「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

Reflection of irradiation light in imaging for alignment is remarkably suppressed by the periodic structure, and luminance of the mark body region 15 is lowered.例文帳に追加

その周期構造により、位置合わせのための撮像時の照射光の反射が大幅に抑制され、マーク本体領域１５の輝度が低くなる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an alignment mark for realizing overlay excellent in accuracy in a photoengraving process or the like, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

写真製版工程等における精度の良好な重ね合わせを実現するアライメントマークを備えた半導体装置及びその製造方法を得ること。 - 特許庁

A transparent layer such as flattering layer is not formed, and detection error of the base alignment mark is reduced in forming a microlens in order to further improve the image quality.例文帳に追加

また、平坦化層等の透明層は形成せず、マイクロレンズ形成時に下地アライメントマーク検出の誤差を低減して、更なる画質の向上を図る。 - 特許庁

To minimize a search area when obtaining a coordinate of an alignment mark from an image range of an imaging signal obtained by imaging means.例文帳に追加

撮像手段によって得られた撮像信号の画像範囲から位置合わせマークの座標を求めるときのサーチエリアを最小限に設定できるようにすること。 - 特許庁

Then, using the step part as an alignment mark, a photo resist pattern for forming an active region on the semiconductor substrate is formed.例文帳に追加

その後、前記段差部をアラインメントマークとして用いて前記半導体基板に活性領域を形成するためのフォトレジストパターンを形成して行われる。 - 特許庁

To provide a joining method capable of assuring positioning accuracy of components and joining quality even if an alignment mark of the component cannot be detected after pressurization.例文帳に追加

加圧後に部品のアライメントマークが検出できない場合であっても、部品の位置合わせ精度及び接合品質を確保できる接合方法を提供する。 - 特許庁

A relay substrate including a plurality of second terminals formed at the pitch to output the control signals and a second alignment mark is prepared.例文帳に追加

前記制御信号を出力する端子であって前記ピッチで形成された複数の第２端子と、第２アライメントマークとを備える中継基板を用意する。 - 特許庁

A pattern forming method forms a pattern 80 by placing a liquid material containing a pattern forming material between partition walls B1 on a substrate P using an alignment mark AM.例文帳に追加

アライメントマークＡＭを用いて基板Ｐ上の隔壁Ｂ１間にパターン形成材料を含む液体材料を配置してパターン８０を形成する。 - 特許庁

To reduce a cost to make a donor by simply and conveniently forming an alignment mark against the donor substrate and a transcribed substrate without using a means such as photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィー等の手段を使うことなく、簡便にドナー基板や被転写基板に対してアライメントマークを形成することにより、ドナー作成コストを低減する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor optical element, first, an alignment mark 50 is formed on a laminate L containing an active layer 44 composed of a semiconductor.例文帳に追加

この半導体光素子の製造方法では、まず、半導体から構成される活性層４４を含む積層体Ｌ上にアライメントマーク５０を形成する。 - 特許庁

At a position apart from a mesa part where an imprinting pattern is formed, a minute mesa, having the same height as an imprinting pattern part, is provided for forming an alignment mark on a template side.例文帳に追加

押印パターンの形成されたメサ部から離れた位置に、テンプレート側のアライメントマーク形成用で押印パターン部と同じ高さの微小メサを設ける。 - 特許庁

Positioning of both of the substrates 1, 2 and a frame body 3, arranged between the substrates, is carried out by using an alignment mark 13, and a temporary panel assembly PM is formed.例文帳に追加

両基板１、２とその間に配置された枠体３とをアライメントマーク１３を利用して位置合わせし、仮パネル組立体ＰＭを形成する。 - 特許庁

In addition, each alignment mark arranged in units of internal electrode pattern groups is composed of two kinds of marks arranged to a long side of the ceramic green sheet.例文帳に追加

また、内部電極パターン群ごとに形成された各アライメントマークを、セラミックグリーンシートの長手方向に並んだ２種類の異なるマークから構成する。 - 特許庁

In a step of forming an opening for an electrode pad 3, a TiN film 2c on an alignment mark 5 is removed while the TiN film 2c is left on a fuse 4.例文帳に追加

電極パッド３の開口工程において、ヒューズ４上にＴｉＮ膜２ｃを残したまま、アライメントマーク５上のＴｉＮ膜２ｃを除去する。 - 特許庁

In a silicon substrate 11, a first recess 16 for element isolation, a second recess 13 for an alignment mark part, and a third recess 14 for an anti fuse part are formed simultaneously.例文帳に追加

