「alignment pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a pattern-forming accuracy at each pattern junction from degrading, caused by alignment difference between exposure light and an exposure electronic beam, without making a exposure light pattern or an exposure electron beam pattern to be thick.例文帳に追加

光露光パターンや電子線露光パターンを太らせることなく、光露光と電子線露光の合わせずれに起因する各々のパターンの接続部分でのパターン形成精度劣化を防止する。 - 特許庁

To provide a waveguide type optical circuit with an optical guide metal pattern which facilitates optical axis alignment, and to provide a manufacturing method of the waveguide type optical circuit with the optical guide metal pattern.例文帳に追加

光軸調心が容易な光ガイド用メタルパターン付き導波路型光回路及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The element of the first pattern and the element of the second pattern superimpose each other, to form the set of the alignment marks, the periphery of which is formed by small elements.例文帳に追加

第一パターンと第二パターンの要素が重なって、アラインメントマークのセットを形成し、その縁部は小型要素によって形成される。 - 特許庁

To provide a pattern forming device and a pattern forming method capable of forming alignment marks in a membrane constituted by liquid repellent agent.例文帳に追加

撥液剤により構成された膜にアライメントマークを形成することができるパターン形成装置およびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To improve the positional accuracy of a plotting beam obtained when a pattern is plotted without the consideration of the deterioration of the alignment pattern of a final product.例文帳に追加

最終製品のアライメントパターンの劣化を考慮することなく、パターンを描画する際の描画ビームの位置精度を向上させる。 - 特許庁

To detect the position of a line string pattern more accurately in template matching using the line string pattern in the alignment of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置のアライメントにおける、線列パターンを用いたテンプレートマッチングにおいて、より精度よく線列パターンの位置検出を行う。 - 特許庁

To form a superposition pattern for alignment which carries out the alignment of a photomask with high accuracy when carrying out photolithography thereof.例文帳に追加

フォトリソグラフィ時のフォトマスクの位置合わせを十分な精度で行うことが可能となる位置合わせ用の目合わせパターンを形成することを課題とする。 - 特許庁

To improve pattern accuracy in fabricating a substrate with a pedestal in which an alignment mark is formed, by reducing the relative positional deviation of the pedestal from the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークが形成された台座付き基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減し、パターン精度を向上させる。 - 特許庁

The alignment pattern in the device-forming region is detected through rough alignment based on the reference position provided in the external side of the device-forming region (S15).例文帳に追加

そして、デバイス形成領域外に設けられた基準位置に基づきおおよそのアライメントをしてデバイス形成領域内のアライメント・パターンを検出する（S15）。 - 特許庁

A bump pattern and MEMS die are attached based on the alignment plate and fiducials giving a much improved die to bump alignment.例文帳に追加

バンプパターンおよびＭＥＭＳダイは、非常に改善されたダイのバンプへの位置合わせを与える位置合わせ板および基準に基づいて貼り付けられる。 - 特許庁

The start time of the alignment test signal is adjusted until the frequency content of the return alignment test signal corresponds to the alternating pattern of frequencies.例文帳に追加

位置調整検査信号の開始時間は、戻り位置調整検査信号の周波数コンテンツが周波数の交互パターンに対応するまで調整される。 - 特許庁

The logic unit receives data signals from the alignment latches and determines if the proper pattern of data values is stored in the alignment latches.例文帳に追加

論理ユニットは、配列ラッチからデータ信号を受信するとともに、データ値の正確なパターンが配列ラッチ内に保存されているかどうかを判定する。 - 特許庁

Thereafter, an alignment mark M1a is formed by performing flattening treatment for a substrate surface with an alignment pattern covered with the film material 3a.例文帳に追加

その後、上記膜材３ａによりアライメントパターンが覆われた状態で基板表面に平坦化処理を施すことにより、アライメントマークＭ１ａを形成する。 - 特許庁

A first alignment conveyor 55 and a second alignment conveyor 56 independently operated from a conveyor 22 to a stacked part, are mounted in parallel in an alignment part for aligning the bag cargos 12 with a stacking pattern.例文帳に追加

袋物12を積付パターンに配列する配列部25に、搬送コンベヤ22から被積付部ヘ向けてそれぞれ独立して動作する第１の配列コンベヤ55および第２の配列コンベヤ56を順に並設する。 - 特許庁

After simultaneously forming a resist pattern 22A for ion implantation and a resist pattern 22B for an alignment mark on a semiconductor film 13, ion implantation 23 is applied to the whole surface of that patterns, and after applying ashing 24 to an altered layer 16 formed on a resist pattern 22A' other than a resist pattern forming part B' for the alignment mark, the resist pattern 22A' is removed.例文帳に追加

半導体膜１３上にイオン注入用レジストパターン２２Ａとアライメントマーク用レジストパターン２２Ｂを同時に形成した後、その全面にイオン注入２３し、アライメントマーク用レジストパターン形成部Ｂ’以外のレジストパターン２２Ａ’を、表面に形成された変質層１６をアッシング２４した後レジストパターン２２Ａ’を除去する。 - 特許庁

