「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD, ALIGNMENT MARK AND USAGE OF HARD MASK MATERIAL例文帳に追加

方法、アライメントマークおよびハードマスク材料の使用 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF DETECTING ALIGNMENT MARK例文帳に追加

半導体装置及びアライメントマークの検出方法 - 特許庁

An index St is calculated, being a mean difference between the mark interval SLnm of the corrected alignment mark, and the measured mark interval MLnm of the alignment mark.例文帳に追加

そして、補正アライメントマークのマーク間隔ＳＬｎｍと、計測したアライメントマークのマーク間隔ＭＬｎｍとの平均差である指標Ｓｔを算出する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an alignment mark which ensures alignment of sides for defining the outer contour of an alignment mark without falsely recognizing them as slits formed in the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの外形を規定する辺をアライメントマーク内に設けられたスリットと誤認識することなく、確実にアライメントできるアライメントマークを有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

The alignment system includes a radiation source configured to illuminate an alignment mark on the substrate or on the reticle, the alignment mark comprising a maximum length sequence or a multi periodic coarse alignment mark.例文帳に追加

アラインメントシステムは、基板上またはレチクル上のアラインメントマークを照明する放射源を備え、アラインメントマークは、最大長シーケンスマークまたは多重周期的粗アラインメントマークを含む。 - 特許庁

RECOGNITION MARK STRUCTURE FOR ALIGNMENT AND LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加

位置合わせ用認識マーク構造及び液晶素子 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MARKING ALIGNMENT MARK例文帳に追加

アライメントマーク刻印方法及びアライメントマーク刻印装置 - 特許庁

To accurately detect a position of an alignment mark of a mask and a position of an alignment mark of an underlying pattern on a substrate by accurately focusing an image capturing device on the alignment mark of the mask and the alignment mark of the underlying pattern on the substrate.例文帳に追加

画像取得装置の焦点をマスクのアライメントマーク及び基板の下地パターンのアライメントマークに精度良く合わせて、マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。 - 特許庁

The reticle 2 is formed with an alignment mark AM.例文帳に追加

レチクル２にはアライメントマークＡＭが形成されている。 - 特許庁

The pattern region (BD) functions as an alignment mark.例文帳に追加

パターン領域（ＢＤ）はアライメントマークとして機能する。 - 特許庁

The transfer electrode 16 and the alignment mark 17 are commonly used.例文帳に追加

トランスファ電極16とアライメントマーク17とを兼用する。 - 特許庁

MANUFACTURE OF INTEGRATED CIRCUIT COMPRISING ALIGNMENT MARK例文帳に追加

位置合わせマ—クを含む集積回路の作製方法 - 特許庁

ALIGNMENT MARK, AND METHOD AND DEVICE FOR MEASURING ALIGNMENT ACCURACY USING THE SAME例文帳に追加

アライメントマーク、及びこれを用いたアライメント精度測定方法並びに測定装置 - 特許庁

Thus, only the alignment mark can be taken at the photographing for alignment.例文帳に追加

位置合わせのための撮影に際し位置合せマークのみを写すことができる。 - 特許庁

To raise contrast between an alignment mark and a colored resist and to raise alignment accuracy.例文帳に追加

アライメントマークと着色レジストとのコントラストを高め、アライメントの精度を高める。 - 特許庁

An alignment tool illuminates an alignment mark P1 on a substrate W with an alignment beam, and measures a reflection spectrum.例文帳に追加

アライメントツールは、基板Ｗ上のアライメントマークＰ１をアライメントビームで照らし、反射スペクトルを測定する。 - 特許庁

In a semiconductor wafer 101 (semiconductor substrate), a post 26 for defense to defense an alignment mark 24 (pillar member for alignment) is arranged together with the alignment mark 24 surrounding the circumference of the alignment mark 24 in an alignment mark formation region 14.例文帳に追加

半導体ウエハ１０１（半導体基板）において、アライメントマーク形成領域１４に、アライメントマーク２４（アライメント用柱状部材）と共に、アライメントマーク２４の周囲を取り囲んで、アライメントマークを防御するための防御用ポスト２６が配設させる。 - 特許庁

MARK STRUCTURE FOR COARSE WAFER ALIGNMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING SUCH MARK STRUCTURE例文帳に追加

粗ウェーハ位置合わせ用マーク構造及びこのようなマーク構造の製造方法 - 特許庁

MARK DETECTION METHOD, ALIGNMENT METHOD, EXPOSURE METHOD, PROGRAM AND MEASURING APPARATUS OF MARK例文帳に追加

マーク検出方法、位置合わせ方法、露光方法、プログラム及びマーク計測装置 - 特許庁

To detect an alignment mark or an inspection mark formed on a substrate at high accuracy.例文帳に追加

基板上に形成されるアライメントマークや検査マークを高精度に検出する。 - 特許庁

Besides, when a mark re-attaching area including the alignment mark and an additional information writing area are located to overlap each other, an overlap writing treatment for synthesizing the original alignment mark and the new alignment mark is done without erasing the original alignment mark.例文帳に追加

他方、位置合わせマークが含まれるマーク付け替え領域と、付加情報の記載領域とが重なり合う場合には、元の位置合わせマークを消去することなくこれに新しい位置合わせマークを合成させる重ね書き処理を行う。 - 特許庁

To extract an alignment mark candidate becoming the reference of alignment of an FPD substrate surely, even when an alignment mark and a similar mark are attached to the FPD substrate.例文帳に追加

