「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Mask alignment of a diffusion layer pattern and a mask pattern to be processed in a post-process is carried out using the alignment mark M1a formed in this manner.例文帳に追加

こうして形成されたアライメントマークＭ１ａを用い、拡散層パターンと後工程において加工するマスクパターンとのマスク合わせを行う。 - 特許庁

Mask alignment between a diffusion layer pattern and a mask pattern to be processed in a post-process is carried out using the alignment mark M1a formed in this way.例文帳に追加

こうして形成されたアライメントマークＭ１ａを用い、拡散層パターンと後工程において加工するマスクパターンとのマスク合わせを行う。 - 特許庁

On a surface of a semiconductor layer 2, an alignment pattern 7A is formed.例文帳に追加

半導体層２の表面には、アライメントパターン７Ａが形成されている。 - 特許庁

A plurality of alignment marks 3R for the coloring pattern of R, a plurality of alignment marks 3G for the coloring pattern of G, and a plurality of alignment marks 3B for the coloring pattern of B are disposed on a substrate 1 at different intervals for each coloring pattern.例文帳に追加

また、基板１に、Ｒの着色パターン用の複数のアライメントマーク３Ｒ、Ｇの着色パターン用の複数のアライメントマーク３Ｇ、及びＢの着色パターン用の複数のアライメントマーク３Ｂを、着色パターン毎に異なる間隔で設ける。 - 特許庁

The alignment drawing apparatus 10 is a direct alignment apparatus that directly draws a pattern on a substrate SW.例文帳に追加

露光描画装置１０は基板ＳＷに対しパターンを直接描画するダイレクト方式の露光装置である。 - 特許庁

A wide wiring pattern 26 is formed so that the wiring pattern 25 is sandwiched in the alignment direction D1 of the wiring pattern 25.例文帳に追加

この配線パターン２５の配列方向Ｄ１に配線パターン２５を挟むように、幅広の配線パターン２６が形成されている。 - 特許庁

To specify a region usable as an alignment mark as a pattern region from the design data of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの設計データから、アライメントマークとして使用可能な領域をパターン領域として特定する。 - 特許庁

Then a peak position, which coincides mostly with the alignment pattern on a pile pattern is obtained (S710).例文帳に追加

そして、積み重ねパターン上において位置合わせパターンと最も一致するピーク位置を求める（Ｓ７１０）。 - 特許庁

In such a case, a pattern which also can be observed by the ion beam defect correcting device is selected as the pattern of alignment.例文帳に追加

このとき、位置あわせのパターンはイオンビーム欠陥修正装置でも観察可能なものを選んでおく。 - 特許庁

To achieve high-accuracy alignment of a sample and high-sensitivity inspection for a semiconductor wafer having an alignment mark which is under the condition where the alignment mark is hard to be pattern-matched.例文帳に追加

パターンマッチングし難い条件にあるアライメントマークを持つ半導体ウエハについて、高精度な試料の位置合わせ、高感度な検査を実現する。 - 特許庁

To automatically perform alignment correction at the time of automatically performing the alignment correction even though a testpiece does not have any pattern for alignment correction.例文帳に追加

特にアライメント補正用のパターンを備えた試料でなくても、自動的にアライメント補正が行える場合にはアライメント補正を自動的に行えるようにする。 - 特許庁

In the local alignment step, a local alignment unit carries out the local alignment of a pattern image of a detection object and a reference pattern image of a detection reference in the local area, and obtains a shift amount being the alignment result.例文帳に追加

局所アライメントステップでは、局所アライメント部が、前記局所領域において、検査対象のパターン画像と検査基準の基準パターン画像との前記局所アライメントを行い、局所アライメント結果であるシフト量を得る。 - 特許庁

An alignment mark pattern is provided with first and second sub-segmented elements.例文帳に追加

アライメントマークパターンには、第１及び第２のサブセグメント化要素が提供される。 - 特許庁

A target alignment mark is identified based on whether or not an auxiliary pattern exists in an auxiliary pattern region in the four corners of each alignment mark.例文帳に追加

これらの中から、各アライメントマークの４隅に補助パターン領域に補助パターンが存在するか否かに基づいて、ターゲットアライメントマークを識別する。 - 特許庁

The mirror member (48) includes a concave part (54) as a marker for alignment with respect to the substrate, and the conductive pattern includes a marker pattern (44) for alignment with respect to the mirror member (48).例文帳に追加

ミラー部材(48)は、基板に対する位置合わせ用のマーカとしての凹部(54)を有し、導体パターンは、ミラー部材(48)に対する位置合わせ用のマーカパターン(44)を含む。 - 特許庁

To enhance throughput by preventing incorrect mark recognition by pattern search in wafer alignment, thereby sustaining alignment precision.例文帳に追加

ウェハの位置合せにおいて、パターンサーチによるマークの誤認識を防止し、位置合せの精度を保持してスループットを向上する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor substrate that does not have a pattern prepared solely for alignment, and uses a high-precision alignment mark.例文帳に追加

