「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The provisional alignment mark, for example, can be formed on an oxide layer on the substrate.例文帳に追加

暫定位置合せマークは、たとえば酸化物層に形成することができる。 - 特許庁

To increase an alignment mark reading accuracy while preventing fuse reflection.例文帳に追加

ヒューズの反射防止を図りつつ、アライメントマークの読み取り精度を向上させる。 - 特許庁

MEASURING METHOD, METHOD OF PROVIDING ALIGNMENT MARK AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

測定方法、位置合せマークを提供するための方法及びデバイス製造方法 - 特許庁

The solid-state image pickup device also has an alignment mark 15 which is formed by penetrating the substrate 12.例文帳に追加

また、基板１２を貫通して形成されたアライメントマーク１５を有する。 - 特許庁

The alignment mark pairs 133 are located in correspondence with the respective columns Pc of the unit pixel array.例文帳に追加

アラインマーク対１３３は単位画素アレイの列Ｐｃに対応して位置する。 - 特許庁

The dummy piezoelectric generating element 17 has a first alignment mark for positioning.例文帳に追加

ダミー圧電発生素子１７は位置決め用の第１のアライメントマークを有している。 - 特許庁

Thereby, the position of the alignment mark on the object is detected with high accuracy.例文帳に追加

これにより、対象物上のアライメントマークの位置が高精度に検出される。 - 特許庁

To reliably recognize an alignment mark on forming a halftone photomask.例文帳に追加

中間調フォトマスクの形成時にアライメントマークを確実に認識できるようにする。 - 特許庁

For aligning at the time of the manufacturing, it is desirable to use an alignment mark 4.例文帳に追加

なお、製造時の位置合わせにはアライメントマーク４を用いることが好ましい。 - 特許庁

An alignment mark 10 is composed of a box pattern 1 and fringes 2A, 2B, 2C, and 2D.例文帳に追加

アライメントマーク１０は、ボックスパターン１と、フリンジ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄとから成る。 - 特許庁

To miniaturize an electro-optic device, while preventing light leakage from an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークからの光漏れを防止しつつ、電気光学装置を小型化する。 - 特許庁

To accurately recognize an alignment mark and precisely carry out an alignment operation when coupling a substrate with another substrate such as a semiconductor wafer, a glass, a film and the like, even if insufficient etching or over etching occurs when forming the alignment mark, or if an opaque particle or the like exists on a portion of the alignment mark.例文帳に追加

半導体ウェハやガラス、フィルムなどの基板と基板との接続で、アライメントマークの形成時にエッチング不足やオーバーエッチングが生じたり、アライメントマーク上の一部に不透明な粒子等が存在する場合でも、アライメントマークを正確に認識し、位置合せを精度よく行う。 - 特許庁

An alignment pattern consisting of a trench groove 21 is formed in an alignment mark formation region A1 and a light transmitting film material 3a is formed covering the alignment pattern.例文帳に追加

アライメントマーク形成領域Ａ１にトレンチ溝２１からなるアライメントパターンを形成し、該アライメントパターンを覆う態様で透光性の膜材３ａを成膜する。 - 特許庁

To provide a coordinate-measuring method capable of measuring the coordinates of alignment marks, even when the accuracy of the coordinate measurement of the alignment mark is low in rough alignment.例文帳に追加

ラフアライメントにおけるアライメントマークの座標測定の精度が低い場合であっても、アライメントマークの座標を測定できる座標の測定方法を提供する。 - 特許庁

In an alignment process of the mask 4 with respect to the substrate 3, each part (an alignment mark 4M) of the mask is aligned to a plurality of alignment positions (alignment marks 3M) on the substrate 3.例文帳に追加

基板３に対するマスク４のアライメント工程では、基板３の上に複数設けられたアライメント位置（アライメントマーク３Ｍ）にマスク４の各部（アライメントマーク４Ｍ）を位置合わせする。 - 特許庁

The plurality of the alignment marks perform a role of the alignment mark as an first aligning function with the contour, and perform a function of the alignment mark as a second aligning function with the structure in the contour.例文帳に追加

複合位置合わせマークは、輪郭により第１の位置合わせ機能に対し位置合わせマークの役割を果たし、輪郭内の構造により第２の位置合わせ機能に対し位置合わせマークの機能を果たす。 - 特許庁

To provide a lighting system and method for alignment in which an image of an alignment mark can be easily recognized by irradiating the alignment mark with optimal color tone and quantity of light at all the time.例文帳に追加

アライメントマークを常に最適な色調および光量で照射して、アライメントマークの画像を認識しやすくすることが可能な、アライメント用照明装置およびアライメント用照明方法を提供する。 - 特許庁

