「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

The contrast of the alignment mark is the property of a fluorescence, light emission, light absorption, or light reflection in a specific or predetermined wavelength region.例文帳に追加

この日は、特定の波長または所与の波長帯域において蛍光性、発光性、吸収性、または反射性とすることができる。 - 特許庁

The signal from the photoelectric conversion element where the accumulation time is set appropriately in this manner is used for detecting the position of an alignment mark AM.例文帳に追加

こうして蓄積時閑雅適切に設定された光電変換素子からの信号を用いて、アライメントマークＡＭの位置を検出する。 - 特許庁

To provide a manufacturing technology for a liquid crystal device wherein detection of an alignment mark is not disturbed by the liquid crystal.例文帳に追加

液晶装置の製造方法において、アライメントマークの検出が液晶によって妨害されることのない製造技術を提供する。 - 特許庁

PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM, METHOD OF DETERMINING POSITION OF ALIGNMENT MARK OF SUBSTRATE, METHOD OF MANUFACTURING APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

リソグラフィ投影装置、基板の整合マークの位置を決定するための方法、デバイス製造方法およびそれにより製造されるデバイス - 特許庁

Thus, the alignment mark can be observed while it is around the center of the visual field of the optical microscope as shown in 12.例文帳に追加

すると、当該アライメントマークは、１２で示されるように、光学顕微鏡の視野中心近傍に位置して観測されるようになる。 - 特許庁

An examiner aligns an eye to be examined with an eye-to-be examined examination section while watching an index image and an alignment mark projected on a monitor.例文帳に追加

検者は、モニタに映し出された指標像とアライメントマークとを見ながら、被検眼と被検眼検査部との位置合わせを行う。 - 特許庁

In the element 12, an alignment mark 24a is arranged for aligning the element 12 with the plate 13.例文帳に追加

固体撮像素子１２には、固体撮像素子１２とフレア防止板１３との位置合わせをするためのアライメントマーク２４ａが配置される。 - 特許庁

In an alignment mark 36 of the switching liquid crystal panel, a cross section in the normal direction of the switching liquid crystal panel is formed trapezoidal.例文帳に追加

そして、スイッチング液晶パネルのアライメントマーク３６は、スイッチング液晶パネルの法線方向の断面が台形に形成されている。 - 特許庁

To realize highly accurate positioning of a movable table for moving a semiconductor wafer by utilizing an alignment mark formed on a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェハに形成されたアライメントマークを利用して、半導体ウェハを移動させるための移動テーブルを高精度に位置決めすること。 - 特許庁

To provide a reticle set for forming an alignment mark etc. by using a reticle even when the reticle is small in proper exposure quantity.例文帳に追加

適正露光量の低いレチクルであっても、当該レチクルを用いてアライメントマーク等を形成することが可能なレチクルセットを提供する。 - 特許庁

A silicon oxide film 5, a silicon oxide film 6, and a cover film 8 are formed covering the fuse 4b and alignment mark 4a.例文帳に追加

そのヒューズ４ｂとアライメントマーク４ａを覆うように、シリコン酸窒化膜５、シリコン酸化膜６およびカバー膜８が形成されている。 - 特許庁

The pad nitride film pattern is used as a mask for etching the semiconductor substrate to a specified depth, thereby forming a trench for an alignment mark.例文帳に追加

このパッド窒化膜パターンをマスクとして半導体基板を所定の深さでエッチングすることにより整列マーク用トレンチが形成される。 - 特許庁

To provide a crystallization apparatus for simultaneously performing semiconductor film crystallization and alignment mark formation around the periphery of the crystallized region.例文帳に追加

半導体膜の結晶化と結晶化領域の周辺へのアライメントマークの形成とを同時に行うことのできる結晶化装置。 - 特許庁

To fabricate an SOI structure inexpensively on a semiconductor substrate while suppressing contamination due to a semiconductor layer employed as an alignment mark.例文帳に追加

ライメントマークとして用いられる半導体層による汚染を抑制しつつ、半導体基板上にＳＯＩ構造を安価に形成する。 - 特許庁

Then, an n-type first nitride gallium layer 6 is so crystal-grown as to cover the surface of the nitride gallium substrate 2 and the alignment mark 4.例文帳に追加