アライメント専用のパターンを設けることなく、かつ高精度なアライメントマークを用いた薄膜トランジスタ基板を提供する。 - 特許庁

When compared with a case where an alignment pattern is provided only on corners, the alignment accuracy of cutting position can be improved.例文帳に追加

これにより、隅部のみにアライメントパターンを設けていた場合に比べ、切断位置の位置合わせ精度が向上する。 - 特許庁

ALIGNMENT METHOD, PATTERN FORMING METHOD AND ALIGNMENT DEVICE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

アライメント方法、パターン形成方法及びアライメント装置、並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 - 特許庁

Thereafter, the alignment of a proper electrode pattern part with the probe head 12 of the testing device is executed, and alignment information is obtained.例文帳に追加

その後、適宜の電極パターン部と検査装置のプローブヘッド１２とのアライメントが実施され、アライメント情報が得られる。 - 特許庁

METHOD OF FORMING SELF-ALIGNMENT AND SELF-EXPOSURE PHOTORESIST PATTERN ON LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加

発光素子に自己整合及び自己露光フォトレジストパターンを作製する方法 - 特許庁

An alignment mark 10 is composed of a box pattern 1 and fringes 2A, 2B, 2C, and 2D.例文帳に追加

アライメントマーク１０は、ボックスパターン１と、フリンジ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄとから成る。 - 特許庁

If the circuit pattern is already present at the point where the alignment pattern is inserted, a warning is issued (S13).例文帳に追加

もし位置合わせ用パターンの挿入位置に既に回路パターンが存在する場合には、警告を発する（Ｓ13）。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN ALIGNMENT FILM, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN PHASE DIFFERENCE FILM USING THE SAME, AND MANUFACTURING DEVICE THEREOF例文帳に追加

パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置 - 特許庁

To detect a position of an alignment mark on a mask and a position of an alignment mark in a base pattern of a substrate with high accuracy by acquiring sharp images of the alignment mark on the mask and of the alignment mark in the base pattern of the substrate and carrying out an image recognition process.例文帳に追加

マスクのアライメントマークの画像及び基板の下地パターンのアライメントマークの画像をそれぞれ鮮明に取得して画像認識を行い、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。 - 特許庁

To provide a photo-alignment film excellent in photo-alignment of a lyotropic liquid-crystalline dichroic compound, to provide a manufacturing method of the photo-alignment film, and to provide a manufacturing method of a micro-pattern polarizing element using the photo-alignment film.例文帳に追加

リオトロピック液晶性二色性色素化合物の配向性に優れた光配向膜とその製造方法並びにこれを用いたマイクロパターン偏光素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an alignment device for exposure equipment which hardly causes a change in a relative position of pattern between the alignment mark of a substrate and the alignment mark of a mask even if the optical axis deviation of an optical path occurs and has high alignment accuracy.例文帳に追加

光路の光軸ずれが生じても、基板のアライメントマークとマスクのアライメントマークとのパターン相対位置の変化が生じにくく、アライメント精度が高い露光装置のアライメント装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern for alignment measurement preventing image processing signals of a pattern edge from being asymmetrical to the center line even when a heat flow treatment is executed to the resist pattern for the alignment measurement.例文帳に追加

合わせ測定用のレジストパターンに熱フロー処理を施しても、パターンエッジ部の画像処理信号が左右非対称とならないようにする合わせ測定用のレジストパターンを提供することである。 - 特許庁

To form a pattern, such as wiring in a self-alignment manner, when a pattern is formed by a liquid drop discharge method, and further to achieve higher adhesion of the pattern.例文帳に追加

液滴吐出方法により配線等のパターンを形成する場合、自己整合的に形成し、さらに該パターンの密着性を高める。 - 特許庁

The blank regions 6 comprise at least one alignment region 10 and the alignment mark is constituted of a metal film pattern on the uppermost layer surface of the alignment region 10.例文帳に追加

ブランク領域６はアライメント領域１０を少なくとも１つ含み、アライメント領域１０の最上層表面の金属膜パターンによってアライメントマークを構成している。 - 特許庁

To obtain a screen printing device performing formation of a seal pattern on a substrate on which an alignment layer material is formed and performing alignment treatment to the alignment layer material.例文帳に追加

配向膜材料が形成された基板上にシールパターンの形成を行うと同時に配向膜材料への配向処理を行うスクリーン印刷装置を得ることができる。 - 特許庁

When a blue filter 27 will be formed, exposure alignment with red alignment light 28 using the red alignment mark 25 is performed to form a filter pattern in a blue resist 26.例文帳に追加

青色フィルタ２７形成時には、赤色アライメントマーク２５を用いた赤色アライメント光２８による露光アライメントを行って青色レジスト２６にフィルタパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an arrangement of a transparent electrode pattern, which reduces alignment irregularity due to a direction of forming an inorganic alignment layer.例文帳に追加

