「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an alignment device and method capable of making compatible the necessary alignment precision and throughput even when there are variations in detected results of an alignment mark, and an aligner.例文帳に追加

アライメントマークの検出結果にばらつきがある場合でも、必要なアライメント精度とスループットの両立を可能にするアライメント装置及び方法、並びに、露光装置を提供する。 - 特許庁

The alignment mark part is provided with: a mark composed of a colored layer arranged at one side of a transparent substrate; and one colored resin layer covering the whole of the mark region and arranged so as to be raised along the mark shape.例文帳に追加

アライメントマーク部は、透明基板の一面に配設された着色層からなるマークと、マーク領域全体を覆い、マークの形状に沿い盛り上がるように配設された着色樹脂層１層とを備える。 - 特許庁

Mask alignment of a diffusion layer pattern and a mask pattern to be processed in a post-process is carried out using the alignment mark M1a formed in this manner.例文帳に追加

こうして形成されたアライメントマークＭ１ａを用い、拡散層パターンと後工程において加工するマスクパターンとのマスク合わせを行う。 - 特許庁

Mask alignment between a diffusion layer pattern and a mask pattern to be processed in a post-process is carried out using the alignment mark M1a formed in this way.例文帳に追加

こうして形成されたアライメントマークＭ１ａを用い、拡散層パターンと後工程において加工するマスクパターンとのマスク合わせを行う。 - 特許庁

To provide an alignment method highly accurately processing a workpiece having an alignment mark formed in a section with a difference of elevation.例文帳に追加

高低差のある部位に形成されたアライメントマークを有する被加工物を高精度に加工可能なアライメント方法を提供することである。 - 特許庁

Then, only the alignment mark forming region 22 is exposed by using a second nega-type exposure mask for forming the post electrode for alignment.例文帳に追加

次に、アライメント用ポスト電極形成用のネガ型の第２の露光マスクを用いて、アライメントマーク形成領域２２のみに対して露光を行なう。 - 特許庁

Each holding unit which holds the wafer has a stage reference mark for alignment and measurement, and can be fitted to and removed from the exposure and alignment stages 4 and 7.例文帳に追加

ウエハを保持する保持ユニットは、アライメント計測用のステージ基準マークを有し、露光ステージ４及びアライメントステージ７に着脱可能である。 - 特許庁

This exposure mask 100 has an alignment mark pattern 12 to form an alignment mark on a substrate, first and second mask alignment patterns 14, 16 formed in the point symmetric positions each other around the alignment mark pattern as the center, and a common pattern 18 to be commonly used to pattern the first, second and third layers.例文帳に追加

露光用マスク１００は、基板上にアライメントマークを形成するためのアライメントマークパターン１２と、アライメントマークパターンを中心に互いに点対称な位置に形成された第１および第２マスクアライメントパターン１４および１６と、第１層、第２層および第３層をパターニングするために共通に用いられる共通パターン１８とを有する。 - 特許庁

This alignment system for lithographic device is provided with a supply source of alignment radiation with a first wavelength and a second wavelength, a first wavelength channel located to receive alignment radiation from an alignment mark at the first wavelength and a second wavelength channel located to receive alignment radiation from the alignment mark at the second wavelength, and a position determining unit in communication with a detection system.例文帳に追加

リソグラフィ装置用アライメント・システムは、第１の波長および第２の波長のアライメント放射の供給源、第１の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第１の波長チャネルおよび第２の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第２の波長チャネル、および検出システムと連絡した位置決定ユニットを備える。 - 特許庁

The alignment system for the lithographic apparatus comprises a supply source of alignment radiation of a first wavelength and a second wavelength, a first wavelength channel arranged to receive alignment radiation from an alignment mark at the first wavelength and a second wavelength channel arranged to receive alignment radiation from the alignment mark at the second wavelength, and a position determining unit in communication with a detection system.例文帳に追加

リソグラフィ装置用アライメント・システムは、第１の波長および第２の波長のアライメント放射の供給源、第１の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第１の波長チャネルおよび第２の波長でアライメント・マークからアライメント放射を受け取るように配列された第２の波長チャネル、および検出システムと連絡した位置決定ユニットを備える。 - 特許庁

