「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

An alignment mark 86 in a mask to be photographed by an alignment camera 36 is disposed outside an effective exposure area of the mask, while an alignment mark in a substrate includes a pixel Pw of a black matrix BM disposed outside an area, where a pattern of the mask M is to be transferred by exposure.例文帳に追加

アライメントカメラ３６によって撮像される、マスク側アライメントマーク８６はマスクの有効露光エリアの外側に設けられており、基板側アライメントマークは、マスクＭのパターンが露光転写される領域の外側に設けられたブラックマトリクスＢＭのピクセルＰｗを含む。 - 特許庁

To make two alignment marks arranged at diagonal positions on a panel surface, illuminate only by providing two electrification terminals for mark illumination on one terminal part of a unidirectional terminal type liquid crystal display panel by using one electrification terminal for mark illumination for one alignment mark.例文帳に追加

１つのアライメントマークに対するマーク点灯用通電端子を１つとして、一方向端子型の液晶表示パネルにおいて、その１つの端子部に２つのマーク点灯用通電端子を設けるだけで、パネル面内の対角位置に配置されている２つのアライメントマークを点灯可能とする。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography system which can minimize fogging at the periphery of an alignment mark caused by beam irradiation upon detection of the positioning mark or the pollution of the mark caused by resist removal during alignment of the electron beam lithography system.例文帳に追加

本発明は電子線描画装置におけるアライメントで、位置合わせマーク検出時のビーム照射により引き起こされる位置合わせマーク周辺部でのかぶりや位置合わせマーク部でのレジスト剥離により汚染を極力抑える事が可能な電子線描画装置を提供する事にある。 - 特許庁

An alignment mark 13 as a positional reference for trimming is provided in a resistive body 11, having a resistive pattern which can be trimmed, and an alignment mark 14 serving both as a laser passing confirming mark which does not affect the electrical characteristics is provided in a margin near parts 12a, 12b which can trim the resistive pattern, respectively.例文帳に追加

トリミング可能な抵抗パターンを有する抵抗体１１にそれぞれトリミングするための位置基準となるアライメントマーク１３および、抵抗パターンのトリミング可能な部分１２ａ、１２ｂの近傍余白に、電気特性上影響のないレーザー通過確認マークを兼ねるアライメントマーク１４を設ける。 - 特許庁

In a pattern drawing apparatus, the alignment mark on an object side of a substrate which is a drawing object is imaged on an image pick-up portion 15 via the optical system for drawing by the observation light with a wavelength different from that of the drawing light, and the alignment mark is memorized in a memory 31 as a mark image intensity distribution 311.例文帳に追加

パターン描画装置では、描画対象である基板の対象面上のアライメントマークが描画光の波長とは異なる波長の観察光により描画用の光学系を介して撮像部１５にて撮像され、マーク像強度分布３１１として記憶部３１に記憶される。 - 特許庁

A TTR sensor 2 observes a reticle alignment mark RM formed on a reticle R, and a wafer alignment mark WM formed on a wafer W via a projection optical system PL or a reference mark formed on a reference member 14, and detects relative positions of these marks.例文帳に追加

ＴＴＲセンサ２０は、レチクルＲに形成されているレチクルアライメントマークＲＭと、投影光学系ＰＬを介してウェハＷに形成されているウェハアライメントマークＷＭ又は基準部材１４に形成されている基準マークとを観察してこれらの相対位置を検出する。 - 特許庁

To provide a method of detecting a mark position of alignment marks capable of detecting the position of actual alignment marks on a substrate correctly, even when the cross-sectional geometry of alignment marks is in left-right asymmetry.例文帳に追加

アライメントマークの断面形状が左右非対称な場合においても、基板上の実際のアライメントマークの位置を正確に検出可能なアライメントマークのマーク位置検出方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The equipment is for determining the alignment condition can work during the alignment process and determines the alignment condition of the wafer W from an image generated by the optical system, when the optical system sees at least a part of a mark.例文帳に追加

整合状態を決定する装置は、整合工程中に作動可能であり、光学系が標識の少なくとも一部を見るときに該光学系により発生された像からウェーハＷの整合状態を決定する。 - 特許庁

To enhance the yield of a wiring board while securing an alignment precision and to facilitate an alignment work by increasing the visibility of an alignment mark when mounting the wiring board on an electro-optical panel.例文帳に追加

電気光学パネルに配線基板を実装する場合において、アライメント精度を確保しつつ、配線基板の歩留まりを向上させることができるとともにアライメントマークの視認性を高めてアライメント作業の容易化を図る。 - 特許庁

Consequently, only the post electrode 10 is formed in the semiconductor element forming region 1A, and only a temporary alignment post electrode 22 and a regular alignment post electrode 23 are formed in the alignment mark forming region 21A.例文帳に追加

