「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a halftone mask having a structure of a light shielding film and a translucent film layered on a transparent substrate, in which admissibility for an alignment error is increased by patterning a first layer (light shielding film) by using indispensable pattern data if great importance is placed on the first layer and by patterning a second layer by using redundant pattern data including errors of superposition.例文帳に追加

透明基板上に遮光膜と半透過膜とが積層した構造を備えるハーフトーンマスクにおいて、アライメント装置によって第１層目と第２層目とのアライメントを行った際に発生する、第１層目と第２層目との間にアライメント誤差により必要なパターンが得られなくなるという問題を解決する。 - 特許庁

The method comprises a first process of obtaining information regarding the specific regions C, E based on design information of the device pattern, and a second process of fixing an alignment condition when performing alignment based on information obtained.例文帳に追加

局所的に特定領域Ｃ，Ｅを歪ませながら、その上にデバイスパターンが形成される基板Ｐの、所定処理位置に対するアライメント方法であって、デバイスパターンの設計情報に基づいて、特定領域Ｃ，Ｅに関する情報を取得する第一工程と、取得された情報に基づいて、アライメントを行う際のアライメント条件を決定する第二工程と、を有する。 - 特許庁

The apparatus comprises a projection optical system PL for projecting a transfer pattern image of a reticle R on a wafer W, an alignment system 22 for measuring the position of either the reticle R or the wafer W to relatively align the reticle R with the wafer W, and an instrument 31 for measuring the wave front aberration of the alignment system 22.例文帳に追加

レチクルＲに形成された転写パターン像をウエハＷに投影する投影光学系ＰＬと、レチクルＲとウエハＷとの相対的な位置合わせを行うためにレチクルＲとウエハＷとの少なくとも一方の位置を計測するアライメント系２２と、アライメント系２２の波面収差を計測する波面収差計測装置３１とを備える。 - 特許庁

The color filter comprises: a substrate; an alignment mark to be used for positioning and formed in a region except the display region on the substrate; a liquid repelling layer having liquid repelling property formed to cover the surface of the alignment mark; and a color layer formed in a pattern on the substrate.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基板と、上記基板上の表示領域外に形成された位置合わせに用いるアライメントマークと、上記アライメントマークの表面を覆うように設けられ、撥液性を有する撥液性層と、上記基板上にパターン状に形成された着色層とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

It has been found that a substrate having protrusions for controlling alignment having a high definition pattern can be manufactured at low costs and in a short step as compared with the case by photolithography, when the protrusions for controlling alignment of the liquid crystal display is formed by a printing method using a coating liquid having a specified composition by which burning is prevented and printability is heightened.例文帳に追加

液晶表示装置の配向制御用突起を、焼きつきを防止し、印刷性を高めた特定の組成を有する塗工液を用いて印刷法により形成した場合、フォトリソグラフィーによる場合と比べ低コストかつ短い工程で、精細パターンの配向制御用突起を有する基板を製造できることを見出した。 - 特許庁

When the mark is detected with an optical picture image detection sensor, a pattern of the period B is not resolved perfectly as shown in (b), and almost the same signal as in a case where the whole alignment mark element 2 is formed of the heavy metal is obtained.例文帳に追加

このマークを光学的画像検出センサで検出すると、(b)に示すように、周期Ｂのパターンは完全には解像できず、アライメントマーク要素２全体が前記重金属で形成された場合と、ほぼ同等の信号が得られる。 - 特許庁

The present invention relates to an alignment mark and a forming method thereof, wherein a plating electricity feeding film 13 is formed on a surface of a substrate 12, and a photoresist pattern is formed on the plating electricity feeding film 13 and then patterned by electric plating.例文帳に追加

基板１２の表面にメッキ給電用膜１３を形成し、次いで当該メッキ給電用膜１３にフォトレジストパターンを形成して、その後電気メッキによりパターン形成されるアライメントマーク及びその作成方法である。 - 特許庁

