「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To dispense with a process of forming an alignment mark through an exposure process, to reduce the manufacturing cost, to provide the alignment mark and a method of forming the same, a display device, and an electronic apparatus, and to provide a method of detecting the position of the alignment mark so as to accurately position the substrate.例文帳に追加

露光処理によるアライメントマークを形成する工程の無駄と、製造原価を削減し、アライメントマーク及び形成方法及び表示装置及び電子機器を提供し、また、アライメントマークの位置を検出することで、高精度な基板の位置決めが可能となるアライメントマーク位置検出方法を提供する。 - 特許庁

The alignment mark is formed in a scribe line on a substrate and the scribe line extends in the scribe line direction.例文帳に追加

アラインメントマークは基板のスクライブライン内に形成され、スクライブラインはスクライブライン方向に延在する。 - 特許庁

To perform dicing, without the use of an alignment mark for dicing that is conventionally formed around an electrode.例文帳に追加

電極の周辺に設けていたダイシング用のアライメントマークを用いずに、ダイシングを行えるようにする。 - 特許庁

The flat panel display includes the substrate 100 having a pixel region P and alignment mark regions AM.例文帳に追加

平板表示装置は，画素領域Ｐとアラインマーク領域ＡＭを有する基板１００を具備する。 - 特許庁

ALIGNMENT MARK STRUCTURE, SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD, SEMICONDUCTOR ELEMENT, CHARGE COUPLED ELEMENT, AND SOLID IMAGE PICK-UP DEVICE例文帳に追加

アライメントマーク構造、半導体素子製造方法、半導体素子、電荷結合素子、及び固体撮像装置 - 特許庁

To use an alignment precision measuring mark formed on a lower conductive film pattern plural times.例文帳に追加

下層の導電膜パターンに形成されているアライメント精度計測マークを複数回利用できるようにする。 - 特許庁

A chip capacitor 20 is mounted on an adhesive sheet based upon an alignment mark formed on the adhesive sheet.例文帳に追加

接着シートに形成されたアライメントマークを基準にして、チップコンデンサ２０を接着シート上に載置する。 - 特許庁

Operation to align the mark part 130 with the alignment part 162 is performed easily and accurately.例文帳に追加

位置合わせ部１６２にマーク部１３０を合わせる作業を、容易に且つ正確に行なうことができる。 - 特許庁

METHOD OF FORMING MARK FOR ALIGNMENT AND FOR VERIFYING POSITIONING ACCURACY IN SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウエーハのおける位置精度検証用マークの形成方法、及びアライメント用マークの形成方法 - 特許庁

An alignment mark element 2 consists of ten heavy metal lines 1 placed in a short period B.例文帳に追加

アライメントマーク要素２は、短い周期Ｂで配置された１０本の重金属の線１で構成されている。 - 特許庁

The at least one substrate mark has a position that can be measured using an alignment system.例文帳に追加

少なくとも１つの基板マークは、位置合わせシステムを使用して測定することができる位置を有する。 - 特許庁

The alignment mark is comprised of an uneven region forming a dark part and a flat region forming a light part.例文帳に追加

アライメントマークは、暗部を形成する凹凸領域と、明部を形成する平坦領域からなる。 - 特許庁

To prevent bubbles from being mixed into areas around an alignment mark in attaching an ACF (Anisotropic Conductive Film) to an electronic component.例文帳に追加

電子部品にＡＣＦを貼り付ける際、アライメントマークの周辺に気泡が混入することを防止する。 - 特許庁

In this case, the width B of the mark 12 is sufficiently large for operator who carries out alignment, to recognize it easily.例文帳に追加

ここで、マーク１２の幅Ｂは、位置合わせを行う作業者が容易に認識できる大きさにする。 - 特許庁

In one embodiment, a mark on the backside of the substrate is projected using a surface-backside alignment optical part.例文帳に追加

一実施例では、表面−裏面アライメント光学部品を使用して基板の裏面のマークを投影する。 - 特許庁

Upon patterning the substantially single crystal semiconductor film, the position of the first alignment mark 21 is utilized as the reference of patterning.例文帳に追加

略単結晶半導体膜をパターニングする際には、第一アライメント・マーク２１の位置を基準とする。 - 特許庁

The semiconductor device is provided with a fuse element 130 formed on a second insulating film 10, an alignment mark 140 for detecting the position of the fuse element 130, a passivation film 120 formed on the upper layer than the alignment mark 140, and an opening unit 122 on the alignment mark 140 formed on the passivation film 120.例文帳に追加

第２の絶縁膜１０上に形成されたヒューズ素子１３０と、ヒューズ素子１３０の位置を検出するためのアライメントマーク１４０と、アライメントマーク１４０より上層に形成されたパッシベーション膜１２０と、アライメントマーク１４０上に位置し、パッシベーション膜１２０に形成された開口部１２２とを具備する。 - 特許庁

To provide an alignment mark, or the like, ensuring a sufficient contrast when the position of a reticle is detected.例文帳に追加

レチクルの位置検出を行う際に、十分なコントラストを得ることのできるアライメントマーク等を提供する。 - 特許庁

The fiducial mark is formed on the surface that enables precise alignment of the micro-sized optical articles.例文帳に追加