これにより、半導体素子形成領域１Ａにはポスト電極１０のみが形成され、アライメントマーク形成領域２１Ａには仮アライメント用ポスト電極２２および本アライメント用ポスト電極２３のみが形成される。 - 特許庁

The wafer stage 11 is moved to the designed coordinate 53 of a second alignment (S6), and the coordinate of a second alignment mark 91 detected by an image obtained by the camera 31 is recorded (S10).例文帳に追加

ウエハステージ１１を第二アライメント設計座標５３へ移動し（Ｓ６）、カメラ３１の取得画像で検出した第二アライメントマーク９１の座標を記憶する（Ｓ１０）。 - 特許庁

The alignment system 4 may comprise an optical member which emits light, and a reflection portion which reflects light emitted from the optical member and passed through the alignment mark AM.例文帳に追加

アライメント系４は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークＡＭを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。 - 特許庁

A wafer stage 11 is moved to the designed coordinate 52 of a first alignment(S1), and the coordinate of a first alignment mark 81 detected by an image obtained by a camera 31 is recorded (S5).例文帳に追加

ウエハステージ１１を第一アライメント設計座標５２へ移動し（Ｓ１）、カメラ３１の取得画像で検出した第一アライメントマーク８１の座標を記憶する（Ｓ５）。 - 特許庁

To highly accurately detect an end of an alignment mark of a micro optical component which has a micro optical element and the alignment formed of the same material on a substrate.例文帳に追加

基板上に同じ材質からなる微小光学素子とアライメントマークとが形成された微小光学部品において、アライメントマークの端を高精度に検出する。 - 特許庁

The method also includes imaging the at least one surface-roughened wafer alignment mark using alignment light having a wavelength λ_A that is in the range from about 2σ_s to about 8σ_s.例文帳に追加

また、この方法では、約２σ_ｓから約８σ_ｓの範囲の波長λ_Ａを有するアライメント光を利用して、少なくとも一つの粗面化ウエハアライメントマークが結像される。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device having excellent visibility of an alignment mark, capable of easily performing alignment and having a high degree of freedom for design of a liquid crystal display panel.例文帳に追加

アライメントマークの視認性に優れ、かつ位置合わせを簡単に行うことができ、しかも液晶表示パネルの設計の自由度の大きい液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The position of the alignment mark on the substrate after alignment is subjected to coordinate transformation (step 304) by the shot offset component to obtain a deformation component of the mask or the substrate (step 305).例文帳に追加

位置合わせ後の基板のアライメントマークの位置をショットオフセット成分により座標変換し（ステップ３０４）、マスク又は基板の変形成分を求める（ステップ３０５）。 - 特許庁

Alignment mark is formed at a specified position of the substrate 90, and the gravity center of the alignment marks is detected by the image recognition process by CCDs 106, 107.例文帳に追加

基板９０上の所定位置にはアライメントマークが形成されており、ＣＣＤ１０６，１０７は、画像認識処理によって、アライメントマークの重心検出を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device in which the accuracy of substrate alignment can be relatively easily enhanced by improving an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークを改良することで、比較的簡単に基板の位置合わせの精度を向上させることができる液晶表示装置の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a position alignment mark, through which an alignment operation can be accurately carried out without adversely affecting a semiconductor process, without being adversely affected by a semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスに影響を与えることなく、しかも半導体プロセスの影響を受けることなく高精度な位置合わせを行うことが可能な位置合わせマークを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate with an alignment mark which can be used for the alignment formed even after the impurity diffusion layer is formed with an epitaxial film flattened.例文帳に追加

エピタキシャル膜を平坦化して不純物拡散層を形成した後にも、アライメントに用いることができるアライメントマークが形成された半導体基板を提供する。 - 特許庁

Alignment marks 8 are provided, at the two parts other than the non-adhesion parts 7a and 7b and a frame part 5 is used as an alignment mark on the side of a liquid crystal module 2.例文帳に追加

非接着部７ａ、７ｂ以外の２箇所には、アライメントマーク８が設けられており、液晶モジュール２側においては額縁部５をアライメントマークとして代用する。 - 特許庁

To provide a correction method for positional misalignment in the rotation direction around an optical axis of an alignment camera for photographing an alignment mark of an drawing object in a drawing position aligning function.例文帳に追加

描画位置合わせ機能において描画対象物のアライメントマークを撮影するためのアライメントカメラの光軸回転方向の位置ズレの校正方法を提供する。 - 特許庁

To fix a device substrate reliably without using any pressure-sensitive adhesive tapes; to enable positioning with an alignment mark as a reference; and to improve yields, in a dicing method or the like for positioning the device substrate where a plurality of devices are fabricated and the alignment mark for positioning is formed, with the alignment mark as a reference for dicing.例文帳に追加