A first mask 31 is then arranged while aligned with the glass substrate 21 so that alignment marks 33 and 34 match the cut 22, and lithographic patterning is carried out on the front surface 21a of the glass substrate 21 according to a first mask pattern 32.例文帳に追加

次に、アライメントマーク３３，３４が切り欠き２２に合致するように第１マスク３１をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のオモテ面２１ａに第１マスクパターン３２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 - 特許庁

Both of the liquid crystal cells have common basic constitution, but the pattern electrodes 8a to 8d are in different shapes, rubbing directions of the alignment layers 9b and 9c are orthogonal to each other, and the liquid crystal materials 10a and 10b are twisted in opposite directions.例文帳に追加

両液晶セルは基本構成が共通しているが、パターン電極８ａ〜８ｄの形状が異なり、配向膜９ｂと９ｃのラビング方向が直交し、液晶材料１０ａ，１０ｂのツイスト方向が逆である。 - 特許庁

In the medium 1 for determining authenticity, an alignment layer 3 and a light selection reflecting pattern layer 4 are sequentially layered on one surface of a base material 2, and a reflection type hologram comprising a hologram formation layer 5 and a reflective layer 6 is layered on the other surface.例文帳に追加

基材２の片面に配向膜３、光選択反射パターン層４が順に積層され、他の面にホログラム形成層５および反射性層６からなる反射型ホログラムを積層して真偽判定用媒体１とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an embossed can body, which does not require alignment between a die and a printed pattern when embossing the can body, and by which embossing work can be performed on a can body of a circular truncated conical shape.例文帳に追加

エンボス加工に際して金型と印刷模様との位置合わせを必要とせず、また缶胴が円錐台形状の缶体についても缶胴にエンボス加工を施すことのできるエンボス加工缶体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate the alignment by photolithography in the pattern formation of resistors and to prevent the generation of inferior products caused by the disconnection of the resistors at the interface of a common electrode part and a glaze glass layer.例文帳に追加

抵抗体Ｒのパターン形成におけるフォトリソグラフィーによる位置合わせが容易であり、共通電極部分Ｍとグレースガラス層との界面での抵抗体Ｒの断線による不良品の発生を防ぐことができるサーマルヘッドを提供する。 - 特許庁

First and second low concentration diffusion layers 104-2 and 104-3 which are worked as the field alleviating layer and the gate electrode 111 are formed so that a first insulating pattern 102 is used in a self-alignment process manner as a common mask.例文帳に追加

電界緩和層として働く第１及び第２の低濃度拡散層１０４−２、１０４−３と、ゲート電極１１１とは、共に、第１の絶縁膜パターン１０２を共通のマスクとして自己整合的に形成される。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor device, a reticle and a semiconductor wafer in which a necessary and sufficient alignment mark can be provided without having any effect on the space factor of an integrated circuit chip for a pattern of single exposure shot.例文帳に追加

露光１ショット分のパターンの集積回路チップ占有率に影響を及ぼさずに必要十分なアライメントマークを設けることのできる半導体装置の製造方法及びレチクル及び半導体ウェハを提供する。 - 特許庁

To improve the pattern accuracy of a bit line and wiring having different film thickness, to make shallow a through-hole which is to be formed between bit lines through self-alignment, and to reduce the resistance of the bit line and wiring, concerning a semiconductor device provided with a COB type DRAM.例文帳に追加

ＣＯＢ型ＤＲＡＭを備えた半導体装置に関し、膜厚の異なるビット線と配線のパターン精度を高くし、セルフアラインでビット線間に形成されるスルーホールを浅くし、ビット線と配線を低抵抗化すること。 - 特許庁

To make alignable an optical system to an optical storage medium even without adding an alignment pattern to all pages of signal light, and thereby increase the storage capacity and improve the data transfer speed.例文帳に追加

信号光の全てのページに位置合わせ用パターンを付加しなくても、光学系と光記録媒体の位置合わせをすることができ、これによって記録容量の増加およびデータ転送速度の向上を図ることができるようにする。 - 特許庁

