「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

When an alignment mark for positioning is marked on a glass substrate 2 before a step of forming a pattern on the glass substrate 2, an alignment mark is marked on the glass substrate 2 by use of a thermal printer 9.例文帳に追加

ガラス基板２上にパターンを形成する工程を実行する前に、ガラス基板２上に位置決め用のアライメントマークを刻印するに際して、サーマルプリンタ９を用いてアライメントマークをガラス基板２上に刻印する。 - 特許庁

Prior to formation of the pattern 80, the method includes a step to form the marking partition walls B1 corresponding to the alignment mark AM and a step to place the liquid material containing the alignment mark forming material between the marking partition walls B1.例文帳に追加

パターン８０の形成前に、アライメントマークＡＭに対応したマーク用隔壁Ｂ１を形成する工程と、マーク用隔壁Ｂ１の間にアライメントマーク形成材料を含む液体材料を配置する工程とを有する。 - 特許庁

A substrate 19 is prepared, trenches 14, 16 in which the trench width of an alignment mark region 15 is wider than that of a PN column region 13, are simultaneously formed on the alignment mark region 15 and the PN column region 13.例文帳に追加

基板１９を用意し、アライメントマーク領域１５とＰＮコラム領域１３とにアライメントマーク領域１５のトレンチ幅がＰＮコラム領域１３のトレンチ幅よりも広いトレンチ１４、１６を同時に形成する。 - 特許庁

When mounting the second substrate having the second wiring layer on the first substrate having the first wiring layer, they are aligned by utilizing the first alignment mark exhibiting transparency and the second alignment mark.例文帳に追加

第２の配線層を有する第２の基板を、第１の配線層を有する第１の基板へ実装する際、透明性を有する第１のアライメントマークと、第２のアライメントマークとを利用して位置合わせがなされる。 - 特許庁

By a half mirror 415, an alignment mark is imaged simultaneously by the low- and high- magnification imaging systems, and the position of the alignment mark is calculated based on each of obtained low- and high-magnification images.例文帳に追加

ハーフミラー４１５により、低倍率撮像系及び高倍率撮像系により同時にアライメントマークが撮像され、得られた低倍率画像と高倍率画像のそれぞれに基づいてアライメントマークの位置が算出される。 - 特許庁

An alignment mark 7 of printed board is photographed by a CCD camera 2 while irradiating with X-ray from an X-ray generator 1 in a state where a photo mask 4 is withdrawn and the position of the alignment mark 7 of printed substrate is stored.例文帳に追加

フォトマスク４を退避させた状態でＸ線発生器１からＸ線を照射してプリント基板アライメントマーク７をＣＣＤカメラ２により撮像し、プリント基板アライメントマーク７の位置を記憶する。 - 特許庁

The substrate 5 is carried in an exposure apparatus, the position of the alignment mark 6 is detected by an alignment scope 24 to position the substrate 5 at a position where a pattern 8 with a second inspection mark 9 on a mask 1 aligns with the first inspection mark 7 on the substrate 5, and the pattern 8 with the second inspection mark 9 is exposed and transferred onto the substrate 5.例文帳に追加

続いて、露光装置に基板５を搬入して、アライメントスコープ２４でアライメントマーク６の位置を検出して、マスク１上の第２の検査マーク９のパターン８が基板５上の第１の検査マーク７と一致する位置に基板５を位置決めした後、第２の検査マーク９のパターン８を基板５上に露光転写する。 - 特許庁

Before fine alignment, pre-alignment is carried out using the light having a wavelength different from that of exposure light to position the reticle stage with respect to three degree of freedom (XYθ), so that the fine alignment mark AM2 may be so positioned as to be easily detected at the time of fine alignment.例文帳に追加

ファインアライメントの前に露光光の波長と異なる波長の光を用いてプリアライメントを行って、ファインアライメントマークＡＭ２がファインアライメント時に検出しやすい位置となるように、レチクルステージをＸＹθの３自由度に対して位置決めする。 - 特許庁

An image recovery is performed at an image recovery portion 321 of an operation part 32, by using the mark image intensity distribution 311 and the point image intensity distribution 313, and a mark intensity distribution 312 showing the alignment mark is acquired.例文帳に追加

マーク像強度分布３１１および点像強度分布３１３を用いて演算部３２の像回復部３２１にて像回復が行われ、アライメントマークを示すマーク強度分布３１２が取得される。 - 特許庁