シリコン基板１１に素子分離用の第１の凹部１６、合わせマーク部用の第２の凹部１３、アンチフューズ部用の第３の凹部１４が同時に形成される。 - 特許庁

To provide an overlay measurement apparatus capable of measuring an overlay deviation amount even when an overlay alignment mark exceeds the visual field of an objective lens.例文帳に追加

重ね合わせマークが対物レンズの視野を越えてしまう場合においても重ね合わせずれ量を測定できる重ね合わせ測定装置を提供する。 - 特許庁

The setting unit 116 sends information to the converting unit 110 so as to control the separation distance between the illumination device 102 and the alignment mark 50 to be the optimum separation distance.例文帳に追加

設定部１１６は、照明装置１０２とアライメントマーク５０との離間幅が最適離間幅となるように変更部１１０に情報を与える。 - 特許庁

The first alignment mark 81 is formed of the same material as a material of the first transparent conductor 40 together with the first transparent conductor 40.例文帳に追加

第１アライメントマーク８１は、第１透明導電体４０の材料と同一の材料を用いて第１透明導電体４０とともに形成される。 - 特許庁

Then, it finds an overlapping error in the first and second sample shot groups and calculates an offset for an alignment mark location's measurement value in units of shots.例文帳に追加

第１及び第２のサンプルショット群における重ね合わせ誤差が検出され、それらショット毎に、アライメントマークの位置の計測値に対するオフセットが算出される。 - 特許庁

Namely, occurrence of a fitting error can be suppressed since they are fixed based upon the same alignment mark member M1 although the observation directions are different.例文帳に追加

すなわち、観察方向が異なるものの、それぞれの固定の基準となるアライメントマーク部材Ｍ１は同一であるため、取付誤差を抑制することができる。 - 特許庁

A plurality of alignment mark detectors are attached to the frame and are moveable with respect to the frame using respective linear drive mechanisms.例文帳に追加

このフレームに取り付けられた複数の位置合わせマーク検出器は、それぞれの直線駆動機構を使用してこのフレームに関して移動可能である。 - 特許庁

To eliminate a space and a process for special use for forming an alignment mark, to increase the space usage efficiency of an electro-optical panel, and to simplify manufacturing processes of the electro-optical panel.例文帳に追加

アライメントマークを形成する専用のスペース及び工程を無くし、電気光学パネルのスペース利用効率を上げるとともに製造工程を単純化する。 - 特許庁

Moreover, the auxiliary member 10 includes an alignment mark 10f for displaying a position of the insertion hole 10a so as to be easily attached to the release lever 9.例文帳に追加

また、補助部材１０には解除レバー９に容易に取り付けできるように差込穴１０ａの位置を表示する位置合わせマーク１０ｆを設ける。 - 特許庁

The method includes forming on a wafer at least one surface-roughened alignment mark having a root-mean-square (RMS) surface roughness σ_s.例文帳に追加

この方法では、二乗平均平方根（ＲＭＳ）表面粗さσ_ｓを有する少なくとも一つの粗面化アライメントマークがウエハ上に形成される。 - 特許庁

A wafer mark 48X to be detected on a wafer is detected by the alignment sensor, and an image pick-up signal is processed and waveform data I(x) are obtained.例文帳に追加

ウエハ上の検出対象のウエハマーク４８Ｘをアライメントセンサによって検出し、その撮像信号を処理して波形データＩ（ｘ）を得る。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device having high accuracy of alignment mark positions for preventing misalignment of assembly between substrates constructing a liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネルを構成する基板同士の組み付けズレを防止するためのアライメントマークの位置精度が高い液晶装置の提供を目的としている。 - 特許庁

A lens on the wafer is measured by the probe 1, thereby highly accurately determining a lens center while defining a position of the alignment mark 29 on the wafer as a criterion.例文帳に追加

プローブ９でウエーハ上のレンズを測定すれば、ウエーハ上のアライメントマーク２９位置を基準で高精度にレンズ中心を求めることができる。 - 特許庁

Further, when the semiconductor is displaced or rotated with respect to the X-Y directions, an alignment mark of the surface of the semiconductor chip is off a prescribed position.例文帳に追加

また、半導体チップにＸＹ方向の位置ずれ又は回転がある場合、半導体チップの表面のアライメントマークは所定の位置から外れる。 - 特許庁

The image processing unit 112 acquires quantitative data relating to the contrast of an alignment mark 50 and its surrounding part 104 based on imaging information from the camera 30.例文帳に追加

画像処理部１１２は、カメラ３０からの撮像情報に基づいて、アライメントマーク５０とその周辺部１０４のコントラストに関する定量データを取得する。 - 特許庁

The alignment mark is formed by irradiating a laser beam 11 to the first position with the power density and the irradiation time according to the detected intensity of the first position.例文帳に追加