ＦＰＤ基板にアライメントマークと、これに類似するマークが付されている場合であっても、確実にＦＰＤ基板の位置合せの基準となるアライメントマーク候補を抽出する。 - 特許庁

To provide an alignment mark structure in which an alignment mark on a wafer is not damaged or deteriorated through CMP process but definite quality of the alignment mark can be sustained visually.例文帳に追加

ウェハ上のアライメントマークがＣＭＰプロセスによって損なわれたり劣化することなく視覚的に明瞭な品質を保つことの出来るアライメントマーク構造を提供する。 - 特許庁

METHOD OF ALIGNING WAFER WITH PROXIMATE MASK AND ALIGNMENT MARK例文帳に追加

近接したマスクとウエハとのアライメント方法とアライメントマーク - 特許庁

To provide a part mounting circuit board capable of further miniaturizing an alignment mark while maintaining the function of the alignment mark.例文帳に追加

位置合わせマークを機能を維持しつつ、更なる小型化が可能な部品実装回路基板を提供する。 - 特許庁

PROBE CARD AND METHOD FOR FORMING ALIGNMENT MARK THERETO例文帳に追加

プローブカード及びこれにアライメントマークを形成する方法 - 特許庁

The space pattern 2S of the second alignment mark 2 is a reversal pattern of the line pattern 1L of the first alignment mark 1.例文帳に追加

第２アライメントマーク２のスペースパターン２Ｓは、第１アライメントマーク１のラインパターン１Ｌの反転パターンとなっている。 - 特許庁

To repetitively use an alignment mark of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板のアライメントマークを繰り返し使用する。 - 特許庁

To improve positioning accuracy by utilizing an alignment mark, and to remove the alignment mark without performing processes dedicated to the removal.例文帳に追加

アライメントマークを利用して位置決め精度を向上させ、専用の工程を設けないでも除去可能にする。 - 特許庁

A plurality of alignment mark elements 2 are also placed in a long period A to constitute an alignment mark as a whole.例文帳に追加

アライメントマーク要素２も、長い周期Ａで複数配置されており、全体としてアライメントマークを構成している。 - 特許庁

OBJECT TO BE EXPOSED HAVING ALIGNMENT MARK AND ITS METHOD例文帳に追加

位置合わせ用マークを有する被露光体及び方法 - 特許庁

BINARY SINE SUB WAVELENGTH GRATING AS ALIGNMENT MARK例文帳に追加

アライメントマークとしての２元正弦サブ波長回折格子 - 特許庁

METHOD OF CREATING ALIGNMENT MARK ON SUBSTRATE, AND SUBSTRATE例文帳に追加

基板上にアライメントマークを作成する方法および基板 - 特許庁

A first alignment mark 21 is formed on a substrate 20.例文帳に追加

基板２０上に第一アライメント・マーク２１を形成する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND ALIGNMENT INSPECTION MARK例文帳に追加

半導体装置及びその製造方法、合わせ検査マーク - 特許庁

ALIGNMENT MARK AND ALIGNMENT APPARATUS AND METHOD, PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

アライメントマーク及びアライメント装置とその方法、及び露光装置、デバイスの製造方法 - 特許庁

Prior to that, alignment of the substrate 1 and the first mold 6 is conducted by conducting the alignment of an alignment mark 5 of the substrate holder 2 and an alignment mark 8 of the first mold 6.例文帳に追加

その前に、基板ホルダー２のアライメントマーク５と第１の型６のアライメントマーク８との位置合わせを行うことにより、基板１と第１の型６との位置合わせを行う。 - 特許庁

When the center of the real mask alignment mark is aligned with the center of the cut-out mask alignment mark, mask alignment between the front mask and a back mask 9 is completed.例文帳に追加

実マスクアライメントマークの中心が、抜けマスクアライメントマーク中心に位置すると、表マスク及び裏マスク９のマスクアライメントが完了する。 - 特許庁

The mounting point of the LD21 is determined by alignment between a first alignment mark M11 on the substrate and a second alignment mark M12 on the LD21.例文帳に追加

ＬＤ２１搭載位置は、基板上の第１のアライメントマークＭ１１とＬＤ２１上の第２のアライメントマークＭ１２との位置合わせで決められる。 - 特許庁

An alignment mark system is used to detect an alignment mark (EGA mark or search mark) formed on a wafer under a plurality of illumination conditions or a plurality of imaging conditions.例文帳に追加

アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件又は複数の結像条件で検出される。 - 特許庁

A mark detecting means 16 of a second printer P2 detects this alignment mark Rm.例文帳に追加

この位置合せマーク(Rm)を第２印刷装置(P2)のマーク検出手段(16)で検出する。 - 特許庁

WAFER ALIGNMENT MARK FOR IMAGE-PROCESSING ALIGNMENT, IMAGE-PROCESSING ALIGNMENT METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

画像処理アライメント用ウェハアライメントマーク及び画像処理アライメント方法並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

The alignment mark is utilized for the mutual alignment of the lenses or the alignment of the lens with other optical parts.例文帳に追加

この位置合わせマーカは、レンズ同士の位置合わせ、あるいはレンズと他の光学部品との位置合わせに利用する。 - 特許庁

An alignment signal produced from the alignment mark is detected by a detection system.例文帳に追加

アラインメントマークから生成されるアラインメント信号が、検出システムにより検出される。 - 特許庁

For this, there is formed no step on the alignment mark 8 that is a factor of deterioration of alignment accuracy.例文帳に追加

そのため、アライメント精度の劣化の要因となるアライメントマーク８の段差は生じない。 - 特許庁