To provide a mark which allows high-precision and stable image recognition and detection, related to an alignment mark for image recognition which is provided to a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子に付される画像認識用のアライメントマークにおいて、高精度で安定した画像認識・検出が可能なマークを提供する。 - 特許庁

Then, an inclination of a substrate with respect to a main scanning direction is obtained by obtaining a straight line passing through the obtained mark position of each alignment mark.例文帳に追加

そして、求められた各アライメントマークのマーク位置を通る直線を求めることによって、主走査方向に対する基板の傾きを求める。 - 特許庁

The solder paste printed on the pads 11 and 12 and the alignment mark is made to reflow, whereby a solder bump 18 is formed on the pad 11, a solder ball mounting solder layer 19 is formed on the pad 12, and a second solder layer is formed on the alignment mark.例文帳に追加

パッド１１，１２及びアライメントマークに印刷されたハンダペーストをリフローして、パッド１１にハンダバンプ１８を、パッド１２にハンダボール取付用ハンダ層１９を、アライメントマークに第二ハンダ層を形成する。 - 特許庁

In the re-mounting of the driving IC chip 3, the alignment mark 33 for IC bump in the part which holds the column of an output bump 31 of the driving IC chip 3 and the alignment mark 51 for spare pads are superposed.例文帳に追加

駆動ＩＣチップ３の再装着の際には、駆動ＩＣチップ３の出力バンプ３１の列を挟む個所にあるＩＣバンプ用アライメントマーク３３と、予備パッド用アライメントマーク５１とを重ね合わせる。 - 特許庁

In a backside illumination type solid state image sensor, an alignment mark (a polysilicon layer 9 of a predetermined shape) is formed on the surface of a substrate with reference to an alignment mark identical to that for a light-receiving sensor 4.例文帳に追加

裏面照射タイプにおいて、受光センサ４に対するアライメントマークと同一のアライメントマークを基準として基板表面に位置合わせ用マーク（所定形状のポリシリコン層９）形成する。 - 特許庁

In a step S22, the alignment mark 204 is imaged with a set high magnification, and the position of the center of gravity of the alignment mark 204 is calculated to correct the position of the substrate, thereby positioning the substrate.例文帳に追加

そして、ステップＳ２２において、セットされた高倍率にてアライメントマーク２０４を撮像し、アライメントマーク２０４の重心位置を計算して基板の位置を補正して、基板の位置決めを行う。 - 特許庁

The resist 2 is then photo-sensed through the mask 5 with an alignment mark pattern 5a formed (g), and the resist 2 is developed, then, the resist 2 on a part 2a corresponding to the alignment mark is removed (h).例文帳に追加

そして、アライメントマークのパターン５ａが形成されたマスク５を通してレジスト２を感光させ（ｇ）、レジスト２を現像することにより、アライメントマークに対応する部分２ａのレジスト２を除去する（ｈ）。 - 特許庁

Then, the alignment mark is measured again, and at that time, the alignment mark is measured in a manner that a position where it is deviated by -Δx and -Δy from the design position becomes the center of the visual field in the optical microscope.例文帳に追加

その後、再びアライメントマークの測定行うが、その際には、設計位置から（−Δｘ，−Δｙ）だけずれた位置が光学顕微鏡の視野中心になるようにして測定を行う。 - 特許庁

The interval of the pattern of the alignment mark 15A is devised, thus inhibiting abnormal growth for obtaining a film growth layer with a flat surface even if the crystal is grown on the alignment mark 15A.例文帳に追加

アライメントマーク１５Ａのパターンの間隔を工夫したので、アライメントマーク１５Ａの上に結晶を成長させても、異常成長が抑制されて平坦な表面の被覆成長層を得ることができる。 - 特許庁

The second wiring pattern 22 is formed so that orthographic projection 122 to the first face 11 can be overlapped with the alignment mark 14 interposed between a pair of parts 13 and 15 of the alignment mark 14.例文帳に追加

第２の配線パターン２２は、第１の面１１への正射影１２２が、アライメントマーク１４の一対の部分１３，１５に挟まれる状態でアライメントマーク１４とオーバーラップするように形成されている。 - 特許庁

The radii of the plurality of circles and the radius of the work alignment mark are compared to select the circle having the most approximate radius among the plurality of circles, and the center of the selected circle is made the position of the work alignment mark.例文帳に追加