In the formation process of the conductor layers 19, 22, 33, alignment marks 41, 42 are formed, which comprise a first light reflection section 43 and a second light reflection section 45 for surrounding the first light reflection section 43 while being separated by a removing pattern 44.例文帳に追加

導体層１９，２２，３３の形成工程では、第１光反射部４３と抜きパターン４４を隔ててその第１光反射部４３を包囲する第２光反射部４５とからなる位置合わせマーク４１，４２を形成する。 - 特許庁

To obtain a structure wherein a hollow portion is formed between a translucent member and an active element on a semiconductor substrate, without applying heavy load and conducting a pattern alignment at the jointing of the translucent member and the semiconductor substrate.例文帳に追加

光透過性部材と半導体基板上の能動素子との間に中空部分を形成する構造を得るために、光透過性部材と半導体基板との接合時に、高荷重を掛けること及びパターン合わせを不要にする。 - 特許庁

To provide a projection aligner capable of selecting an optimum illumination system by the direction and line width, etc., of a pattern shape, and performing the projection alignment of a high resolution and suitable for manufacturing a semiconductor element, and to provide a method for manufacturing the semiconductor element.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

To obtain a projection aligner and a method for fabricating a semiconductor element suitable for fabrication of such a semiconductor element as high resolution projection alignment is ensured by selecting an optimal illumination system depending on the direction, line width, and the like, of a pattern shape.例文帳に追加

パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な投影露光装置及び半導体素子の製造方法を得ること。 - 特許庁

The transmitting portion is composed of such a material as transmitting observation light reflected from an alignment pattern formed on the substrate and from a mark region including peripheral substrates to enter observation equipment, and intercepting ions.例文帳に追加

透過部は、基板上に形成された位置合わせ用パターンおよびその周囲の基板を含むマーク領域により反射されて観測装置に入射する観測光を透過させ且つイオンを遮断する材質から構成される。 - 特許庁

The elution of the sealing material into a liquid crystal 3 is prevented by providing a seal barrier 10 forming a pattern parallel to a seal 6 inside the seal 6 to previously prevent the abnormality of the alignment state on the periphery of the seal 6.例文帳に追加

シール６の内側にシール６と平行なパターンを形成するシールバリア１０を設けることによりシール材が液晶３中へ溶出することを防ぎ、シール６周辺の配向状態の異常の発生を未然に防止する。 - 特許庁

The fiber arrangement of this invention is made by imparting a tension to fiber bundles arrayed in accordance with a predetermined alignment pattern, and filling a space between fibers of the fiber bundles with a resin, thus fixing the fiber bundles to be formed into a fiber arrangement.例文帳に追加

目的の配列パターンに従って配列させた繊維束に張力を与え、該繊維束の繊維間に樹脂を充填して該繊維束を固定し繊維配列体とすることを特徴とする繊維配列体の製造方法。 - 特許庁

Sublimation of the polyimide film 5 takes place by generating an abrasion reaction thereof, and an alignment layer pattern 5A with a predetermined shape is simply formed in a short period of time without damaging the metal film 3 and the transparent electrode film 4.例文帳に追加

ポリイミド膜５がアブレーション反応を起こすことにより昇華し、金属膜３や透明電極膜４に損傷を与えることなく、かつ短時間で所定形状の配向膜パターン５Ａを簡便に形成することができる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a laminate which facilitate alignment and uniform heating pressurization of a cut substrate having rigidity and a synthetic resin film printed with a pattern and having flexibility.例文帳に追加

剛性を有する裁断された基材と、図柄が印刷された可撓性を有する合成樹脂フィルムとの、位置合わせ及び均一な加熱加圧を行なうことが容易となる、積層体の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for adjusting an image forming position by which an image forming position is automatically adjusted at high speed only by printing a pattern for alignment once and measuring the average density thereof, and to provide a color image forming apparatus using the method.例文帳に追加