To provide the high-speed equipment technology of a semiconductor device capable of surely detecting an alignment mark in a short time.例文帳に追加

短時間・確実に位置決め用マークを検出できる半導体デバイスの高速位置決め技術の提供。 - 特許庁

The outside diameter r1 of the transparent film 112 is made to be twice as large as the outside diameter r2 of the alignment mark 112 or larger.例文帳に追加

また、透明膜１１２の外径ｒ１を、位置合せ用マーク１１２の外径ｒ２の２倍以上とした。 - 特許庁

In accordance with the focus height, the height of an alignment mark 10 for calibration is adjusted by a Z3-axis stage 11.例文帳に追加

このフォーカス高さに合わせて校正用アライメントマーク１０の高さをＺ３軸ステージ１１により調整する。 - 特許庁

The substrate is aligned so that the alignment marks match the reference image or the new mark image by the comparison results.例文帳に追加

比較結果によって、整列マークが基準イメージ又は新しいマークイメージに相応するように基板を整列する。 - 特許庁

To remove a coating film on an alignment mark of a wafer by using a laser beam without contaminating the wafer.例文帳に追加

ウェハのアライメントマーク上に形成された塗布膜を，レーザ光を用いてウェハが汚染されないように除去する。 - 特許庁

The position of a grain filter 26 serving as the starting point of crystal growth is determined based on the reference of the first alignment mark 21.例文帳に追加

結晶成長の起点となるグレイン・フィルタ２６の位置は、第一アライメント・マーク２１を基準に決定する。 - 特許庁

To prevent the erroneous detection of an alignment mark, even when disturbance, such as paper flapping or the like, occurs during the conveyance of a web.例文帳に追加

ウェブ搬送中に用紙バタツキ等の外乱が発生しても位置合せマークの誤検出を防止する - 特許庁

In a coating step 20, a photosensitive resist is applied on the surface of the glass substrate where the alignment mark is formed.例文帳に追加

塗布工程２０はアライメントマークが形成されたガラス基板の表面に感光性を有するレジストを塗布する。 - 特許庁

In step S_3, the mark information of the target layer X_n and that of the alignment layer Y_n are imparted to the measured data A_n as layer data.例文帳に追加

Ｓ_3 でターゲット層Ｘ_n 及びアライメント層Ｙ_n のマーク情報を層データとして測定データＡ_n に付与する。 - 特許庁

To suppress a measurement error of a position of an alignment mark provided on a work piece mounted on a stage to be conveyed.例文帳に追加

搬送されるステージ上に載置されたワークに設けられたアライメントマークの位置の測定誤差を抑制する。 - 特許庁

The alignment microscope is set to the magnification ratio of three first, and the search mark formed on the work is detected.例文帳に追加

まず、アライメント顕微鏡を３倍の倍率にして、ワーク上に形成された上記探索マークを検出する。 - 特許庁

To provide a method for forming an alignment mark for highly precisely performing the photolithography of a wiring film.例文帳に追加

配線膜のフォトリソグラフィを高精度に行うためのアライメントマークの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

As there is no cutting of alignment mark by a metal film, the dicing process can be performed in an efficient manner.例文帳に追加

金属膜によるアライメントマークを切断することはないので、ダイシング工程も効率よく行うことができる。 - 特許庁

A registration mark of the optical address medium enables an alignment of the picture projected to the optical address medium.例文帳に追加

光アドレス媒体のレジストレーションマークは、光アドレス媒体に対する投射された画像の位置合わせを可能にする。 - 特許庁

A position sensor related to each alignment mark detector decides a relative position of the detector against the frame.例文帳に追加

各位置合わせマーク検出器に関連する位置センサは、フレームに対する相対的な検出器の位置を求める。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor optical element which can prevent burying or damaging of an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの埋没又は損傷を抑制することができる半導体光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MICROLENS, METHOD FOR OPTIMIZING ALIGNMENT MARK, METHOD FOR MANUFACTURING SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND ELECTRONIC INFORMATION DEVICE例文帳に追加

マイクロレンズの形成方法、アライメントマーク最適化方法、固体撮像装置の製造方法、および電子情報機器 - 特許庁

To provide a semiconductor device which stably recognizes a mark for alignment regardless of the structure of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の構造に依らず、安定して位置合せ用マークが認識できる半導体装置を提供する。 - 特許庁