この複数の円の半径と、ワーク・アライメントマークの半径とを比較し、上記複数の円のなかから半径が最も近い円を選択し、その円の中心位置をワーク・アライメントマークの位置とする。 - 特許庁

After etching the surface of the substrate 30 by using resist mask 35 thus formed, a resist mask 35 and the alignment mark 33 are removed and the region occupied by the alignment mark 33 is flattened.例文帳に追加

こうして形成したレジストマスク３５を用いて基板３０の表面をエッチングした後、レジストマスク３５とアライメントマーク３３を除去し、アライメントマーク３３が存在していた領域を平坦にする。 - 特許庁

A mark (18A) for positional alignment is formed in the peripheral end part of the cement inorganic plate (6) to be cut after molding and the positional alignment is executed by fitting a jig to the mark (18A) and by moving it.例文帳に追加

成形後切断するセメント系無機質板（６）の周辺端部に位置合わせ用マーク（１８Ａ）を形成し、この位置合わせ用マーク（１８Ａ）への治具の嵌合とその移動により位置合わせを行う。 - 特許庁

By rotating a member (32) to be processed for which an alignment mark is formed on a first layer, scanning it by a fine beam spot (21) and detecting (22) the reflected light quantity, the position (AL) of the alignment mark is detected.例文帳に追加

第１の層にアライメントマークが描かれた被処理部材(32)を回転させ、微少なビームスポット(21)で走査し、その反射光量を検出する(22)ことによってアライメントマークの位置(AL)を検出する。 - 特許庁

The LCD driver 3 has a first alignment mark 11 on the surface facing to the interposer substrate 4a, and the interposer substrate 4a has a second alignment mark 12 on the surface facing to the LCD driver 3.例文帳に追加

液晶ドライバ３は、インターポーザ基板４ａとの対向面に第１アライメントマーク１１を有し、インターポーザ基板４ａは、液晶ドライバ３との対向面に第２アライメントマーク１２を有している。 - 特許庁

On a substrate 101 made of a material transparent to a light source for alignment mark detection, a second alignment mark 120, which is made of a material having a refraction factor different from that of the substrate 101 is formed.例文帳に追加

アライメントマーク検出用光源に対して透明な材料からなる基板１０１の上に、該基板１０１と異なる屈折率を有する材料からなる第２のアライメントマーク１２０を形成する。 - 特許庁

The part in the vicinity of the top of the first protruding alignment mark 48 intrudes into the second recessed alignment mark 51, and the first and the second substrates 41, 43 are overlapped.例文帳に追加

そして、凹形状の第二のアライメントマーク５１の内部に対して凸形状の第一のアライメントマーク４８の頂点近傍を侵入させ、第一の基板４１と第二の基板４３とを重ね合わせる。 - 特許庁

A mark 11 is applied to the position alignment guide 10, if the carrier tape 4 is aligned correctly, the position alignment guide 10 is made to slid aligning the mark 11 with a front end or back end position of the electronic component.例文帳に追加

位置合わせガイド１０にはマーク１１が付されており、キャリアテープ４が正しく位置合わせされたら、位置合わせガイド１０をスライドさせ、マーク１１を電子部品の前端もしくは後端位置に合わせる。 - 特許庁

To provide a method for detecting a position which strikes a balance among an alignment, accuracy, and a throughput even when there are variations in detection result of an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの検出結果にばらつきがある場合でも、必要なアライメント精度とスループットの両立を可能にする位置検出方法を提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing this image pickup device, the alignment accuracy of the double-face structure is improved, by forming datum references on both faces, based on one alignment mark.例文帳に追加

また、本撮像装置の製造方法として、１つのアライメントマークに基づいて両面に位置基準を形成し、両面構造の位置合わせ精度を高める。 - 特許庁

Thus, deviation in the detection position of alignment mark generated by an alignment optical system can be corrected, and the positioning accuracy can be improved.例文帳に追加

このため，アライメント光学系によって発生するアライメントマークの検出位置ずれが補正され，位置合わせ精度を向上させることが可能である。 - 特許庁

To provide a technology achieving highly accurate alignment of a semiconductor chip with a mounted substrate by increasing perceptibility of an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの視認性を向上することにより、半導体チップと実装基板との位置合わせを高精度に行なうことができる技術を提供する。 - 特許庁

