「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve an alignment mark detection accuracy in an electron beam exposure.例文帳に追加

電子ビーム露光における、アライメントマーク検出精度を向上する。 - 特許庁

The base plate G is provided with a base plate side alignment mark GM.例文帳に追加

基板Ｇには基板側位置合わせマークＧＭが設けられている。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING ALIGNMENT MARK AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

アライメントマーク形成方法及び光半導体素子の製造方法 - 特許庁

CONSTRUCTION OF ALIGNMENT MARK OF SEMICONDUCTOR DEVICE ARRAY CHIP AND ITS ARRANGING METHOD例文帳に追加

半導体素子アレイチップのアライメントマークの構造および配置方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MARK FOR EXPOSURE ALIGNMENT ON MULTILAYER WIRING BOARD例文帳に追加

多層配線基板における露光位置合わせ用マークの形成方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR ALIGNMENT MARK RECOGNITION, AND CONNECTION DEVICE例文帳に追加

アライメントマーク認識方法，アライメントマーク認識装置および接合装置 - 特許庁

To provide an alignment mark capable of being formed with a correct and sharp profile upon forming a via hole and an alignment mark in a single etching process.例文帳に追加

ビアホールとアライメントマークとを同じエッチング工程で形成する際、正確でシャープな輪郭で形成できるアライメントマークを提供する。 - 特許庁

The surface-roughened alignment mark is formed in the process of roughening an LED 10 surface on which the wafer alignment mark resides by plasma etching.例文帳に追加

粗面化アライメントマークは、ウエハアライメントマークが位置するＬＥＤ１０の表面をプラズマエッチングによって粗面化する際に形成される。 - 特許庁

To reduce relative displacement between an alignment mark and a pedestal, when manufacturing a substrate equipped with the pedestal with the alignment mark formed thereon.例文帳に追加

アライメントマークが形成された台座付きの基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減する。 - 特許庁

A first stage holds a first member including a first alignment mark, and a second stage holds a second member including a second alignment mark.例文帳に追加

第１ステージが、第１アライメントマークを有する第１部材を保持し、第２ステージが、第２アライメントマークを有する第２部材を保持する。 - 特許庁

Then, a meandering amount of the alignment mark 2a is calculated from the detection results of the detection part 14 to move the alignment mark forming part 13.例文帳に追加

そして、検出部１４の検出結果によりアライメントマーク２ａの蛇行量を演算し、アライメントマーク形成部１３を移動させる。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER CONTAINING ALIGNMENT MARK FOR ALIGNING WAFER ON ALIGNER, ALIGNING SYSTEM FOR GENERATING ALIGNMENT SIGNAL FROM ALIGNMENT MARK, AND METHOD OF DETERMINING WAFER ALIGNMENT例文帳に追加

露光装置にウェ—ハを整列するための整列マ—クを含む半導体ウェ—ハ、この整列マ—クから整列信号を発生する整列システム及び整列マ—クからウェ—ハの整列状態を決定する方法 - 特許庁

To provide an alignment device for exposure equipment which hardly causes a change in a relative position of pattern between the alignment mark of a substrate and the alignment mark of a mask even if the optical axis deviation of an optical path occurs and has high alignment accuracy.例文帳に追加

光路の光軸ずれが生じても、基板のアライメントマークとマスクのアライメントマークとのパターン相対位置の変化が生じにくく、アライメント精度が高い露光装置のアライメント装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mark recognition device which can calculate an accurate reference point of an alignment mark even when the alignment mark includes a set of a plurality of marks.例文帳に追加

アライメントマークを複数のマークの集合体から構成した場合にも、アライメントマークの正確な基準点を算出することができる、マーク認識装置を提供する。 - 特許庁

An alignment detection system is used to detect an alignment mark (EGA mark or search mark) formed on a wafer under a plurality of illumination conditions and a plurality of imaging conditions.例文帳に追加

アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件及び結像条件で検出される。 - 特許庁

To provide an alignment mark, a forming method of the alignment mark and the detecting method of the alignment mark by accurately detecting the edge part of the alignment mark by suppressing the asymmetry of the intensity distribution of a reflected signal caused by the difference of the thickness of a metal film formed on the side wall surface of a mark pattern.例文帳に追加

マークパターンの側壁面に形成される金属薄膜の膜厚の差に起因する、反射信号の強度分布の非対称性を抑制して、アライメントマークのエッジ部を精度良く検出することができるアライメントマーク及びアライメントマークの形成方法並びにアライメントマークの検出方法を提供する。 - 特許庁