基準マークは、ミクロサイズの光学部品の正確な配列を可能にする表面の上に形成される。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method with less restrictions on the arrangement of an alignment mark on a substrate.例文帳に追加

基板側のアライメントマークの配置に制約の少ない露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

To enable a dicing operation to be carried out without using a dicing alignment mark provided around an electrode.例文帳に追加

電極の周辺に設けていたダイシング用のアライメントマークを用いずに、ダイシングを行えるようにする。 - 特許庁

Alternatively, another structure is constructed to remove the aluminum electrode existing immediately under the alignment mark of a through hole.例文帳に追加

あるいは、スルーホールのアラインメントマークにおいて直下に存在するアルミ電極を取り除く構造にする。 - 特許庁

Accordingly, the alignment mark (40) and a light shielding layer (60) are covered by the colored resist film (50b) of the blue.例文帳に追加

よって、アライメントマーク（４０）及び遮光層（６０）は、青の着色レジスト膜（５０ｂ）によって覆われる。 - 特許庁

Performing anisotropic etching forms a silicon-based film 22 only in a side wall of a step 21 of the alignment mark.例文帳に追加

異方性エッチングすることにより、アライメントマークの段差２１の側壁にのみ珪素系膜２２を形成する。 - 特許庁

An exposure device 1 uses at least one alignment mark 45 formed on a mask M and comprises: a reference bar 51 having a plurality of reference marks 55 corresponding to the alignment mark 45 of each mask M; and at least one camera 59 for imaging the reference marks 55 of the reference bar 51, and the alignment mark 45 of the mask M.例文帳に追加

露光装置１は、マスクＭに少なくとも１つのアライメントマーク４５が形成されており、各マスクＭのアライメントマーク４５にそれぞれ対応する複数の基準マーク５５が設けられた基準バー５１と、基準バー５１の基準マーク５５とマスクＭのアライメントマーク４５とを撮像する少なくとも１つのカメラ５９と、を有する。 - 特許庁

SUBSTRATE WITH ALIGNMENT MARK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND SUBSTRATE FOR ELECTROOPTIC DEVICE AND ELECTROOPTIC DEVICE例文帳に追加

アライメントマーク付き基板及びその製造方法並びに電気光学装置用基板及び電気光学装置 - 特許庁

The texture structure of the light receiving face of the cell is formed simultaneously with the texture structure as the alignment mark.例文帳に追加

セル受光面のテクスチャ構造とこのアライメントマークとしてのテクスチャ構造とを同時に形成する。 - 特許庁

The first printer P1 forms an alignment mark Rm in a predetermined position of each page of the web W.例文帳に追加

第１印刷装置(P1)は、ウェブ(W)の各ページの予め指定された位置に位置合せマーク(Rm)を形成する。 - 特許庁

To prevent defective print due to shift in the setting of document by performing accurate positioning even when an alignment mark is shifted slightly from the reference mark of the document.例文帳に追加

位置合せマークと帳票の基準マークが多少ずれていても正確な位置決めを行い、帳票セットのずれによる印字不良を防止する。 - 特許庁

With this configuration, an initial deviation measurement mark M2 which can measure initial deviation amount of the first alignment mark M11 itself is provided on the substrate.例文帳に追加

この構成で、基板上に、第１のアライメントマークＭ１１自体の初期位置ずれ量を測定可能な初期位置ずれ量測定マークＭ２を備える。 - 特許庁

To provide an exposure method capable of performing projection exposure by positioning a reticle and a photosensitive substrate through alignment of a reverse-surface mark and a reticle mark.例文帳に追加

裏面マークとレチクルマークとのアライメントにより、レチクルと感光性基板との位置合わせを行い、投影露光することが可能な露光方法を提供する。 - 特許庁

SUBSTRATE PROVIDED WITH ALIGNMENT MARK IN SUBSTANTIALLY TRANSMISSIVE PROCESS LAYER, MASK FOR EXPOSING THE MARK, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加

実質的に透過性のプロセス層に整列マークを備える基板、上記マークを露出するためのマスク、デバイス製造方法、およびそれによって製造したデバイス - 特許庁

To correctly perform alignment of a mark serving as a target even if the mark is damaged by wafer treatment and cannot be detected or measured.例文帳に追加

ウエハ処理によってダメージを受け、目標とするマークが検出できない場合もしくは、計測ができなくなった場合でも正確にアライメントを実施する。 - 特許庁

An aligning mark is disposed in the pattern formation and second and later patterns are formed by exposure after alignment using the mark.例文帳に追加

本発明は第１のパターン形成時にウエファ周端部に透明窓を複数個設けたフォトマスクを使用することにより、プリアライメント補正を可能にするものである。 - 特許庁

To enhance the accuracy and reliability of the detection of an alignment mark by an image processing operation, irrespective of irregularities in the contamination of a substrate or in the production quality of the mark.例文帳に追加