本発明は、複数のデバイスが作り込まれるとともに位置決め用のアライメントマークが形成されたデバイス基板を、アライメントマークを基準に位置決めしてダイシングするダイシング方法等に関し、デバイス基板を粘着テープを用いずに確実に固定するとともに、アライメントマークを基準にした位置決めを可能とし、さらに歩留まりを向上させる。 - 特許庁

In the method for overlapping two substrates 41, 43 having micro lenses 42, 44, a first protruding alignment mark 48 is formed on the first substrate 41, and a recessed second alignment mark 51 is formed on the second substrate 43 so as to have a dimension for permitting intrusion of at least a part in the vicinity of a top of the first alignment mark 48.例文帳に追加

マイクロレンズ４２，４４を有する二枚の基板４１，４３の重ね合わせ方法であって、一方の第一の基板４１に、凸形状の第一のアライメントマーク４８を形成し、他方の第二の基板４３に、少なくとも第一のアライメントマーク４８の頂点近傍の侵入を許容する大きさに形成された凹形状の第二のアライメントマーク５１を形成する。 - 特許庁

To provide a method which allows precise alignment in forming a device part, without the trouble of having to remove a photoresist layer on the alignment marking beforehand, and for securing sufficient device-forming region by making the alignment marking formation field small, so as not to destroy the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマーク上のホトレジスト層を予め除去する手間を要することなくデバイス部形成時の正確なアライメントを可能とするとともに、アライメントマークが潰れないようにしてアライメントマーク形成領域を小さくし、十分なデバイス形成領域を確保する。 - 特許庁

An exposure device 1 is provided in which an alignment mark forming part 13 is disposed on the upstream side from an irradiation position of exposure light and an alignment mark 2a in which an intermittent index is applied in the moving direction of an exposure object member 2 is formed.例文帳に追加

露光装置１には、露光光の照射位置よりも上流側にアライメントマーク形成部１３が設けられており、露光対象部材２に移動方向に対して断続的な指標が付されたアライメントマーク２ａを形成する。 - 特許庁

The photomask 1 is mounted on a photomask stage 5, and the exposure region is moved to an irradiation area 70 by a photomask moving device 50 and aligned by an alignment device (not shown in Figure) using an alignment mark 15 and a substrate mark (not shown).例文帳に追加

フォトマスク１はフォトマスクステージ５に装着され、フォトマスク移動装置５０により露光領域を照射エリア７０に移動し、アライメントマーク１５と基板マーク（図示せず）を用いて、位置合せ装置（図示せず）により位置合せを行う。 - 特許庁

To provide a method for forming pattern, an electrooptical device, and an electronic apparatus which forms an alignment mark by a liquid discharge method in the state positioned with high precision by eliminating the waste of a process for forming an alignment mark by photolithograph.例文帳に追加

フォトリソグラフィによるアライメントマークを形成する工程の無駄を省き、高精度に位置決めされた状態で液体吐出法によりアライメントマークを形成するパターン形成方法、電気光学装置、及び電子機器を提供すること。 - 特許庁

Since a nearly flat area of the bottom surface of the bottomed hole is small, reflection light for image recognition is reduced, and the contrast between the alignment mark and the principal plane is increased, thereby improving the recognizability of the alignment mark.例文帳に追加

さらに有底穴の底面のフラットに近い面積が小さくなるため、画像認識のための反射光を減少させることができ、アライメントマークと主面とのコントラストを大きくすることができアライメントマークの認識性を向上できる。 - 特許庁

In beam irradiation conditions during the detection of the alignment mark, a necessary accuracy can be secured by evaluating a detection reproduction accuracy using the actual alignment mark and can be realized by optimizing a necessary minimum quantity of irradiation.例文帳に追加

位置合わせマーク検出時のビーム照射条件を実際の位置合わせマークを使い検出再現精度を評価する事で必要な精度を確保しかつ必要最小限な照射量に最適化する事で可能となる。 - 特許庁

A spacing between a barrier plate 7 and the bus alignment mark 50 is changed by varying the width of the bus alignment mark 50 in each cell, and variations in spacings among the barrier plate 7, the bus electrode 12 and a discharge electrode 11 are assessed by pattern recognition.例文帳に追加

セル毎にバスアライメントマーク５０の幅を変えることによって、隔壁７とバスアライメントマーク５０の間隔を変化させ、隔壁７と、バス電極１２ひいては放電電極１１との距離のばらつきをパターンに認識で評価する。 - 特許庁

An ITO layer 7 is then formed on the pixel patterns 3, 4 and 5 and the substrate side alignment mark 6 and a water repellent material layer 9 is formed in a portion corresponding to the substrate side alignment mark 6 of the ITO layer 7.例文帳に追加

次にこれらの画素パターン３、４、５および基板側アライメントマーク６上に、ＩＴＯ層７が形成され、ＩＴＯ層７上のうち基板側アライメントマーク６に対応する部分に撥水材料層９が形成される。 - 特許庁