次に、窒化ガリウム基板２の表面とアライメントマーク４を覆うようにｎ型の第１の窒化ガリウム層６を結晶成長させる。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD OF DETECTING MARK, DEVICE AND METHOD OF ALIGNMENT, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL PANEL, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRO-OPTICAL DEVICE例文帳に追加

マーク検出装置及び方法、位置決め装置及び方法、電気光学パネルの製造方法、並びに電気光学装置の製造方法 - 特許庁

COMPUTER PROGRAM FOR DETERMINING CORRECTED POSITION OF MEASURED ALIGNMENT MARK, DEVICE MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加

測定された位置合わせマークの修正位置を決定するためのコンピュータプログラムと、デバイス製造方法と、該製造方法により製造されるデバイス - 特許庁

Exposure light irradiating a position of the alignment mark 2a on the mask 2 is intercepted by rear surfaces of mirrors 51c of respective image acquisition units 51.例文帳に追加

マスク２のアライメントマーク２ａの位置へ照射される露光光を、各画像取得ユニット５１のミラー５１ｃの裏面で遮断する。 - 特許庁

To reduce a device size without limitation of registration even if an alignment mark is covered with an opaque metallic film.例文帳に追加

目合わせ用マークが不透明性の金属膜で覆われている場合でも、目合わせに制約を受けることなくデバイスサイズの縮小化を図る。 - 特許庁

Thereby, the alignment mark 15 can be accurately and easily formed and the seal adhesion defect caused by substrate sticking deviation is not generated.例文帳に追加

これにより、アライメントマーク１５を精度良く形成することが容易にでき、基板貼り合わせずれ起因のシール密着不良が生じない。 - 特許庁

Therefore, the sum of the detection positions is constant, and the change amount of the sum of the detection positions is equal to the position detection error caused by alignment change of the scattering light from the alignment mark.例文帳に追加

従って、検出位置の和は一定になるはずであり、検出位置の和の変化量はアライメントマークからの散乱光の配向変化に起因する位置検出誤差に相当するものといえる。 - 特許庁

To prevent increase in manufacturing cost and deterioration of productivity by forming a step-difference of an alignment mark which is necessary for preventing failure of alignment, without increasing the number of processes, in manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体製造の製造において、アライメント不良を防止するのに必要なアライメントマークの段差を、工程数の増加を伴うことなく形成し、製造コストの増大、生産性の低下を防止する。 - 特許庁

A mask alignment mark of a reflector mask is formed on the opposite side from a circuit pattern-formed side of the mask, and an alignment detection system is installed on the opposite side of the illumination optical system and the projection optical system with respect to the mask.例文帳に追加

反射型マスクのマスクアライメントマークを回路パターン面の反対面側に形成し、アライメント検出系をマスクに対して照明光学系、投影光学系の反対側に設置する。 - 特許庁

A reduction projection exposure system is equipped with a wafer stage 8 on which a wafer 11 with an alignment mark on its surface is placed and an alignment measuring device 10 which measures the position of the wafer 11.例文帳に追加

縮小投影露光装置には、表面にアライメントマーク２７が形成されたウェハ１１がウェハステージ８上に載置され、ウェハ８の位置を計測するアライメント計測装置１０が設けられている。 - 特許庁

To provide a method for efficiently manufacturing a substrate by retrieving position information on a position of a processing area on the substrate with respect to an alignment mark and separating an alignment and an actual processing.例文帳に追加

基板の加工領域の位置に関する位置情報をアライメントマークに関連させて取り出し、アライメントと実際の加工とを切り離して基板を効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

The tray includes three or more pin holes for allowing movement of the chuck pin in the XYZθ directions, an alignment mark for positioning the wafer, and an alignment unit for positioning the tray itself.例文帳に追加

前記トレイは、前記チャックピンのＸＹＺθ方向への移動を許容する３以上のピン穴と、前記ウエハの位置決め用のアライメントマークと、前記トレイ自体を位置合わせするアライメント部とを備えた。 - 特許庁

The alignment mark being used for optical alignment in a charged particle beam aligner is formed of a level-difference pattern divided into a plurality of level-difference patterns.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、 前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマークとした。 - 特許庁