Based on the electric characteristics provided, when a protruding pattern alignment conductor part contacts the alignment wiring, a position where the protruding pattern is press- fitted is decided, so that a conductor is embedded in the low dielectric constant film resin.例文帳に追加

凸パタン目合わせ導体部と目合わせ配線とが接触させられた時に得られた電気的特性に基づいて、凸パタンを圧着させる位置が定められ、低誘電率膜樹脂に導体を埋え込む。 - 特許庁

Droplets are discharged at prescribed positions on a board 2 to form the alignment marks 10 and a pattern through the method, and the alignment marks 10 and the pattern are formed in the same process.例文帳に追加

液滴を基板２上の所定の位置に吐出してアライメントマーク１０及びパターンを形成する方法であって、該アライメントマーク１０と該パターンを同一工程で形成することを特徴とする。 - 特許庁

During layout of the mask for micromachining the cMUT layer, either the hexagonal pattern or the alignment key is rotated until an axis of symmetry of the hexagonal pattern is aligned with an axis of the alignment key.例文帳に追加

ｃＭＵＴ層を微細加工するためのマスクレイアウト中に、六角形パターンの対称の軸がアラインメントキーの軸と整列するまで六角形のパターン又はアラインメントキーのいずれかが回転される。 - 特許庁

A drawing file is created to assign a preliminarily formed basic recording pattern and representing a drawing pattern to be drawn on a recording medium, while an alignment file is created to designate the position of an alignment mark in the drawing pattern and representing the position of the alignment mark on the drawing pattern.例文帳に追加

予め形成された基本記録パターンを割り付けて、被記録媒体に描画する描画パターンを表記する描画ファイルを作成すると共に、前記描画パターンにおけるアライメントマークの位置を指定し、前記描画パターン上におけるこのアライメントマークの位置を表記してなるアライメントファイルを作成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

The alignment coordinate is used to perform alignment of a detection image and the design information for correction of a shift amount and comparison is made with the pattern of a coordinate expected to have the same pattern, thereby performing pattern comparison by image detection for one die.例文帳に追加

位置合わせ座標で検出画像と設計情報の位置合わせを行いずれ量を補正し、同一なパターンが期待できる座標のパターンと比較することにより、１ダイのみの画像検出であってもパターン比較を行うことができる。 - 特許庁

Since molecules are aligned in a relief pattern state in the pattern (polyimide film) obtained by this invention, a relief pattern most suitable for a liquid crystal alignment film or the like can be provided without rubbing process for alignment of liquid crystal.例文帳に追加

また、本発明で得られたパターン（ポリイミド膜）は、レリーフパターンとされた状態で分子配向しているので、液晶を配向させるためのラビング処理を施すことなく、液晶配向膜等として最適なレリーフパターンを提供することができる。 - 特許庁

To provide an original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display, the original plate allowing easy and mass production of a pattern alignment layer with which a high-quality pattern retardation film for a three-dimensional display device can be formed.例文帳に追加

本発明は、高品質な３次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる３次元表示用パターン配向層用原版を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing equipment, constituted of a pattern recognition device for recognizing a pattern of a mark and an alignment device for determining the alignment condition of a wafer, based on the output of the pattern recognition device.例文帳に追加

標識のパターンを認識するパターン認識装置と、パターン認識装置の出力からウェーハの整合状態を決定する整合装置とを有する、整合状態の決定装置を備える、半導体の製造装置を提供することである。 - 特許庁

In the ink jet printing system, coating liquid such as the alignment layer is applied to a coating pattern region of the alignment layer or the like where a right-angle triangular pattern is extended in an arrangement for extending opposite sides of the rectangular shape in each corner part, of a rectangular basic coating pattern.例文帳に追加

矩形状の基本塗布パターンの、各コーナ部において矩形の対向辺を延長する配置で直角三角形状パターンを延設した配向膜等の塗布パターン領域に、インクジェット印刷方式で配向膜等の塗布液を塗布する。 - 特許庁

For elements corresponding to functional patterns including a position detection pattern, an alignment pattern and the like, values (for example, 2 or 3) except for 0 and 1 are stored.例文帳に追加

位置検出パターンやアライメントパターン等の機能パターンに対応する要素には、「０」「１」以外の値（例えば「２」または「３」）を格納しておく。 - 特許庁

To provide a long pattern alignment film capable of easily manufacturing a large number of pattern phase difference films.例文帳に追加

本発明は、パターン位相差フィルムを容易かつ大量に製造することが可能な長尺パターン配向膜を提供することを主目的とする。 - 特許庁

The alignment mark is made of metal, and is used for, for example detecting the position of the conductor pattern, or forming the conductor pattern.例文帳に追加

アライメントマークは、例えば導体パターンの位置を検出するため、又は導体パターンを形成するために使用される金属製のマークである。 - 特許庁

Using alignment information obtd. during exposing, the positioning is executed for exposing a mask pattern on the substrate.例文帳に追加

露光中に得られたアライメント情報を使用して、基板にマスクパターンを露光するときの位置決めを行なう。 - 特許庁

To shorten a time required for alignment and transfer easily and accurately a mask pattern to each die of wafers.例文帳に追加