A first Au layer 51 and a second Au layer are formed on the surfaces of the pads 11 and 12 and the alignment mark.例文帳に追加

パッド１１，１２及びアライメントマークの表面に、直接第一Ａｕ層５１及び第二Ａｕ層を形成する。 - 特許庁

A metal film 15 is deposited onto the surface of the insulating film 12 including the hole 13 and alignment mark 14.例文帳に追加

これらホール１３およびアライメントマーク１４を含む絶縁膜１２の表面に金属膜１５を堆積させる。 - 特許庁

To form a thin-film multi-layered substrate which can be made high in accuracy and reliability by preventing erroneous positional recognition of an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの位置誤認を防止して、高精度で信頼性の高い薄膜多層基板を形成する。 - 特許庁

The distal end side of the conductive pattern 2 is turned to a terminal part 5, and an alignment mark 8 is provided around the terminal part 5.例文帳に追加

導電パターン２の先端側は端子部５となり、この端子部５の周囲にアライメント用マーク８を備える。 - 特許庁

The alignment mark MK is deployed in the region other than actual element, for example, in a scribe region between chips.例文帳に追加

この位置合わせ用のマークＭＫは、例えば実素子領域外、例えばチップ間のスクライブ領域に配される。 - 特許庁

DETECTION METHOD OF ALIGNMENT MARK BY INTERFERENCE PATTERN USING INTERFERENCE OPTICAL SYSTEM TAKEN IMAGE, AND DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

干渉光学系撮像画像を用いた干渉縞によるアライメントマーク検出方法およびそれを用いた装置 - 特許庁

At the same time, the position of the center of a reference mark FM1 from the detection center of an alignment system ALG is measured.例文帳に追加

同時に、アライメント系ＡＬＧの検出中心からの基準マークＦＭ１の中心の位置を計測する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can suppress reduction of a detection accuracy of light reflected from an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークからの反射光の検出精度が低下することを抑制できる半導体装置を提供する。 - 特許庁

Even if the space between the image display areas 7 of the array substrate 2 of a mother substrate 77 is narrow, the alignment mark 17 can be provided.例文帳に追加

マザー基板77のアレイ基板２の画像表示エリア７間が狭くてもアライメントマーク17を設けることができる。 - 特許庁

At this time, the alignment mark is formed to have, for example, a cruciform planar shape fringed with the second trench 2.例文帳に追加

このとき、アライメントマークは、例えば、平面形状が第２のトレンチ２により縁取られた十字形状とする。 - 特許庁

While the panel 1 is sucked under a vacuum, an alignment mark is measured by a camera 10 and the panel 1 is moved.例文帳に追加

次に、該パネル１をバキューム吸着しつつアライントメントマークをカメラ１０で測定し、パネル１を移動させる。 - 特許庁

Meanwhile, the silicon chip 3 has an alignment mark 16, formed at a part facing the through groove 14 of the sensor chip 2.例文帳に追加

一方、シリコンチップ３には、センサチップ２の貫通溝１４に対向する部分に、アライメントマーク１６を形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which has a mark for alignment and in which array wiring is hard to cause electrostatic destruction.例文帳に追加

アライメント用マークを有し、アレイ配線が静電気破壊を起こしにくい、液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The slanted part 6 functions as an alignment mark for recognizing the position of the semiconductor chip 1 upon positioning.例文帳に追加

傾斜部６は、位置合わせの際に半導体チップ１の位置を認識するためのアライメントマークとして機能する。 - 特許庁

The alignment mark regions AM are disposed at opposite sides of the pixel region P and along the pixel region P.例文帳に追加

アラインマーク領域ＡＭは，画素領域Ｐの相互に対応する両側部に画素領域Ｐに沿って位置する。 - 特許庁

To provide an alignment mark having a high recognizability in the production of a multilayer wiring board for mounting a semiconductor chip.例文帳に追加

半導体チップを搭載する多層配線板の製造における、認識性の高いアライメントマークを提供する。 - 特許庁

An alignment mark on a substrate includes a periodic arrangement of a plurality of first elements and a plurality of second elements.例文帳に追加

基板上のアライメントマークが、複数の第１のエレメントと複数の第２のエレメントとの周期構造を含む。 - 特許庁

Even after the process of flattening the surface of the first nitride gallium layer 6, the alignment mark can be recognized.例文帳に追加

第１の窒化ガリウム層６の表面を平坦化した後の工程でも、アライメントマークを認識することができる。 - 特許庁