「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The blank regions 6 comprise at least one alignment region 10 and the alignment mark is constituted of a metal film pattern on the uppermost layer surface of the alignment region 10.例文帳に追加

ブランク領域６はアライメント領域１０を少なくとも１つ含み、アライメント領域１０の最上層表面の金属膜パターンによってアライメントマークを構成している。 - 特許庁

To provide a display method for an alignment mark image and an alignment device by which an alignment between objects is facilitated highly precisely.例文帳に追加

対象物同士の位置合わせを高精度かつ容易に行うことができるアライメントマーク画像の表示方法およびアライメント装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

When a blue filter 27 will be formed, exposure alignment with red alignment light 28 using the red alignment mark 25 is performed to form a filter pattern in a blue resist 26.例文帳に追加

青色フィルタ２７形成時には、赤色アライメントマーク２５を用いた赤色アライメント光２８による露光アライメントを行って青色レジスト２６にフィルタパターンを形成する。 - 特許庁

The detector receives the alignment radiation, detects an image of the alignment mark and outputs a plurality of alignment signals (r) each associated with one of the wavelength ranges.例文帳に追加

検出器は、アライメント放射を受光し、アライメントマークの画像を検出し、各々が波長範囲の１つに関連付けられた複数のアライメント信号ｒを出力する。 - 特許庁

To provide a mask pattern imaging apparatus capable of continuously carrying out alignment between a substrate and a mask on a substrate plane and alignment of a mask mark and an image plane position on the basis of light diffraction by an alignment mark provided on the substrate and an alignment mark provided on the mask arranged to be separated from the substrate.例文帳に追加

基板上に設けたアライメントマークと上記基板から離間して配置したマスク上に設けたアライメントマークによる光回折に基き、基板平面における基板とマスク間の位置合わせと、上記マスクマークの像面位置合わせとを連続的に履行可能とする、マスクパターン画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

An alignment mark and a superposition inspection mark each include a main body mark part 5, and first and second auxiliary pattern parts 6 formed along two opposite side ends of the main body mark part 5.例文帳に追加

アライメントマーク及び重ね合わせ検査マークは各々、本体マーク部５と、この本体マーク部５の相対する２つの側端部それぞれに沿って形成された第１、第２の補助パターン部６とを含む。 - 特許庁

The printing system includes a means for counting a detection time of the mark, and a means for inhibiting the mark from being taken in as an alignment mark if the detection time of the mark is shorter or longer than a predetermined time.例文帳に追加

マークの検出時間を計測する手段と、マークの検出時間が所定の時間より短い場合又は長い場合に、位置合わせマークとして取り込まない手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a mark arrangement inspection method capable of reducing errors in arranging marks to be arranged on scribe lines such as an alignment mark and a measurement mark in designing scribe line data.例文帳に追加

スクライブラインデータの設計時に、アライメントマークや計測マークなどのスクライブライン上に配置されるマークの配置ミスを低減することができるマーク配置検査方法を提供する。 - 特許庁

A wiring layer 107 is formed on the inter-layer insulating film 104 so that a groove as a mark can be formed on the surface of the wiring film 107 in the section of the mark 105 of the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの溝１０５の部分で、その表面にマークである溝ができるように、層間絶縁膜１０４の上に配線膜１０７を形成する。 - 特許庁

A control part 50 operates the position of a alignment mark of the wafer W mounted on the rotary stage 6 from position information of the alignment mark formed on the wafer W, the singular point and the edge position.例文帳に追加

制御部５０は、ウエハＷに形成されたアライメントマークの位置情報と、特異点及びエッジ位置より、回転ステージ６上に載置されたウエハＷのアライメントマークの位置を演算する。 - 特許庁

The alignment mark structure has a scribe line of wafer or an alignment mark 102 formed in the region of a nonconstitutional part, and a protective dummy pattern 114 for protecting it against CMP.例文帳に追加

アライメントマーク構造は、ウェハのスクライブ線又は非構成部品領域に形成されるアライメントマークと、このアライメントマークの周辺に位置し、これをＣＭＰから保護する保護ダミーパターンとを有する。 - 特許庁

