inner leads on the insulated film in the interval corresponding to the bumps on the semiconductor chip, and then adding a pattern for alignment between the inner lead and bump of semiconductor bump to the inner leads corresponding to the particular bumps of semiconductor chip among the inner leads described above.例文帳に追加

ＣＯＦ用フィルムのインナーリードと前記半導体チップ上のバンプとを電気的に接続し、該接続部を封止材で封止した半導体装置であって、前記ＣＯＦ用フィルムのインナーリードは、絶縁性フィルム上に、半導体チップ上のバンプに対応する間隔でインナーリードを形成し、前記インナーリードの内、前記半導体チップの特定のバンプに対応するインナーリードに、前記インナーリードと前記半導体チップ上のバンプとの位置合わせ用パターンを付加したものである。 - 特許庁

The method also includes a functional fluid arranging step of forming the thin film pattern by arranging the functional fluid in the lyophilic sections by a droplet discharging method on the basis of the alignment marks.例文帳に追加

基板上の機能液が配置されるパターンと同じ形状、大きさの開口パターンを有する薄膜パターン用開口部と、アライメントマークを形成するアライメントマーク用開口部とが具備された金属製マスクを用いて、前記基板に撥液性を付与する撥液化処理工程と、撥液化処理された前記基板上に前記金属製マスクを配した後、薄膜パターン及びアライメントマーク用の親液部を形成する親液パターン形成工程と、アライメントマークを形成するアライメントマーク形成工程と、前記アライメントマークに基づき、液滴吐出法により前記親液部に機能液を配置して薄膜パターンを形成する機能液配置工程と、を具備する。 - 特許庁