A first printer (P1) forms alignment marks (Rm) on a web (W) at a constant interval including the head of a page and informs a second printer of alignment mark interval information (P2).例文帳に追加

第１印刷装置（Ｐ１）は、ウェブ（Ｗ）のページ先頭端を含む等間隔の位置に位置合わせマーク（Ｒｍ）を形成し、この位置合わせマーク間隔情報を第２印刷装置（Ｐ２）に報告する。 - 特許庁

To perform alignment of a shadow mask and a transparent substrate by irradiating light of an appropriate wavelength corresponding to the thickness of the transparent electrode without providing a dedicated process to form an alignment mark on the transparent substrate.例文帳に追加

透明基板にアライメントマークを形成する専用工程を設けず、透明電極の厚さに対応した適切な波長の光を照射してシャドーマスクと透明基板とのアライメントを行う。 - 特許庁

The semiconductor element is equipped with element connection pads that are connected to interconnect lines provided in itself and provided on its surface as regularly arranged and exposed and an alignment mark provided on its surface for alignment.例文帳に追加

半導体素子は、素子内配線に接続され、素子表面に規則的な配置で露出して設けられた素子接続パッドと、表面に設けられた位置合わせ用の素子アライメントマークとを備える。 - 特許庁

To provide a method of efficiently manufacturing a substrate in which position information on a position of a process area on the substrate is retrieved with respect to an alignment mark to separate alignment and actual processing.例文帳に追加

基板の加工領域の位置に関する位置情報をアライメントマークに関連させて取り出し、アライメントと実際の加工とを切り離して基板を効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

The alignment mark can be used for both coarse and fine alignments of the substrate, and since no separate marks are needed for both stages, only a limited space is required on the substrate for the alignment purpose.例文帳に追加

整列マークは、基板の粗および微細整列の両方に使うことができ、両段階に別々のマークが必要ないので、整列目的で基板上に必要なスペースが少ししか要らない。 - 特許庁

To correct the position of an alignment unit using a correcting member for each kind of work with a different position of an alignment mark and then to expose a single long strip of a flexible recording medium, containing a plurality of kinds of works with different alignment mark positions, even when the long flexible recording medium cannot be detached from a carrying passage.例文帳に追加

アライメントマーク位置の異なる複数品種を含む一条で長尺の可撓性記録媒体を、搬送経路上から長尺の可撓性記録媒体を取り外すことができない場合でも、アライメントマークが設けられた位置が異なる品種毎に校正部材を利用してアライメント部の位置校正をしてから露光処理可能とする。 - 特許庁

The projection aligner has an alignment light radiating means for radiating an alignment light on a projection lens, from the back side of an exposure light irradiating means to a mounting means for irradiating a first reference mark provided on the mounting means and a second reference mark provided on a pattern substrate with the alignment light.例文帳に追加

アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 - 特許庁

A drawing file is created to assign a preliminarily formed basic recording pattern and representing a drawing pattern to be drawn on a recording medium, while an alignment file is created to designate the position of an alignment mark in the drawing pattern and representing the position of the alignment mark on the drawing pattern.例文帳に追加

予め形成された基本記録パターンを割り付けて、被記録媒体に描画する描画パターンを表記する描画ファイルを作成すると共に、前記描画パターンにおけるアライメントマークの位置を指定し、前記描画パターン上におけるこのアライメントマークの位置を表記してなるアライメントファイルを作成することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

To keep overlapping accuracy around the outer periphery of a wafer since unbalance in deposition on a mark sidewall occurs when forming a wire by means of a physical vapor phase deposition method in an alignment mark having an overhang form.例文帳に追加

オーバーハング形状を有するアライメントマークでは、物理気相堆積法を用いた配線形成の際に、マーク側壁への堆積に偏りを生じウエハ外周部での重ね合わせ精度が維持できる。 - 特許庁

A hole-type mark being used for alignment of a mask pattern is provided on a solid pattern formed on a semiconductor substrate and the solid pattern is formed to cover a region including the opening of the mark after it is used.例文帳に追加