A alignment mark 2 provided on the screen plate 1 is displayed with an organic material photosensitive emulsion so as to be irradiated with exciting light such as ultraviolet light or X rays at the photographing of the alignment mark 2.例文帳に追加

スクリーン版１に設ける位置合せマーク２を有機材料の感光乳剤により表示し、位置合せマーク２の撮影時に紫外線またはＸ線による励起光を照射する。 - 特許庁

The aggregated light is reflected at the alignment mark of the mask 2 and the alignment mark of the substrate 1, and returns along the same optical path as the incident optical path, and enters a camera 20 through a filter 21.例文帳に追加

そして、この集合光は、マスク２のアライメントマーク及び基板１のアライメントマークで反射して、入射光路と同一の光路を戻り、フィルタ２１を経て、カメラ２０に入射する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which is capable of preventing abnormal oxidation even when an alignment mark is large-sized, and to provide an alignment mark forming method and a semiconductor device.例文帳に追加

合わせマークのサイズが大きい場合でもその異常酸化を防止できるようにした半導体装置の製造方法及び合わせマークの形成方法、半導体装置を提供する。 - 特許庁

To solve the following problem: when an alignment mark is formed straddling a plurality of shots, manual work by a user himself or herself is required in order to create an alignment mark being a perfect form from CAD data.例文帳に追加

アライメントマークが複数のショットに跨って形成されている場合、完成形であるアライメントマークをＣＡＤデータから作成するためにはユーザ自身の手作業が求められる。 - 特許庁

Also an L shaped bank pattern 32 of which the height is higher than that of the alignment mark 31 is arranged on a position separated toward the upstream side of a rubbing direction 100 when seen from the alignment mark 31.例文帳に追加

また、アライメントマーク３１から見てラビング方向１００の上流側に離隔した位置に、Ｌ字形状でありその高さがアライメントマーク３１よりも高い土手パターン３２を設ける。 - 特許庁

A first stage holds a first member having a first alignment mark put on the first surface, and a second stage holds a second member having a second alignment mark put on the second surface.例文帳に追加

第１のステージが、第１の面に第１のアライメントマークが形成された第１の部材を保持し、第２のステージが、第２の面に第２のアライメントマークが形成された第２の部材保持する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method which removes an effect to an alignment mark of CMP of an interlayer dielectric film surface, and can accurately and securely carry out the detection of alignment mark.例文帳に追加

層間絶縁膜表面のＣＭＰのアライメントマークへの影響を排除し、アライメントマークの検出を精度良く確実に行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same, which can loosen the arrangement restriction of an alignment mark, easily arrange the alignment mark and control the reduction of the yield of product chips.例文帳に追加

アライメントマークの配置制約を緩和し、アライメントマークを容易に配置しうるとともに、製品チップの収率低下を抑制しうる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The printing pattern 20 and the alignment mark 22 are formed by that the emulsion layer 16 for a printing pattern and the emulsion layer 14 for an alignment mark are batch-exposed through a photomask F, and developed.例文帳に追加

印刷パターン２０およびアライメントマーク２２は、印刷パターン用乳剤層１６およびアライメントマーク用乳剤層１４を、フォトマスクＦを介して一括露光、現像して形成されている。 - 特許庁

In forming the alignment mark, laser light is irradiated on a metal film formed on a silicon substrate to form a metal silicide, which is to be used as the alignment mark.例文帳に追加

本発明の位置合わせマークの形成方法によれば、シリコン基板上に成膜された金属膜にレーザ光を照射して金属シリサイドを形成し、これを位置合わせマークとする。 - 特許庁

An external connecting pad electrode 31, an alignment mark 32 for inspection and processing, and an alignment mark 33 for the stepper, which are all made of aluminum, are formed on the insulation film 13.例文帳に追加

絶縁膜１３の上には、外部接続パッド電極３１と、検査・加工用アライメントマーク３２と、ステッパ用アライメントマーク３３とが同じアルミニウム合金膜から形成されている。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel that prevents dust from sticking on an alignment mark during rubbing processing and has high recognition capability of recognizing the alignment mark by an image processor.例文帳に追加

ラビング処理によるアライメントマークへの塵の付着を防止すると共に画像処理装置でアライメントマークを認識する際の認識能力が高い液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for parts with a microlens array provided with an alignment mark precisely while shaping it with a simple method, and parts with a microlens array provided with an alignment mark.例文帳に追加