位置合わせ用パターンを一度印字してその平均濃度を測定するだけで画像形成位置の高速な自動調整が可能な画像形成位置調整方法及びそれを用いたカラー画像形成装置を提供する。 - 特許庁

When the rubbing roller 6 moves to the display region 9, the roller 6 does not transfer the metal pattern 36 with a constant pitch but suppresses rubbing stripes so that a uniform alignment film can be formed all over the display region.例文帳に追加

これによって、表示領域９に移動したラビングローラ６は、メタルパターン３６による一定のピッチの転写をすることなく、ラビングすじを抑制して、表示領域全域で均一な配向膜を形成することができる。 - 特許庁

First, signal light 5 of P polarization for retaining data information according to space intensity distribution and including an alignment pattern is obtained, and a hologram is recorded into an optical storage medium 10 by reference light 6 of P polarization.例文帳に追加

最初に、Ｐ偏光の信号光５として、空間強度分布によりデータ情報を保持し、かつ位置合わせ用パターンを含むものを得て、Ｐ偏光の参照光６によって、光記録媒体１０中に第１のホログラムを記録する。 - 特許庁

The alignment device has the exposure means for exposing a wafer to a mask pattern, and also has a thermoelectric conversion means for converting heat generated from the exposure means or the device body into electricity.例文帳に追加

本発明では、マスクのパターンをウエハに露光する露光手段を備えた構成のアライメント装置において、露光手段または装置本体で発生した熱を電気に変換する熱電変換手段を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

This method for producing a monomolecular film 530 patterned on a substrate includes a step for adjusting an organic molecule having a self-organizing characteristic, a step for applying the organic molecule to an alignment surface 310, a step for applying the alignment surface 310 to a target substrate 570, a step for separating the alignment surface, and a step for leaving a pattern wherein the organic molecule is orientated on the substrate 570.例文帳に追加

基板上にパターニングされた単分子膜５３０を作製する方法であって、自己組織化する特性を有する有機分子を調製するステップと、該有機分子をアライメント用表面３１０に適用するステップと、アライメント用表面３１０をターゲット基板５７０に適用するステップと、前記アライメント用表面を分離するステップと、前記基板５７０上に前記有機分子の配向されたパターンを残すステップとを含む、基板上にパターニングされた単分子膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁

The alignment-treated substrate for the ferroelectric liquid crystal is characteristically provided with: a substrate; an electrode layer formed on the substrate; a stripe shaped wettability changing pattern which is formed on the electrode layer and has alternately arranged lyophilic regions and lyophobic regions; and an alignment layer formed on the lyophilic regions.例文帳に追加

本発明は、基材と、上記基材上に形成された電極層と、上記電極層上に形成され、ストライプ状の親液性領域および撥液性領域が交互に配列された濡れ性変化パターンと、上記親液性領域上に形成された配向膜とを有することを特徴とする強誘電性液晶用配向処理基板を提供することにより、上記目的を達成する。 - 特許庁

The method for manufacturing a polarized light diffractive cholesteric liquid crystal film contains the first step to form a cholesteric liquid crystal film on an alignment supporting substrate, the second step to transfer a diffraction pattern of a diffraction element substrate to the surface of the cholesteric liquid crystal film and to form a region exhibiting diffractiveness on a part of the film and the third step to release the alignment supporting substrate from the cholesteric liquid crystal film.例文帳に追加

配向支持基板上にコレステリック液晶フィルムを形成する第１工程、コレステリック液晶フィルム面に回折素子基板の回折パターンを転写し、フィルムの一部に回折能を示す領域を形成する第２工程、及びコレステリック液晶フィルムから配向支持基板を剥離する第３工程、を含む偏光回折性コレステリック液晶フィルムの製造方法である。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a superjunction semiconductor by using a multistage epitaxial system, in which a silicon epitaxial growth rate after alignment marker formation is not made slower than that of a typical condition, deterioration of pattern form accuracy of the alignment marker is prevented, and auto doping from a low resistance arsenic-doped silicon substrate used to lower an on resistance of a superjunction semiconductor is prevented.例文帳に追加