アライメントに要する時間を短縮し、マスクパターンを簡単にかつ精度よくウエハの各ダイに転写する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, MARK FOR ALIGNMENT, METHOD AND APPARATUS FOR FORMATION OF PATTERN AS WELL AS PASTE例文帳に追加

半導体装置およびその製造方法、位置合わせ用マーク、パターン形成方法・装置およびペースト - 特許庁

To provide a method and jig for simple mask alignment by which a resist pattern can be formed at a low cost.例文帳に追加

低コストでレジストパターン形成を行うことができる簡易マスクアライメント方法及び治具を提供する。 - 特許庁

In order to form a P body 4a, boron ions are implanted into the pattern 3b from its edge by self alignment.例文帳に追加

Ｐボディ４ａを形成するために、ポリシリコンパターン３ｂのエッジからセルフアラインでボロンを注入する。 - 特許庁

Then, an alignment pattern is formed by taking the logical OR of respective bit representation patterns (S708).例文帳に追加

そして、それぞれのビット表現パターンの論理和を取ることで位置合わせパターンを作成する（Ｓ７０８）。 - 特許庁

To use an alignment precision measuring mark formed on a lower conductive film pattern plural times.例文帳に追加

下層の導電膜パターンに形成されているアライメント精度計測マークを複数回利用できるようにする。 - 特許庁

An alignment pattern detection sensor 40 includes a light emitting diode (LED) 40A and a photo diode (PD) 40B, these elements are disposed along the scanning direction of the alignment pattern Pm, and the photo diode 40B is disposed so as to receive only diffused reflection light of reflected light from the alignment pattern Pm.例文帳に追加

位置合わせパターン検知センサ４０は、発光ダイオード（ＬＥＤ）４０Ａと、フォトダイオード（ＰＤ）４０Ｂを有し、これらの素子は位置合わせパターンＰｍの走査方向に沿って配置され、フォトダイオード４０Ｂが、位置合わせパターンＰｍからの反射光の拡散反射光のみを受光できるように配置されている。 - 特許庁

To provide a new pattern forming method to be applied to high-accuracy alignment of a mold and a work.例文帳に追加

モールドとワークとの高精度な位置合わせに適用される新規なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a flush memory element by utilizing a self-alignment non-exposure pattern formation process.例文帳に追加

自己整列無露光パターン形成プロセスを利用してフラッシュメモリ素子を製造する方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, a second alignment is performed using a photomask 5 to partly remove the resist pattern 2a.例文帳に追加

つぎに、フォトマスク５を用いて第２の露光が行われることにより、レジストパターン２ａの一部が除去される。 - 特許庁

PATTERN EVALUATION METHOD, ALIGNMENT METHOD, INSPECTION METHOD OF INSPECTION APPARATUS, AND CONTROL METHOD OF SEMICONDUCTOR-MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

パターン評価方法，位置合わせ方法、検査装置の検査方法，半導体製造工程の管理方法 - 特許庁

An alignment layer 52 for aligning the liquid crystal 50 is formed on the pattern electrodes 58 and 60.例文帳に追加

パターン電極５８、６０の上には、液晶５０を配向させるための配向膜５２が形成されている。 - 特許庁

To uniformly form a fine stripe-shaped pattern in a vertical alignment division type liquid crystal display.例文帳に追加

垂直配向分割型液晶表示装置において、微細なストライプ状パターンを均一に形成する。 - 特許庁

To provide a method and device for substrate alignment, and to provide method and device for pattern inspection that use the method and the device.例文帳に追加

基板整列方法及び装置、これを用いた基板のパターン検査方法及び装置が開示される。 - 特許庁

On the alignment mark formed on a semiconductor substrate, an inhibition pattern is arranged, which has an edge in the functional region of the alignment mark and inhibits the alignment mark to be recognized as the alignment mark by an image detector of an exposure device.例文帳に追加

半導体基板上に形成されたアライメントマーク上に、前記アライメントマークのマーク機能領域内にパターンのエッジを有し、前記アライメントマークが露光装置の画像検出器により前記アライメントマークとして認識されるのを阻害する阻害パターンを配置する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a letterpress plate for printing an alignment layer solution, with which a defective pattern section of a printing plate for printing the alignment layer solution is corrected for the purpose of uniformly printing an alignment layer on a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板に配向膜を均一に印刷することができるように配向膜溶液印刷用版のパターン欠陥部を修正する配向膜溶液印刷用凸版の修正方法を提供する。 - 特許庁

An alignment mark structure associated includes a ground layer 5 having a line-shaped pattern located below an alignment mark 8, and a metal diffusion preventing/etching stopper layer 6 between the ground layer 5 and the alignment mark 8.例文帳に追加

本発明に係るアライメントマーク構造は、アライメントマーク８の下方に、ライン状のパターンを有する下地層５を備え、さらに、下地層５とアライメントマーク８との間に、金属拡散防止兼エッチングストッパ層６を備える。 - 特許庁