簡便な方法により成形中に精度良くアライメントマークを付したマイクロレンズアレイ付き部品の製造方法と、アライメントマークを付したマイクロレンズアレイ付き部品を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which abnormal oxidation can be prevented even in case of a large size alignment mark, and to provide a method for forming an alignment mark and a semiconductor device.例文帳に追加

合わせマークのサイズが大きい場合でもその異常酸化を防止できるようにした半導体装置の製造方法及び合わせマークの形成方法、半導体装置を提供する。 - 特許庁

To make it possible to enhance alignment precision by highly precisely detecting the boundary of an alignment mark and a standard mark.例文帳に追加

アライメントマーク及び基準マークの境界を高精度に検出して、アライメント精度を向上することができるアライメント方法及び液体噴射ヘッドユニットのアライメント方法並びにアライメントマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device and a forming method of an alignment mark such that even when the size of the alignment mark is large, its abnormal oxidation can be prevented, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

合わせマークのサイズが大きい場合でもその異常酸化を防止できるようにした半導体装置の製造方法及び合わせマークの形成方法、半導体装置を提供する。 - 特許庁

A dishing prevention film 103 for preventing the dishing of a region where an alignment mark is formed is formed so that a region as a groove 105 of the alignment mark can be surrounded on a substrate 101.例文帳に追加

基板１０１の上に、アライメントマークの溝１０５となる領域を囲むように、該アライメントマークを形成する領域のディッシングを防止するためのディッシング防止膜１０３を形成する。 - 特許庁

To provide an alignment mark which can be detected in a relatively short time even under such a situation as the alignment mark is deviated from a recognition region, and to provide its detection method.例文帳に追加

アライメントマークが認識領域から外れた状況下でも、比較的短時間でアライメントマークを検出することを可能とするアライメントマーク、及びアライメントマークの検出方法を提供する。 - 特許庁

A pattern of an alignment mark 16 at a substrate side is photographed at timing wherein the slant lighting is turned off, and a pattern of an alignment mark 17 at a mask side is photographed at timing wherein the slant lighting is turned on.例文帳に追加

斜照明が消灯するタイミングで、基板側アライメントマーク１６のパターンを撮像し、斜照明が点灯するタイミングで、マスク側アライメントマーク１７のパターンを撮像する。 - 特許庁

A shift mechanism 38 moves, based on the photographed image, a holding frame 37 so that an alignment mark applied to the film 15a matches with the position of the alignment mark applied to the glass substrate 21.例文帳に追加

シフト機構３８は、撮影画像に基づいて、ガラス基板２１に施されたアライメントマークと、フイルム１５ａに施されたアライメントマークとの位置が一致するように、保持枠３７を移動させる。 - 特許庁

To provide a method for inputting an alignment mark and an aligner by which a quantity of noises superposed on the waveform of a mark can be reduced by a means other than electrical means and the alignment accuracy by improved.例文帳に追加

電気的な手段以外でマーク波形に重畳するノイズの量を削減し、位置合わせ精度を向上させる位置合わせ用マーク入力方法および露光装置を提供する。 - 特許庁

When the common mark is photographed with the optical system for search of wafer alignment sensor in search measurement, the common mark is photographed at the same time also in the optical system for fine of wafer alignment sensor.例文帳に追加

サーチ計測の際に、ウエハ・アライメントセンサーのサーチ用光学系で共用マークを撮像する時に、同時に、ウエハ・アライメントセンサーのファイン用光学系でも共用マークを撮像しておく。 - 特許庁

The second resist layer is suitably baked to form a symmetrical alignment mark in the second resist layer without or substantially without an offset error from the alignment mark in the first resist layer.例文帳に追加

第２のレジスト層を適切にベークすることによって、対称アライメントマークを第２のレジスト層内に、第１のレジスト層内のアライメントマークからのオフセットエラーなく、またはほとんどなく形成する。 - 特許庁

To provide a method of forming an alignment mark, by which the precision of positioning of a glass plate to another glass plate is improved, and to provide the alignment mark formed by the method.例文帳に追加