The pre-alignment mark AM1 is detected by ultraviolet rays having a wavelength of 248 nm which is emitted from a pre-alignment sensor PA, while the fine alignment mark AM2 is detected by a space image sensor on a wafer stage.例文帳に追加

プリアライメントマークＡＭ１は、プリアライメントセンサＰＡから発せられる、波長が２４８ｎｍの紫外線で検出され、ファインアライメントマークＡＭ２は、ウェハステージ上の空間像センサで検出される。 - 特許庁

The optical system receives the radiation beam, produces an alignment beam, directs the alignment beam to a mark located on an object, receives alignment radiation back from the mark, and transmits the received radiation.例文帳に追加

光学システムは、放射ビームを受光し、アライメントビームを生成し、アライメントビームをオブジェクト上に位置するマークに誘導し、そのマークから戻るアライメント放射を受光し、受光した放射を伝送する。 - 特許庁

A sufficient contrast is secured between the alignment mark 1 and its surrounding environment, so that inspection and measurement facilities easily recognize the alignment mark 1 as a unique mark and then an error in alignment mark recognition is prevented to accurately align the wafer.例文帳に追加

アライメントマーク１とその周囲環境との間において十分なコントラストを確保できるため、検査・測定設備がアライメントマーク１をユニークマークとして容易に認識することができるので、アライメントマーク認識不良を防止してウェハのアライメントを正確に実施することができる。 - 特許庁

The alignment mark has a first mark that can be utilized in global alignment measurement regarding a scribe line direction, and a second mark that can be utilized in prealignment measurement regarding the direction that orthogonally crosses the scribe line direction.例文帳に追加

アライメントマークは、スクライブライン方向に関してグローバルアライメント計測に利用可能な第１マークと、スクライブライン方向に直交する方向に関してプリアライメント計測に利用可能な第２マークを有する。 - 特許庁

To provide alignment equipment capable of detecting a position with high accuracy with respect to any kind of an alignment mark.例文帳に追加

どのような種類のアライメントマークに対しても高精度な位置検出が可能なアライメント装置を提供することである。 - 特許庁

To enhance throughput by preventing incorrect mark recognition by pattern search in wafer alignment, thereby sustaining alignment precision.例文帳に追加

ウェハの位置合せにおいて、パターンサーチによるマークの誤認識を防止し、位置合せの精度を保持してスループットを向上する。 - 特許庁

To realize a high-accurate alignment in high contrast even when an alignment mark that is low in a level difference is used in a CMP process.例文帳に追加

ＣＭＰプロセス等における段差の低いアライメントマークに対しても高いコントラストで高精度なアライメントを達成する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor substrate that does not have a pattern prepared solely for alignment, and uses a high-precision alignment mark.例文帳に追加

アライメント専用のパターンを設けることなく、かつ高精度なアライメントマークを用いた薄膜トランジスタ基板を提供する。 - 特許庁

When the first alignment mark 33a is aligned to a standard, an alignment position is corrected by the misalignment amount Δx.例文帳に追加

第１アライメントマーク３３ａを基準に位置合わせを行なう際に、ずれ量Δｘだけアライメント位置を補正する。 - 特許庁

To improve accuracy in detecting an alignment mark that is formed at a substrate side, when performing alignment in the case of exposure.例文帳に追加

露光時の位置合わせを行うに当たり、基板側に形成した位置合わせ用マークの検出精度を向上させる。 - 特許庁

Then, light exposure alignment to the GaN-based epitaxial layer is carried out referring to the second alignment mark 120.例文帳に追加

続いて、第２のアライメントマーク１２０を参照しながら、ＧａＮ系エピタキシャル層に対する露光の位置合わせを行う。 - 特許庁

To detect two alignment marks on a work even though the work has large positional variation of the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの位置のばらつきが大きいワークであっても、ワーク上の２個所のアライメントマークを検出できるようにすること。 - 特許庁

(c) On the basis of this alignment information, laser beam irradiation is performed at the incident position corresponding to the detected alignment mark.例文帳に追加

（ｃ）この位置合わせ情報に基づき、検出されたアライメントマークに対応する被入射位置にレーザ入射を行う。 - 特許庁

To provide a cylindrical microlens array having an alignment mark which is usable for alignment in a two-dimensional direction.例文帳に追加

２次元方向の位置合わせに使用することが可能な位置合わせ用マークを持ったシリンドリカルマイクロレンズアレイを提供する。 - 特許庁

At this time, the substrate 2 has an alignment mark 7 at a prescribed position with respect to the organic EL element 6, and the sealing member 30 has the sealing substrate 32 and the adhesive layer 31 where an alignment mark 31A is formed at the position corresponding to the alignment mark 7.例文帳に追加