基板の汚れやマークの製造品質のばらつきに拘らず、画像処理によるアライメントマーク検出の精度及び信頼性を向上する。 - 特許庁

First, alignment is performed so that a plate-side mark formed on a printing plate aligns with a substrate-side mark WM formed on an adjustment substrate AW.例文帳に追加

最初に、印刷版に形成された版側マークと調整用基板ＡＷに形成された基板側マークＷＭとが一致するように位置合わせを行う。 - 特許庁

Next, the alignment mark (40) is optically read by using alignment light (Pa)(in other words, is detected), and thereby the alignment (i.e. position adjustment) of a photomask (200b) for blue and the mother substrate (10m) is performed.例文帳に追加

次に、アライメントマーク（４０）をアライメント光（Ｐａ）を用いて光学的に読み取る（言い換えれば、検出する）ことで、青用のフォトマスク（２００ｂ）とマザー基板（１０ｍ）とのアライメント（即ち、位置合わせ）を行う。 - 特許庁

To provide an alignment treatment method of a liquid crystal display capable of reducing adhesion of a fragment of an alignment layer to an alignment mark and to provide a mother substrate of the liquid crystal display.例文帳に追加

この発明は、位置合せ用マークへの配向膜の破片の付着を低減させることができる液晶表示装置の配向処理方法および液晶表示装置のマザー基板を提供すること。 - 特許庁

A right alignment through-hole 11R of the left metal mask is set at a left alignment mark 21L of the fixing mask, a left alignment through-hole 11L of the right metal mask is set at a right alignment mark 21R, and a part where the left metal mask and the right metal mask are overlapped with the fixing mask is jointed by spot welding 50.例文帳に追加

固定用マスクの左位置合わせマーク２１Ｌに左メタルマスクの右位置合わせ貫通孔１１Ｒを合わせ、右位置合わせマーク２１Ｒに右メタルマスクの左位置合わせ貫通孔１１Ｌを合わせ、固定用マスクに左メタルマスク及び右メタルマスクが重なる部分をスポット溶接５０で接合させる。 - 特許庁

When a single alignment mark is created straddling a plurality of shots, CAD data of the plurality of shots related to respective alignment marks are synthesized in accordance with a mutual positional relationship to automatically create synthetic CAD data including a perfect form of the alignment mark.例文帳に追加

１つのアライメントマークが複数のショットに跨って作成される場合に、各アライメントマークに関連する複数のショットのＣＡＤデータを相互の位置関係に応じて合成し、アライメントマークの完成形を含む合成ＣＡＤデータを自動的に作成する。 - 特許庁

When the alignment mark of a mask M is detected, a work stage 3 moves to the right side of the drawing, a parallel plate 5 attached to the side face of the work stage 3 is inserted into the optical path of an alignment microscope 4 and the location of the alignment mark of the mask M is detected and memorized.例文帳に追加

マスクＭのアライメントマークを検出する際、ワークステージ３が図面右方向に動き、ワークステージ３の側面に取り付けられた平行平板５が、アライメント顕微鏡４の光路内に挿入され、マスクＭのアライメントマークの位置が検出され記憶される。 - 特許庁

The alignment mark 5 is formed of a plurality of first grooves 15 being objects of picture analysis at the time of alignment, and a plurality of second grooves 16 formed to be narrower and denser than the first grooves 15 so as to divide a peripheral edge of the alignment mark 5.例文帳に追加

アライメントマーク５を、アライメント時の画像解析対象となる複数の第１の溝１５と、当該アライメントマーク５の周縁部分を分割するように第１の溝１５よりも幅狭で稠密に形成されてなる複数の第２の溝１６とから形成する。 - 特許庁

Carriage of the document is controlled such that the mark read sensor 6 scans a specified region including the set range mark 121a (or 122b) of the document corresponding to the alignment mark 1 and the printing position is determined by detecting the reference mark in the set range mark region through the mark read sensor 6.例文帳に追加

このような構成において、位置合せマーク１と対応する帳票のセット範囲マーク１２１ａ（又は１２２ｂ）を含む所定の領域をマークリードセンサ６が走査するように帳票の搬送制御を行い、セット範囲マーク領域中の基準マークをマークリードセンサ６により検出して印字位置を決定する。 - 特許庁

When the space image is recorded on a recording medium for printing in an image recording part 25, in a mark re-attaching treatment part 23, image processing for attaching an alignment mark of a prescribed form is done for a space image to which the alignment mark of the prescribed form is not attached.例文帳に追加

画像記録部２５で印刷用の記録媒体に紙面画像を記録するにあたり、マーク付け替え処理部２３にて、位置合わせマークが所定形式で付されていない紙面画像に対して、所定形式の位置合わせマークを付与する画像処理を行う。 - 特許庁

To cover an exposed lead electrode, an alignment mark and a substrate ID mark with a protective mask of a photosensitive resist to prevent a possible damage from sandblasting thereof, and detect the alignment mark underneath the protective mask.例文帳に追加

露出した引き出し電極、アライメントマークや基板ＩＤマークなどに対して、サンドブラスト処理で損傷を与える虞を防ぐため、これらの部分を感光性レジストによる保護マスクで被覆し、かつ、この保護マスクの下層にあるアライメントマークを検出できるようにする。 - 特許庁