マスクパターンの位置合わせに使用するホールタイプのマークを半導体基板に形成したベタパターン上に設け、該マークの使用後にはマークの開口部を含む領域を被覆するようにベタパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a position measuring method and a device by which the accurate position measurement of a mark for position measurement such as an alignment mark, etc., is possible even in the case that foreign matter such as dust or the like is caught between a wafer and a wafer chuck.例文帳に追加

ウエハとウエハチャックの間にごみ等の異物を挟み込んだ場合でも、アライメントマーク等の位置計測用マークの正確な位置計測が可能な位置計測方法および装置を提供する。 - 特許庁

Since the alignment mark is formed within a dicing line region 3, the LED array element 11 can be formed efficiently, and the dicing mark can be removed by a dicing process which is performed along the dicing line 12.例文帳に追加

アライメントマークはダイシングライン領域３内に形成されるので、ＬＥＤアレイ素子１１を効率よく形成することができ、ダイシングライン１２に沿うダイシング工程で除去することができる。 - 特許庁

When the position information of the mark formed on a wafer W is measured by using a wafer alignment sensor 16 provided at the side of a projection optical system PL, one mark is photographed a plurality of times.例文帳に追加

投影光学系ＰＬの側方に設けられたウェハ・アライメントセンサ１６を用いてウェハＷ上に形成されたマークの位置情報を計測する際に、１つのマークを複数回に亘り撮像する。 - 特許庁

The alignment mark 34 on the substrate side includes: a belt-like part 341 which extends in the direction perpendicular to the alignment direction of strip-like electrodes 32a; and a projected part 342 which projects in the direction in parallel with the alignment direction X from the belt-like part 341.例文帳に追加

基板側アライメントマーク３４は、短冊状電極３２ａの配列方向に対して垂直な方向に延びる帯状部３４１と、帯状部３４１から配列方向Ｘに対して平行な方向に突出する突出部３４２とを有する。 - 特許庁

A photomask 101 is provided with a main pattern part 101A for forming a main pattern on a resist film, and an alignment mark part 101B for forming the alignment accuracy measuring mark with a cross section not passing through the resist film when the resist film is developed on the resist film.例文帳に追加

フォトマスク１０１は、レジスト膜にメインパターンを形成するためのメインパターン部１０１Ａと、レジスト膜に、該レジスト膜が現像されたときに該レジスト膜を貫通しない断面形状を有するアライメント精度計測マークを形成するためのアライメントマーク部１０１Ｂとを備えている。 - 特許庁

By aligning a cathode-side alignment mark 10 with an anode-side alignment mark 20, a plurality of cathode electrodes 13R, 13G, 13B are properly positioned relative to the phosphor films 23R, 23G, 23B, respectively, thus mounting a cathode electrode substrate 14 on the emitter substrate 12.例文帳に追加

また、カソード側位置合わせマーク１０およびアノード側位置合わせマーク２０を合わせることにより、複数のカソード電極１３Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂのそれぞれが、蛍光体膜２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂに対して正規の位置関係になるように、位置合わせを行い、カソード電極基板１４をエミッタ基板１２に取り付ける。 - 特許庁

The first alignment mark 11 and the second alignment mark 12 viewed from a direction vertical to the facing surface of the interposer substrate 4a are mutually separated at an allowable distance as a laminated position when the LCD driver 3 and the interposer substrate 4a are laminated.例文帳に追加

第１アライメントマーク１１と第２アライメントマーク１２とを、インターポーザ基板４ａの上記対向面に対して垂直方向からみると、互いが、液晶ドライバ３とインターポーザ基板４ａを貼り合せる際の貼り合わせ位置として許容できる範囲の距離ほど離間されている。 - 特許庁

The wiring board includes an insulating layer and the alignment mark formed inside of a recess formed on a surface of the insulating layer, wherein one face of the alignment mark is roughened and is exposed at a position recessed from the surface of the insulating layer.例文帳に追加

本配線基板は、絶縁層と、前記絶縁層の表面に形成された凹部内に設けられた位置合わせマークと、を有し、前記位置合わせマークの一方の面は、粗化面とされており、前記一方の面は、前記絶縁層の前記表面に対して窪んだ位置に露出している。 - 特許庁