無機配向膜の形成方向に起因する配向ムラを改善することのできる透明電極パターンの配置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, DROPLET EJECTION APPARATUS, ELECTRO-OPTIC DEVICE, METHOD FOR FORMING ALIGNMENT FILM, APPARATUS FOR FORMING ALIGNMENT FILM AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

パターン形成方法、液滴吐出装置、電気光学装置、配向膜形成方法、配向膜装置及び液晶表示装置 - 特許庁

The detection system is disposed above a reticle to observe the pattern and perform pre-alignment.例文帳に追加

この検出系はレチクル上方に配置し、パターンを観察しプリアライメントを実施する。 - 特許庁

The alignment mark of the partial transfer pattern on a transfer mask is measured in step 23, and the coordinate system of an actual alignment mark is computed in step 25 based on the above-mentioned measurement in this mask pattern transfer method.例文帳に追加

転写マスク上の部分転写パターンのアライメントマークを計測し（ステップ２３）、これらを基に実際のアライメントマークの座標系を算出する（ステップ２５）。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF FLUSH MEMORY ELEMENT UTILIZING SELF-ALIGNMENT NON-EXPOSURE PATTERN FORMATION PROCESS例文帳に追加

自己整列無露光パターン形成プロセスを利用したフラッシュメモリ素子の製造方法 - 特許庁

The grooves 11 are formed in the scribing regions 10 except for alignment pattern forming regions 23 so that the alignment pattern forming regions 23 remain in the scribing regions 10.例文帳に追加

このとき、アライメントパターン形成領域２３がスクライブ領域１０に残るように、アライメントパターン形成領域２３以外のスクライブ領域１０に溝１１を形成する。 - 特許庁

In addition, parallel pattern formation, additional alignment, etc., can be realized by the combination of the patterns A and B.例文帳に追加

パターンＡ，Ｂの組合せて並列パターン形成、追加露光等が可能である。 - 特許庁

In the alignment operation, the through-holes 1 are aligned with the alignment pattern 2 by confirming the pattern 2 through the through-holes 1 using a CCD camera.例文帳に追加

位置合わせ操作では、ＣＣＤカメラ装置により、アライメント用貫通孔１を介してアライメント用パターン２を確認することにより、これら貫通孔１とパターン２とを合致させる。 - 特許庁

A pattern, in which the gravity position does not change even if deformations are generated due to the approximity effect of pattern and coarse density, is selected at pattern formation as an alignment pattern from the areas near to the target pattern, and its center of gravity position is set to the reference coordinates of alignment (S12).例文帳に追加

ターゲット・パターンの近傍領域の中から、パターンの形成時に、パターンの近接効果や疎密が原因で変形が生じても、重心位置が変化しないパターンをアライメント・パターンとして選択し、その重心位置をアライメント基準座標に設定する（S12）。 - 特許庁

First, an alignment detection pattern is printed while conveying a sheet at a specified low velocity V1, and the alignment of the inkjet recording head in the conveyance direction is adjusted in accordance with the printing results of the alignment detection pattern.例文帳に追加

用紙を低速の所定速度Ｖ１で搬送してアライメント検出用パターンを印刷し、印刷されたアライメント検出用パターンの結果に基づいて、インクジェット記録ヘッドの搬送方向のアライメントを調整する。 - 特許庁

In addition, an alignment detection pattern is printed while conveying the sheet at a specified high velocity V2, and the alignment of the inkjet recording head in the height direction is adjusted in accordance with the printing results of the alignment detection pattern.例文帳に追加

また、用紙を高速の所定速度Ｖ２で搬送してアライメント検出用パターンを印刷し、印刷されたアライメント検出用パターンの結果に基づいて、インクジェット記録ヘッドの高さ方向のアライメントを調整する。 - 特許庁

When the alignment mark 14 is detected by using a pattern matching operation, edge parts of the alignment mark 14 are covered with a plurality of rectangles S_1, S_2, S_3, S_4, the pattern matching operation is applied to the plurality of rectangles, and the alignment mark is detected.例文帳に追加

パターンマッチングを利用してアライメントマーク１４を検出する際に、アライメントマーク１４のエッジ部を複数の矩形Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４でカバーし、該複数の矩形にパターンマッチングを適用して、アライメントマークを検出する。 - 特許庁

This exposure mask 100 has an alignment mark pattern 12 to form an alignment mark on a substrate, first and second mask alignment patterns 14, 16 formed in the point symmetric positions each other around the alignment mark pattern as the center, and a common pattern 18 to be commonly used to pattern the first, second and third layers.例文帳に追加

露光用マスク１００は、基板上にアライメントマークを形成するためのアライメントマークパターン１２と、アライメントマークパターンを中心に互いに点対称な位置に形成された第１および第２マスクアライメントパターン１４および１６と、第１層、第２層および第３層をパターニングするために共通に用いられる共通パターン１８とを有する。 - 特許庁