「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The initial deviation amount measurement mark M2 is preferred to be composed of a basic mark M21 constituting a slide caliper pattern and an alignment mark M22.例文帳に追加

初期位置ずれ量測定マークＭ２は、好適にはノギスパターンを構成する基本マークＭ２１及びアライメントマークＭ２２で構成される。 - 特許庁

To achieve fast mask alignment by obtaining the information of a superimposed state of a real mask alignment mark and a cut-out mask alignment mark formed on a top mask and a back mask, with high accuracy in a short time.例文帳に追加

表マスク及び裏マスクに形成した実マスクアライメントマーク、抜けマスクアライメントマークの重畳状態の情報を高精度に短時間の間で得ることで、マスクアライメントの迅速化を図る。 - 特許庁

When each aligner 11-13 executes shot in plural chip regions on a wafer, an alignment accuracy measuring instrument 3 measures and evaluates an alignment mark (alignment measurement mark).例文帳に追加

重ね合わせ精度測定器３は、露光装置１１〜１３各号機が実際にウェハ上に複数のチップ領域についてショットを実施した時に、アライメントマーク（アライメント計測マーク）を計測、評価する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an alignment substrate having an alignment mark formed in the position to be in contact with a liquid crystal layer without increasing the number of processes relating to the formation of the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの形成に係る工程の増加を招くことなく、液晶層と接する箇所において形成されたアライメントマークを備える配向基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A reference reticle having a 1st reference alignment mark is used to form a reticle 20 with a 2nd reference alignment 21 identical with the 1st reference alignment mark.例文帳に追加

アライメント方法において、まず第１の基準アライメントマークを有する基準レチクルから第１の基準アライメントマークと同一の第２の基準アライメントマーク２１を有するレチクル２０を形成する。 - 特許庁

Forming a groove 150 formed on an upper part of the trench of the alignment mark part 300 deeper than the surface of the semiconductor substrate increases the signal strength of the alignment with the alignment mark used.例文帳に追加

合わせマーク部３００のトレンチ上部に形成する溝１５０を半導体基板表面よりも深く形成することにより、合わせマークを用いたアライメントの信号強度を上げる。 - 特許庁

To perform highly accurate alignment between a mask and a substrate in a short time by quickly and highly accurately detecting a position of an alignment mark on the mask and a position of an alignment mark on a base pattern of the substrate.例文帳に追加

マスクのアライメントマークの位置及び基板の下地パターンのアライメントマークの位置を迅速に精度良く検出して、マスクと基板との位置合わせを短時間で高精度に行う。 - 特許庁

To recognize highly accurately the position of an alignment mark whose shape is not completely uniform with respect of the technology of recognizing the position of an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの位置を認識する技術に関し，形状が完全には一様でないアライメントマークの位置を高い精度で認識することを目的とする。 - 特許庁

An alignment mark is detected by a CCD camera 320 in the state that a counter substrate 220 on which the alignment mark is formed is adsorbed and held on a head 361.例文帳に追加

アライメントマークが形成された対向基板２２０をヘッド３６１に吸着保持した状態で、ＣＣＤカメラ３２０にてアライメントマークを検出する。 - 特許庁

To provide a method for forming an alignment mark on a glass substrate at a low cost.例文帳に追加

低コストでガラス基板上にアライメントマークを形成する方法の提供。 - 特許庁

The effective region SLA-V is formed with at least an alignment mark.例文帳に追加

有用領域ＳＬＡ−Ｖには少なくともアライメントマークが形成される。 - 特許庁

During measurement, an alignment mark extracting section 18j extracts the shape of an alignment mark from an image of an image processing area, selected from images based on image data.例文帳に追加

計測時にアライメントマーク抽出部１８ｊは、画像データに基づく画像のうち画像処理領域の画像からアライメントマークの形状を抽出する。 - 特許庁

The extracted signal part is amplified and determined whether the image signal is corresponding to the alignment mark AM1 or not based on the design value of the alignment mark AM1.例文帳に追加

抽出された信号部分を増幅して、アライメントマークＡＭ１の設計値に基づいて画像信号がアライメントマークＡＭ１に該当するか否かを判断する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR FORMING RESIST ALIGNMENT MARK THROUGH DOUBLE PATTERNING LITHOGRAPHY PROCESS例文帳に追加