この際基板２は、有機ＥＬ素子６との位置関係が規定位置にアライメントマーク７を有し、封止部材３０は、封止基板３２と、アライメントマーク７と対応する位置にアライメントマーク３１Ａが形成された接着層３１とを有する。 - 特許庁

An optical semiconductor device which has an active area and a self-aligned first alignment mark is mounted by aligning the first and the second alignment mark on the mounting board which is provided with an optical fiber mounting groove and a self-aligned second alignment mark.例文帳に追加

活性領域とセルフアラインされた第１アライメントマークを有する半導体光素子を、光ファイバ取り付け溝とセルフアラインされた第２アライメントマークを有する実装基板上に、第１アライメントマークと第２アライメントマークとを位置合わせして実装する。 - 特許庁

The elevated region 416 of the hard mask is formed in a corresponding location to the trench 406 of the lower layer alignment mark 401, and this elevated region 416 becomes a new alignment mark where the horizontal position of the lower layer alignment mark 401 is stored.例文帳に追加

ハードマスクの上昇領域４１６は下層のアライメントマーク４０１のトレンチ４０６に対応する位置に形成されており、この上昇領域４１６は下層のアライメントマーク４０１の水平位置が保存された新たなアライメントマークとなる。 - 特許庁

The flat region has, when the alignment mark recognition device recognizes the alignment mark, a width not less than the width required by the alignment mark recognition device for recognition except the width where the edge part formed on both the sides of the flat region is recognized as the dark part.例文帳に追加

平坦領域は、アライメントマーク認識装置がアライメントマークを認識するとき、平坦領域の両側に形成されるエッジ部が暗く認識される幅を除きアライメントマーク認識装置が認識するために必要とする幅以上の幅を有する。 - 特許庁

In order to carry out transfer by using the donor element 20, the position alignment with the element formation base plate is carried out and transferred, by using one alignment mark out of the plurality of alignment marks M1 to M3; afterwards, the transfer is carried out, by carrying out position alignment using another alignment mark to another element formation base plate.例文帳に追加

このドナー要素２０を用いて転写を行うには、複数のアライメントマークＭ１〜Ｍ３のうち一つを用いて素子作成用基板との位置合わせを行って転写した後、別の素子作成用基板に対して別のアライメントマークを用いた位置合わせを行って転写を行う。 - 特許庁

To precisely detect the position of a mark even if asymmetry is generated in the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークに非対称性が発生した場合においても、そのマークの位置を高精度に検出することを目的とする。 - 特許庁

While the alignment mark 10 is superposed upon the reference mark 20 and parallel light rays are projected from the upper surface of the mark 10, the light quantity at the position corresponding to each pattern is detected on the lower surface of the reference mark 20.例文帳に追加

両マーク１０，２０を重ね合わせ、アライメントマーク１０の上面から平行光を照射し、基準マーク２０の下面で各パターンに対応する位置での光量を検出する。 - 特許庁

To detect the contour of an alignment mark on a target in a rapid and accurate manner.例文帳に追加

対象物上のアライメントマークの輪郭を迅速かつ高精度に検出する。 - 特許庁

To provide a mark and a method for alignment for pattern exposure and an aligner where the alignment accuracy is enhanced at low cost, without deterioration in the space efficiency in mark placement.例文帳に追加

マーク配置スペース効率劣化なく、安価に位置合わせ精度を向上させるパターン露光用位置合わせマーク及び位置合わせ方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, PROCESS FOR FABRICATING THE SAME AND METHOD FOR FORMING ALIGNMENT MARK例文帳に追加

半導体装置の製造方法及び合わせマークの形成方法、半導体装置 - 特許庁

The first alignment mark section 18 crosses the plurality of convex portions 2 and extends linearly.例文帳に追加

第１アライメントマーク部１８は、複数の凸部２と交差して線状に延びている。 - 特許庁

An alignment mark driving motor 23 moves a light guide 22a, so that the light incidence part of alignment mark can change into an infrared ray LED 22c from a visible light LED 22b.例文帳に追加

アライメント指標駆動モータ２３によりライトガイド２２ａを移動し、アライメント指標の入射部が可視ＬＥＤ２２ｂから赤外ＬＥＤ２２ｃになるように移動させる。 - 特許庁

To reduce a relative position shift between an alignment mark formed on a substrate and a pedestal.例文帳に追加

基板に形成されるアライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減する。 - 特許庁

ALIGNMENT MARK, RETICLE FOR CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING METHOD例文帳に追加

アライメントマーク、荷電粒子線露光装置用レチクル及び荷電粒子線露光方法 - 特許庁