アライメントマーカーの形成後に行うシリコンエピタキシャルの成長速度を、通常の条件より遅くすることなく、アライメントマーカーのパターン形状精度の低下を防ぎ、超接合半導体装置を低オン抵抗にするために用いられる低抵抗砒素ドープシリコン基板からのオートドーピングを防止する多段エピタキシャル方式による超接合半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A main controller 70 determines focus positions of respective image capturing devices when detecting the position of the alignment mark of the mask and the position of the alignment mark of the underlying pattern on the substrate based upon variation in the image recognition rate, the sharpness value and the contrast value preliminarily detected by the image processing device 50 while moving the focus positions of respective image capturing devices by a focus position moving mechanism.例文帳に追加

主制御装置７０は、予め、焦点位置移動機構により各画像取得装置の焦点位置を移動しながら、画像処理装置５０により検出された画像認識率、シャープネス値、及びコントラスト値の変化に基づいて、マスクのアライメントマークの位置又は基板の下地パターンのアライメントマークの位置を検出する際の各画像取得装置の焦点位置を決定する。 - 特許庁

The method for forming an alignment layer to align liquid crystal molecules includes: a plasma polymerization film forming step of forming a plasma polymerization film 86a on a substrate by using a plasma chemical vapor phase method; and a UV ray irradiation step of irradiating the plasma polymerization film 86a with UV rays to form a rugged pattern and rendering the plasma polymerization film as an alignment layer.例文帳に追加

液晶分子を配向する配向膜の形成方法であって、プラズマ化学気相法を用いて基板上にプラズマ重合膜８６ａを形成するプラズマ重合膜形成工程と、紫外光を照射することによって上記プラズマ重合膜８６ａに凹凸を形成し、これによって上記プラズマ重合膜を上記配向膜とする紫外光照射工程とを有する。 - 特許庁

One substrate of the liquid crystal display has a common electrode, a pixel electrode P disposed on the common electrode via an insulating film and having a pattern of a stripe shape, an alignment layer disposed on the pixel electrode P and aligning a liquid crystal, and a means for applying voltage between the pixel electrode P and the common electrode to change an alignment state of the liquid crystal.例文帳に追加

液晶表示装置の片方の基板は、共通電極と、絶縁膜を介して共通電極の上に配されたストライプ状のパターンを有する画素電極Ｐと、画素電極Ｐの上に配され液晶を配向する配向層と、画素電極Ｐと共通電極との間に電圧を印加して液晶の配向状態を変化させる手段とを有する。 - 特許庁

A die bonding device 200 comprises a semiconductor chip pickup stage 220 for inspecting the condition and position of a semiconductor chip, a chip alignment stage 240 where the semiconductor chip is fixed on a mount head for alignment, a guide rail 253 for transferring the semiconductor chip, CCD cameras 226, 257, and 264 for inspecting the conditions and position of a land pattern, an a bonding unit 260 for bonding the semiconductor chip.例文帳に追加

ダイボンディング設備２００は、半導体チップの状態及び位置を検査する半導体チップピックアップステージ２２０、半導体チップがマウントヘッドに固定されアラインされるチップアラインメントステージ２４０、半導体チップを移送するガイドレール２５３、ランドパターンの状態及び位置を検査するＣＣＤカメラ２２６、２５７、２６４、ならびに半導体チップをボンディングするボンディングユニット２６０を備える。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by which an alignment mark can be accurately detected to form a pattern even when high positional accuracy is required with a small-sized high performance device, in exposure techniques in a photolithography process of a semiconductor device and a printed wiring board or in a simple curing process of a photosensitive resin.例文帳に追加