ダブルパターニングリソグラフィプロセスでレジストアライメントマークを形成する装置および方法 - 特許庁

To provide highly accurate alignment mark for drawing which enables highly accurate alignment mark drawing without adversely affecting the side of a drawing device or an optimized resist process.例文帳に追加

描画装置側や最適化されたレジスト工程に影響を与えずに高精度なアライメント描画を可能にする高精度な描画用アライメントマーク。 - 特許庁

A substrate having an alignment mark formed thereon is photographed to obtain a photographed image.例文帳に追加

アライメントマークが形成された基板を撮像し、撮像画像を取得する。 - 特許庁

An alignment mark pattern is provided with first and second sub-segmented elements.例文帳に追加

アライメントマークパターンには、第１及び第２のサブセグメント化要素が提供される。 - 特許庁

To measure the positional information of an alignment mark by applying an AGC on the detection signal of the alignment mark by finding out the detection signal buried in the noise signals.例文帳に追加

ノイズ信号中に埋もれたアライメントマークの検出信号を探しだして、これにＡＧＣをかけてアライメントマークの位置情報を計測すること。 - 特許庁

An arm alignment mark 31 is provided between a boom 12 and an arm 16, and a link alignment mark 32 is provided between the arm 16 and a link mechanism 24.例文帳に追加

ブーム１２とアーム１６との間にアーム位置合せマーク３１を設け、アーム１６とリンク機構２４との間にリンク位置合せマーク３２を設ける。 - 特許庁

METHOD FOR DETECTING MARK FOR ALIGNMENT IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

荷電粒子線露光装置における位置合わせ用マークの検出方法 - 特許庁

The groove 105 of the alignment mark is formed in the inter-layer insulating film 104.例文帳に追加

層間絶縁膜１０４中に、アライメントマークの溝１０５を形成する。 - 特許庁

To precisely position a substrate even when the precise position of an alignment mark is unknown in the positioning of the substrate provided with the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークを備える基板の位置決めにおいて、アライメントマークの正確な位置が未知である場合においても、正確に基板の位置合せを行なう。 - 特許庁

To improve pattern accuracy in fabricating a substrate with a pedestal in which an alignment mark is formed, by reducing the relative positional deviation of the pedestal from the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークが形成された台座付き基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減し、パターン精度を向上させる。 - 特許庁

A target alignment mark is identified based on whether or not an auxiliary pattern exists in an auxiliary pattern region in the four corners of each alignment mark.例文帳に追加

これらの中から、各アライメントマークの４隅に補助パターン領域に補助パターンが存在するか否かに基づいて、ターゲットアライメントマークを識別する。 - 特許庁

To reduce erosion and improve an overlay accuracy of an alignment mark in an alignment mark formation process of a semiconductor device using chemical machine polishing.例文帳に追加

化学的機械研磨を利用した半導体装置のアライメントマーク形成プロセスにおいて、エロージョンを低減し、アライメントマークの重ね合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

This can be attained by providing the algorithm of optimizing the alignment mark detection conditions and a unit for controlling the alignment-mark detection conditions as its implementation means.例文帳に追加

位置合わせマーク検出条件最適化のアルゴリズムとその実行手段である位置合わせマーク検出条件制御ユニットを設ける事で達成できる。 - 特許庁

ALIGNMENT MARK, FORMATION METHOD THEREFOR AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

アライメントマークおよびその形成方法、並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁

To reduce the influence of the detection of an alignment mark formed in a lower layer while increase in a region which is occupied with the alignment mark is suppressed.例文帳に追加

アライメントマークが占有する領域の増加を抑えつつも、下層に形成されたアライメントマークが検出されることによる影響を小さくする。 - 特許庁

The position of a product is measured by using an alignment mark on the product.例文帳に追加

製品の位置はその製品上のアライメントマークを使用して測定される。 - 特許庁

The first alignment mark and the second alignment mark are detected, and the head substrate and the relay substrate are positioned based on the detection result.例文帳に追加

前記第１アライメントマーク及び前記第２アライメントマークを検出し、この検出結果に基づいて前記ヘッド基板と前記中継基板とを位置合わせする。 - 特許庁

ALIGNMENT MARK, AND FORMING METHOD THEREFOR, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

アライメントマーク及びその形成方法、半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

The method includes determining a plurality of positional parameters of each alignment mark.例文帳に追加

方法は、各アラインメントマークの複数の位置パラメータを決定することを含む。 - 特許庁

In the diffraction optical element 17, a mark 17a for alignment is formed on the axial center, but the mark for alignment is not formed on the objective lens.例文帳に追加