Further, the bonding region R1 includes an alignment mark M1a and an alignment mark M1b for positioning the flexible substrate 2 to be bonded, and the bonding region R2 includes an alignment mark M2a and an alignment mark M2b for positioning the flexible substrate 2 to be bonded, respectively.例文帳に追加

さらに、接合領域Ｒ１には、接合されるフレキシブル基板２の位置合わせのためのアライメントマークＭ１ａとアライメントマークＭ１ｂとが、また接合領域Ｒ２には、接合されるフレキシブル基板２の位置合わせのためのアライメントマークＭ２ａとアライメントマークＭ２ｂとが、それぞれ形成されている。 - 特許庁

In addition, an aligner provided with the means for inputting an alignment mark is provided with a means for inputting plurally the alignment mark image, and a buffer 12 which adds the plurally inputted alignment mark image and prepares an added alignment mark image.例文帳に追加

また、位置合わせ用マーク入力手段を備える露光装置は、前記位置合わせ用マーク像を複数回入力する手段と、該複数回入力された位置合わせ用マーク像を加算して、加算された位置合わせ用マーク像を作成する手段であるバッファ１２とを有する。 - 特許庁

ALIGNMENT ADJUSTMENT METHOD, METHOD FOR FORMING ALIGNMENT MARK, BASE MATERIAL, AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSMISSIVE OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

アライメント調整方法、アライメントマークの形成方法、基材、及び透過型光学素子の製造方法 - 特許庁

SUBSTRATE PROVIDED WITH ALIGNMENT MARK OF REFLECTION TYPE HOLOGRAM, ALIGNMENT DEVICE THEREOF, AND REFLECTION TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

反射型ホログラムのアライメントマークを備えた基板、そのアライメント装置及び反射型液晶表示装置 - 特許庁

If the image signal is determined as that of the alignment mark AM1, the alignment of the wafer W is executed.例文帳に追加

アライメントマークＡＭ１の画像信号として判断された場合には、ウエハＷのアライメントを実行する。 - 特許庁

To prevent wrong alignment of a mask and a substrate, using an alignment mark for a different coloring pattern.例文帳に追加

異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うのを防止する。 - 特許庁

If there is no alignment mark AM in a range of an image obtained by a camera 62, coordinates of the alignment mark AM are calculated on the basis of an identification mark which exists in the range of the image and a positional relation between the identification mark and the alignment mark AM stored in advance.例文帳に追加

カメラ６２により得られる画像の範囲内にアライメントマークＡＭが存在しない場合に、画像の範囲内に存在する識別マークおよび予め記憶されたアライメントマークＡＭと識別マークとの位置関係に基づいてアライメントマークＡＭの座標が算出される。 - 特許庁

From among these, the target alignment mark is identified on the basis of the distance between a plurality of alignment marks or deposition of a plurality of alignment marks.例文帳に追加

これらの中から、複数のアライメントマークの間の距離又は複数のアライメントマークの配置に基づいて、ターゲットアライメントマークを識別する。 - 特許庁

To provide an alignment mark which can be detected with both an optical alignment sensor and an alignment sensor that uses charged particle beam.例文帳に追加

光学式のアライメントセンサと荷電粒子線を使用するアライメントセンサの両方で検出が可能であるアライメントマークを提供する。 - 特許庁

An alignment mark structure associated includes a ground layer 5 having a line-shaped pattern located below an alignment mark 8, and a metal diffusion preventing/etching stopper layer 6 between the ground layer 5 and the alignment mark 8.例文帳に追加

本発明に係るアライメントマーク構造は、アライメントマーク８の下方に、ライン状のパターンを有する下地層５を備え、さらに、下地層５とアライメントマーク８との間に、金属拡散防止兼エッチングストッパ層６を備える。 - 特許庁

The location where the alignment mark 150 is provided is well specified as the location to confirm a shape of the alignment mark from the front surface side of the LSI 142 and the alignment mark 150 is desirably provided at the uppermost layer of the LSI 142.例文帳に追加

アライメントマーク１５０を設ける位置は、ＬＳＩ１４２の表面側からアライメントマークの形状を確認することができる位置であればよく、ＬＳＩ１４２の最上層に設けられるのが好ましい。 - 特許庁