The substrate for the liquid crystal display is provided with a mother substrate 200, a thin-film-shaped alignment mark 111 provided on the surface of the mother substrate 200 and a transparent film 112 covering the surface of the alignment mark 111.例文帳に追加

本発明にかかる液晶表示装置用基板は、マザー基板２００、マザー基板２００表面上に設けられた薄膜状の位置合せ用マーク１１１、位置合せ用マーク１１１の表面を覆う透明膜１１２を備える。 - 特許庁

To permit the measurement of an alignment mark at a focusing position while preventing the deterioration of a throughput such as the measurement of detecting system optical axis directional position at every alignment mark measurement or the like, in an exposure method and system employing a plurality of substrate supporting means.例文帳に追加

複数の基板支持手段を用いる露光方法および露光装置において、アライメントマーク計測毎に検出系光軸方向位置を計測する等のスループット低下を防ぎつつ、アライメントマークを合焦位置で計測すること。 - 特許庁

The working device 11 is thereby operated while looking at the arm alignment mark 31 and the link alignment mark 32 to enable the working device 11 to make the front posture suitable for accurately greasing the working device only by one time operation.例文帳に追加

これにより、アーム位置合せマーク３１とリンク位置合せマーク３２を見ながら作業装置１１を操作することにより、作業装置１１を１回の操作で正確に給脂するのに適したフロント姿勢にすることができる。 - 特許庁

A plurality of images of an intermediate phase from -π/2 to +π/2 are picked up, the three-dimensional structure of the alignment mark is measured through phase extrapolation, and a target work is selectively aligned with the top/bottom of the alignment mark.例文帳に追加

または、−π／２から＋πまで中間位相の画像を複数枚撮像し、位相補完を行なうことにより、アライメントマークの３次元構造を計測し、アライメントマークのトップ／ボトムに対して選択的に位置合わせを行なう。 - 特許庁

To readily and rapidly perform work of aligning a captured image of a recognition mark with graphics involving the recognition mark and to increase the accuracy of alignment.例文帳に追加

撮像された認識マークの画像とこの認識マークに係るグラフィックスとの目合わせ作業を簡単に且つ迅速に行うと共に、この目合わせ自体の精度を高める。 - 特許庁

SUBSTRATE PROVIDED WITH ALIGNMENT MARK, METHOD OF DESIGNING MASK, COMPUTER, PROGRAM, MASK FOR EXPOSING THE MARK, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

位置決めマークを備えた基板、マスクを設計する方法、コンピュータ・プログラム、位置決めマークを露光するマスク、デバイス製造方法、およびこれらによって製造されるデバイス - 特許庁

A controller 40 executes alignment based on the position information of the mask stage mark 20 and the position information of the wafer stage mark 42 imaged by the imaging apparatus 48.例文帳に追加

制御部４０は、撮像装置４８によって撮像されたマスクステージマーク２０の位置情報とウェハステージマーク４２の位置情報に基づいてアライメントを実行する。 - 特許庁

The relative position the in x-axis direction is adjusted based on an alignment error Δx1 in the x-axis direction between one x-axis mark and a mark of the mask corresponding to it.例文帳に追加

１つのｘ軸用マークとそれに対応するマスクのマークとのｘ軸方向の位置合わせ誤差Δｘ_1に基づいてｘ軸方向の相対位置を調節する。 - 特許庁

To enable the relative position of an active layer to a positioning mark to be accurately measured when the positioning mark is provided for passive alignment mounting.例文帳に追加

パッシブアライメント実装を行うための位置決めマークを設けた半導体レーザにおいて、活性層と位置決めマークとの相対位置を高精度に測定できるようにする。 - 特許庁

After a first exposure ends, a PEB is applied to develop, thus forming an alignment mark 6 and a first inspection mark 7 of resists 4, 14 on a substrate 5.例文帳に追加

第１回目の露光終了後、ＰＥＢを行い現像することにより基板５上にレジスト４，１４で構成されるアライメントマーク６と第１の検査マーク７が形成される。 - 特許庁

To prevent cracks from reaching to an element forming region on the occurrence of the cracks in an SOG film in a trench forming a process mark, an alignment mark or the like.例文帳に追加

工程マークやアライメントマーク等を形成するトレンチ内のＳＯＧ膜にクラックが発生した場合に、そのクラックが素子形成領域に到達するのを防止する。 - 特許庁

To precisely align a relative position between an object to be transferred with a mark or pattern and a stamper without forming any alignment marks on the object to be transferred with a mark or pattern in an imprinting method and apparatus.例文帳に追加

インプリント方法及び装置において、被転写体にアライメントパターンを設けることなく、被転写体とスタンパとの相対位置を高精度に合わせることを可能にする。 - 特許庁