回折光学素子１７には軸芯上に芯合わせ用マーク１７ａが形成されており、対物レンズ１９には芯合わせ用マークが形成されていない。 - 特許庁

Thereafter, solder paste 41 is printed direct on the surfaces of the FC pad 11 and the alignment mark 13, and then a flux is applied on the surface of the alignment mark 13.例文帳に追加

この後、ＦＣパッド１１及びアライメントマーク１３表面にハンダペースト４１を直接印刷し、続いてアライメントマーク１３表面にフラックスを塗布する。 - 特許庁

METHOD OF DETECTING ALIGNMENT MARK POSITION AND LASER MACHINING DEVICE USING METHOD THEREOF例文帳に追加

アライメントマークの位置検出方法及び該方法を用いたレーザ加工装置 - 特許庁

The image pickup unit picks up a mask mark MM for alignment provided on the mask 30 and a wafer mark MW for alignment provided on the wafer simultaneously.例文帳に追加

前記撮像装置は、マスク３０に設けられた位置合わせ用のマスクマークＭ_M と、ウエハに設けられた位置合わせ用のウエハマークＭ_W とを同時に撮像する。 - 特許庁

A mask alignment scope 11 is loaded on a wafer stage 31 and an alignment mark position on a mask 20 is detected.例文帳に追加

ウエハステージ３１上にマスクアライメントスコープ１１を搭載し、マスク２０上のアライメントマーク位置を検出する。 - 特許庁

ALIGNMENT MARK FORMING METHOD, ALIGNMENT METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF SOLID-STATE IMAGING APPARATUS例文帳に追加

アライメントマーク形成方法、アライメント方法、半導体装置の製造方法および固体撮像装置の製造方法 - 特許庁

To provide a printing method capable of forming accurately an alignment mark, and capable of attaining highly precise alignment to allow precise positioning.例文帳に追加

アライメントマークを正確に形成し高精度アライメントを実現し高精度な位置決めをする印刷方法を得る。 - 特許庁

ALIGNMENT MARK FORMING METHOD, ALIGNMENT METHOD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING SOLID-STATE IMAGE PICKUP DEVICE例文帳に追加

アライメントマーク形成方法およびアライメント方法、半導体装置の製造方法、固体撮像素子の製造方法 - 特許庁

To provide an enhanced alignment system, particularly a system wherein a smaller alignment mark is available.例文帳に追加

改良された位置合わせシステム、特に、より小さい位置合わせ標識を使用できるシステムを提供すること。 - 特許庁

To keep the accuracy of mark position detection by detecting a mark position by picking up the image of an alignment mark at or near a focus position in all alignment detection systems, even in the case of picking up the image of the alignment mark simultaneously in a plurality of the alignment detection systems regarding a mark position detection method in an aligner for semiconductor manufacture.例文帳に追加

本発明は、半導体製造用露光装置におけるマーク位置検出方法に関し、複数のアライメント検出系で同時にアライメントマークを撮像する場合においても、全てのアライメント検出系においてアライメントマークを合焦位置またはその近傍で撮像してマーク位置検出を行うことにより、マーク位置検出の精度を保つ事を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming an alignment mark capable of suppressing deformation of the shape of a plurality of the recesses of the alignment mark when the alignment mark is dug out by etching a regrown semiconductor layer, and to provide a method for manufacturing an optical semiconductor element.例文帳に追加

再成長された半導体層をエッチングしてアライメントマークを掘り出す際に、アライメントマークの複数の凹部の形状の崩れを抑制できるアライメントマーク形成方法及び光半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A first alignment mark 81a to be used for positioning is provided on a first member 93a and a second alignment mark 81b to be used for positioning corresponding to the first alignment mark 81a is provided on a second member 93b.例文帳に追加

第１部材９３ａには、位置合わせに用いる第１アライメントマーク８１ａが設けられており、第２部材９３ｂには、第１アライメントマーク８１ａへの位置合わせに用いる第２アライメントマーク８１ｂが設けられている。 - 特許庁

To provide a method of detecting an alignment mark and a method of manufacturing a wiring circuit board, capable of reducing a time required for detection of the alignment mark without reducing an accuracy of detecting a position of the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの位置の検出精度を低下させることなくアライメントマークの位置の検出に要する時間を短縮することが可能なアライメントマークの検出方法および配線回路基板の製造方法を提供する - 特許庁