When the alignment mark 14 is detected by using a pattern matching operation, edge parts of the alignment mark 14 are covered with a plurality of rectangles S_1, S_2, S_3, S_4, the pattern matching operation is applied to the plurality of rectangles, and the alignment mark is detected.例文帳に追加

パターンマッチングを利用してアライメントマーク１４を検出する際に、アライメントマーク１４のエッジ部を複数の矩形Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４でカバーし、該複数の矩形にパターンマッチングを適用して、アライメントマークを検出する。 - 特許庁

MARK AND METHOD FOR ALIGNMENT FOR PATTERN EXPOSURE, AND ALIGNER例文帳に追加

パターン露光用位置合わせマーク及び位置合わせ方法及び露光装置 - 特許庁

In addition, a structure is constructed to remove the gate electrode existing under a contact alignment mark.例文帳に追加

また、コンタクトアラインメントマーク下のゲート電極を取り除く構造にする。 - 特許庁

The alignment mark is provided so that at least one portion of the alignment mark is positioned in the cut margin region of the piezoelectric wafer cut in the cutting process.例文帳に追加

切断工程で切断される圧電ウェハの切り代領域にアライメントマークの少なくとも一部が位置するようにアライメントマークを設ける。 - 特許庁

MARK DETECTION METHOD AND DEVICE AND LENS ALIGNMENT METHOD AND DEVICE例文帳に追加

マークの検出方法及び装置、レンズの位置合わせ方法及び装置 - 特許庁

A reference treated substrate 30, onto which the 1st reference alignment mark of the reference reticle is transferred as a 3rd reference alignment mark 31, is formed.例文帳に追加

基準レチクルの第１の基準アライメントマークを第３の基準アライメントマーク３１として転写された基準処理基板３０を形成する。 - 特許庁

To accurately measure the position of an alignment mark located at a lower surface of a substrate.例文帳に追加

基板の下面に位置するアライメントマークの位置を正確に測定する。 - 特許庁

The alignment mark part 8 is formed on the main surface of the base body 7.例文帳に追加

アライメントマーク部８は、ベース体７の主表面に形成されている。 - 特許庁

An alignment mark 3 of the interposer is configured such that the alignment mark 3 formed on one principal surface is exposed from the other principal surface through a recess 7.例文帳に追加

インターポーザのアライメントマーク3を、一方の主面に形成されたアライメントマーク3が、他方の主面から凹部7を介して露出する構成とする。 - 特許庁

METAL MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE METAL MASK AND METHOD FOR FORMING ALIGNMENT MARK例文帳に追加

メタルマスク及びその製造方法、並びにアライメントマークの形成方法 - 特許庁

A coaxial reflection lighting device 22 and a transmission lighting device 31 are provided, respectively, for a mask-side alignment mark 17 and a substrate-side alignment mark 16.例文帳に追加

マスク側アライメントマーク１７と基板側アライメントマーク１６とに対して同軸反射照明装置２２と、透過照明装置３１とを設ける。 - 特許庁

To form an alignment mark having high accuracy.例文帳に追加

本発明は、精度の高い位置決めマークを形成することを目的とする。 - 特許庁

To suppress the slurry of CMP to remain in an alignment mark portion.例文帳に追加

アライメントマーク部分にＣＭＰのスラリーが残存することを抑制する。 - 特許庁

STENCIL MASK, METHOD OF TRANSFERRING ALIGNMENT MARK, AND METHOD OF MANUFACTURING STENCIL MASK例文帳に追加

ステンシルマスク、アライメントマークの転写方法及びステンシルマスクの製造方法 - 特許庁

To solve the problem wherein an alignment mark becomes is difficult to be detected even when the alignment mark is provided on the peripheral part of a wafer.例文帳に追加

アライメントマークがウエハ周辺部に設けられている場合であっても、アライメントマークの検出がしづらくなるといった問題を解決すること。 - 特許庁

A step-difference is formed on the alignment mark 21 through the etching process.例文帳に追加

このエッチング工程を通して、アライメントマーク２１に段差を形成する。 - 特許庁

ALIGNMENT MARK MEASURING METHOD AND DEVICE, AND DRAWING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

アライメントマーク測定方法および装置並びに描画方法および装置 - 特許庁

A mask alignment sensor attached on the fine-adjustment top table observes a mask mark and the reference mark simultaneously.例文帳に追加

微動トップテーブルに取り付けられたマスクアライメントセンサが、マスクマークと基準マークとを同時に観測する。 - 特許庁