本発明は、半導体素子やプリント配線板などにおけるフォトリソグラフィ工程或いは単に感光性樹脂を硬化させる工程における露光技術に関し、小型化、高性能化に伴ない高い位置精度が必要とされる場合でも、的確にアライメントマークの検出し、パターンを形成することができる、パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electronic-component housing type printed board which facilitates alignment between a connection pattern and a connection terminal, has high connection reliability, and eliminates the need for separate rewiring and reduces manufacturing costs, by directly connecting the connection pattern on a flexible film with the connection terminal of an electronic component by a connecting member, and to provide a method for manufacturing the board.例文帳に追加

接続部材によってフレキシブルフィルム上の接続パターンと電子部品の接続端子を直接接続させることで、接続パターンと接続端子間の整合を容易にし、接続信頼性が高いし、別途の再配線を不要にして製造コストを節減する電子部品内装型プリント基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

When a pattern on another wafer with the same pattern as the one used last time baked in the same alignment or on the same wafer as the one used last time is observed, the previous movement target instruction position to the sample stage is changed in consideration of the previous observation visual field position slippage registered in the corresponding observation position, and the sample stage is moved according to the instruction position.例文帳に追加

先と同じパターンを同じ配列で焼き付けされた別のウェーハ又は先と同じウェーハ上のパターンの観察を行うときに、対応する観察位置に登録された前回までの観察視野位置ずれ量を考慮して前回までの試料ステージへの移動目標指示位置に変更を加え、その指示位置に従い試料ステージを移動させる。 - 特許庁

To provide a sealant for a liquid crystal one-drop-fill process, which is not repelled even when being applied on an alignment layer with hydrophobicity imparted thereto and which prevents disconnection in a sealing pattern even when a fine sealing pattern is drawn, and to provide a vertical conduction material and a liquid crystal display element.例文帳に追加

滴下工法による液晶表示素子の製造において、疎水性が付与された配向膜上に塗布された場合であっても弾かれることがなく、また、微細なシールパターンを描いた場合であっても、シールパターンに断線が生じることのない液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料、及び、液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

On the basis of the amplitude component data of image data inputted from an image input unit 2100 and alignment information for detecting the geometrical transform of an image inputted from a registration rule input unit 2305, an embedding pattern generated in an envelope ring pattern generator 2111 is embedded into the amplitude component data.例文帳に追加

画像入力手段２１００から入力された画像データの振幅成分データと、レジストレーション規則入力手段２３０５から入力された画像の幾何変換を検知するための位置合わせ情報とに基づいて、包絡線リングパターン生成手段２１１１において生成された埋め込みパターンが振幅成分データに埋め込まれる。 - 特許庁

The image input device 3 has a ray position detecting function for calculating the coordinates on the screen which is the position of the ray on the screen 1, an alignment function for superposing a certain determined image pattern on the original image in accordance with the coordinates on the screen and an image editing function for synthesizing the original image and the image signal of the image pattern.例文帳に追加

画像入力装置３は、スクリーン１上の光線の位置であるスクリーン上座標を計算する光線位置検出機能、スクリーン上座標を基準に、ある定められた画像パタンを元画像に重ね合わせるための位置合わせ機能、及び元画像と画像パタンの画像信号を合成する画像編集機能を有する。 - 特許庁

The device calculates a displacement amount and an inclination angle of each exposure region based on the coordinates of each alignment mark and draws a pattern on the upper face of the substrate 9 while correcting a drawing position according to the calculated displacement amount and the inclination angle.例文帳に追加

そして、各アライメントマークの座標に基づいて各露光領域の位置ずれ量および傾き角度を算出し、算出された位置ずれ量および傾き角度に応じて描画位置を補正しつつ、基板９の上面にパターンを描画する。 - 特許庁

The above alignment pattern is structured of a line direction X with the protrusions 2 linearly arrayed at equal intervals, and a column direction Y with line units 4 consisting of a group of protrusions 2 aligned in a line direction in parallel with each other at equal intervals.例文帳に追加

上記配列パターンは、突起２が等しいピッチで直線状に並ぶ行方向Ｘと、行方向Ｘに並ぶ一群の突起２からなる行単位４が互いに平行に所定間隔で配置される列方向Ｙとにより構成されている。 - 特許庁