To correspond without changing the setting of alignment even when space images having different forms of an alignment mark are received.例文帳に追加

位置合わせマークの形式が異なる紙面画像を受け取った場合でも、位置合わせの設定を変更することなく対応することができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for detecting a position, the method improving detection accuracy in performing alignment between a substrate and a photomask using an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークを用いて基板とフォトマスクとの位置合わせを行う時の検出精度を向上させることができる位置検出方法を提供する。 - 特許庁

The alignment microscope 4 is inserted into the inside of the work stage 3 so that the work-piece mark WAM may be detected by the alignment microscope 4 via the through tube 3b.例文帳に追加

アライメント顕微鏡４がワークステージ３の内部に挿入され、アライメント顕微鏡４により貫通孔３ｂを介してワークマークＷＡＭを検出する。 - 特許庁

Alignment of the driver IC 300 to the display unit 200 can be accurately carried out on the basis of the second alignment mark.例文帳に追加

そして、この第２アライメントマークに基づいてドライバＩＣ３００及びディスプレイユニット２００の位置合わせを高精度に実行することができるようになっている。 - 特許庁

To provide a new semiconductor device in which an aluminium interconnect line on a semiconductor substrate can be utilized sufficiently as an alignment mark, and to provide its alignment method.例文帳に追加

半導体基板上のアルミニウム配線をアライメントマークとして十分に活用することができる新規な半導体装置及びそのアライメント方法の提供。 - 特許庁

An actuator 4 for the alignment arranges an alignment mark 5a on the convex edge line of the substrate 5 held on the substrate holder 1.例文帳に追加

位置合わせ用アクチュエーター４によって基板ホルダー１上に保持されたときの基板５の凸形状の稜線上にアライメントマーク５ａを配置する。 - 特許庁

To make most accurate alignment operation by correcting the differences of alignment mark light path length arising when the observation light source wavelength is changed.例文帳に追加

観察光源の波長を変えた際の波長の違いによって生ずるアライメント指標の光路長のずれを補正し、正確なアライメント操作を行う。 - 特許庁

Thereafter, an alignment mark M1a is formed by performing flattening treatment for a substrate surface with an alignment pattern covered with the film material 3a.例文帳に追加

その後、上記膜材３ａによりアライメントパターンが覆われた状態で基板表面に平坦化処理を施すことにより、アライメントマークＭ１ａを形成する。 - 特許庁

Thus, only the post electrodes are formed in the semiconductor device formation region 21, and only the alignment post electrodes are formed in the alignment mark formation region 22.例文帳に追加

これにより、半導体素子形成領域２１にポスト電極のみが形成され、アライメントマーク形成領域２２にアライメント用ポスト電極のみが形成される。 - 特許庁

To provide an alignment method in a substrate exposure device for aligning without using an alignment mark, and a manufacturing method for a mask using this method.例文帳に追加

アライメントマークを用いずに位置合わせを行なう基板露光装置における位置合わせ方法及びこの方法を用いたマスクの製作方法を提供する。 - 特許庁

An alignment mark 11 for mounting an IC is formed on the resist 2, a leading wiring 12 for the alignment mark 11 is provided in parallel with the leads 6, one end of the leading wiring 12 is connected to the alignment mark 11, and the other end is extended near to the outer connection terminals 5.例文帳に追加

レジスト２にはＩＣ搭載用アライメントマーク１１を形成し、リード６に並べてＩＣ搭載アライメントマーク用引き出し配線１２を設け、このＩＣ搭載アライメントマーク用引き出し配線１２の一方端をＩＣ搭載用アライメントマーク１１に接続し、他方端を外部接続用端子５の付近に延在している。 - 特許庁

To form an alignment mark finely on a backside irradiation type CMOS image sensor.例文帳に追加

本発明は、裏面照射型のＣＭＯＳイメージセンサにおいて、アライメントマークを微細に形成できるようにする。 - 特許庁

To specify a region usable as an alignment mark as a pattern region from the design data of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの設計データから、アライメントマークとして使用可能な領域をパターン領域として特定する。 - 特許庁