ガラス板に対する他のガラス板の位置合わせ精度を向上させることができるアライメントマークの形成法、及び該形成法により形成されたアライメントマークを提供することにある。 - 特許庁

On the basis of the calculation results, an irradiation area of exposure light is matched with the position of the alignment mark on the wafer W, and the photoresist applied on the alignment mark is exposed.例文帳に追加

そして、上記演算結果に基づき、露光光の照射領域とウエハＷ上のアライメントマークの位置とを一致させ、アライメントマーク上に塗布されているフォトレジストの露光を行う。 - 特許庁

After that, an alignment mark is read as the glass substrates 1, 2 are floated in the air and break edges 21, 22 are aligned on the cutting grooves 6, 7 based on the alignment mark.例文帳に追加

その後、ガラス基板１、２を空中に浮かせた状態のまま、アライメントマークを読み込み、そのアライメントマークに基づいて、ブレイク刃２１、２２を切断溝６、７に対してアライメントする。 - 特許庁

The exposure device 10 comprises: an alignment illumination unit 30 which can irradiate alignment light using exposure light on a mask-side alignment mark 51 on the mask 18a; and an alignment camera unit 40 on which the alignment light emitted from the alignment illumination unit 30 and passing through the mask 18a and a projection lens 20 is incident.例文帳に追加

露光光を用いたアライメント光をマスク１８ａのマスク側アライメントマーク５１に照射可能なアライメント照明ユニット３０と、アライメント照明ユニット３０から出射されマスク１８ａおよび投影レンズ２０を経たアライメント光を入射させるアライメントカメラユニット４０と、を備える。 - 特許庁

To provide a substrate for a liquid crystal display wherein adhesion of dregs of an alignment layer onto an alignment mark can be reduced.例文帳に追加

位置合せ用マーク上の配向膜の糟の付着を低減させることができる液晶表示装置用基板を提供すること。 - 特許庁

A certain lithographic apparatus includes at least one image alignment sensor for receiving radiation projected from an alignment mark on a reticle.例文帳に追加

あるリソグラフィ装置が、レチクル上のアライメントマークから投影された放射を受け取るための、少なくとも１つのイメージアライメントセンサを含む。 - 特許庁

Exposure is next performed exclusively on the alignment-mark forming regions 22 using second exposure masks for forming the post electrodes for alignment.例文帳に追加

次に、アライメント用ポスト電極形成用の第２の露光マスクを用いて、アライメントマーク形成領域２２のみに対して露光を行なう。 - 特許庁

To prevent an alignment mark formed on a substrate from being deformed without reducing alignment accuracy and preparing additional processes.例文帳に追加

アライメント精度の低下を招くことなく、また余分な工程を設けることなく、基板上に形成されたアライメントマークの変形を防ぐ。 - 特許庁

To provide a wafer alignment mark for image-processing alignment that improves deterioration in alignment accuracy caused by processes without increasing the occupation area of the alignment mark, can greatly improve overlapping accuracy, and further can increase throughput, and to provide an image-processing alignment method and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

アライメントマークの占有面積を増加させることなく、プロセス起因のアライメント精度劣化を改善し、重ね合せ精度を格段に向上でき、さらにスループットを向上させることのできる画像処理アライメント用ウェハアライメントマーク及び画像処理アライメント方法並びに半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To enable the alignment between a mask and a panel possible even when an alignment mark of the mask and an alignment mark of the panel have the same shape in the lamination of a liquid crystal panel of laminating two substrates by irradiating the panel with light via the mask.例文帳に追加

マスクを介してパネルに光を照射して２枚の基板を貼り合せる液晶パネルの貼り合せにおいて、マスクのアライメントマークと、パネルのアライメントマークが同一形状であっても、マスクとパネルの位置合せを可能とすること。 - 特許庁

The central position of the via alignment mark can be highly accurately detected by an optical method, and when etching the hole for alignment opened by the via alignment mark M1, the base insulating film is not over etched.例文帳に追加

光学的手法によってビア位置合わせマークの中心位置を高精度に検出することができ、また、ビア位置合わせマークＭ１により開口される位置合わせ用のホールのエッチング時に下地絶縁膜がオーバエッチングされることがない。 - 特許庁