検出された第１の位置の輝度に応じたパワー密度及び照射時間で、第１の位置にレーザビームを照射してアライメントマークを形成する。 - 特許庁

In units of internal electrode patterns 22 arranged in a direction orthogonal to a long side of ceramic green sheet 1, a position verification alignment mark 20 is provided.例文帳に追加

セラミックグリーンシート１の長手方向と直交する方向に並んだ内部電極パターン群２２ごとに、位置確認用のアライメントマーク２０を形成する。 - 特許庁

An alignment mark 17 is formed by widening a transfer electrode 16 on the side outer than an image display area of the array substrate 2 and removing a central part to a cruciform shape.例文帳に追加

アレイ基板２の画像表示エリア７より外側のトランスファ電極16を拡幅して中央部を十字状に除去してアライメントマーク17とする。 - 特許庁

A mark showing the position corresponding to the optimum alignment state of the virtual image reflected from the subject eye cornea is displayed using the left/right common LED.例文帳に追加

あるいは、左右共通のＬＥＤを用い、この被検眼角膜からの反射の虚像の最適アライメント状態に対応する位置を示すマークを表示する。 - 特許庁

Positions of centers C1 to C4 of the respective four mark figures T1 to T4 constituting the alignment pattern AP are identified based on the obtained accumulated waveforms.例文帳に追加

得られた積算波形に基づいて、アライメントパターンＡＰを構成する４つのマーク図形Ｔ１〜Ｔ４のそれぞれの中心Ｃ１〜Ｃ４の位置を特定する。 - 特許庁

The layer first performed with the pattern formation is a metal electrode pattern layer having an alignment mark to the layer performed with the second and succeeding pattern formation.例文帳に追加

また、前記最初にパターン形成される層が、２番目以降にパターン形成される層に対する位置合わせマークを有する金属電極パターン層である。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip having an alignment mark the most suitable for the microfabrication and high integration of the semiconductor chip, and also to provide its positioning method.例文帳に追加

半導体チップの微細化・高集積化に好適なアライメントマークを有する半導体チップ及びその位置合わせ方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When an LED array element 11 is formed on an AlGaInP wafer 10, a protruding part 2 is formed by mesa etching performed on dicing lines 12 as an alignment mark.例文帳に追加

ＡｌＧａＩｎＰウエハ１０上にＬＥＤアレイ素子１１を形成する際に、ダイシングライン１２上にアライメントマークとしての凸部２をメサエッチングで形成する。 - 特許庁

If the image signal does not corresponding to the alignment mark AM1, the interval other than the previous one is extracted, and the same acton is repeated so on.例文帳に追加

画像信号がアライメントマークＡＭ１に該当しないと判断された場合には、前回の区間とは異なる区間を抽出し、同様の操作を繰り返す。 - 特許庁

In this manufacturing method of the thin-film magnetic head, an alignment mark 82 is electrically connected to a multi-layer film 42a which later serves a TMR film 42.例文帳に追加

本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法では、アライメントマーク８２が後にＴＭＲ膜４２となる多層膜４２ａと電気的に接続されている。 - 特許庁

The photosensitive emulsion of the alignment mark 2 releases energy absorbed by the irradiation with the exciting light as light, resulting in glittering the photosensitive emulsion.例文帳に追加

位置合せマーク２の感光乳剤は励起光が照射されると吸収したエネルギーを光として放出して当該感光乳剤を発光させる。 - 特許庁

A detection part 14 detects a position in the index position of the alignment mark 2a in the direction crossing the moving direction of the exposure object member 2.例文帳に追加

検出部１４は、露光対象部材２の移動方向に交差する方向におけるアライメントマーク２ａの指標位置における位置を検出する。 - 特許庁

The alignment mark has a plating electricity feeding film non-formation region 16 which controls the film thickness of a plating layer to become a mark body 15 by adjusting resistance in plating electricity feeding by partially providing a region which is provided at a periphery of the mark body 15 and where the plating feeding film 13 is not formed.例文帳に追加

アライメントマークは、マーク本体１５の周囲に設けられ前記メッキ給電用膜１３を形成しない領域を一部に設けることでメッキ給電時の抵抗を調整して前記マーク本体１５となるメッキ層の膜厚を制御するメッキ給電用膜非形成領域１６とを備えた。 - 特許庁

The positional alignment of an electronic component 1 and a substrate 2 is conducted by sandwiching the first target mark to grasp the amount of displacement of both cameras, recognizing the first target mark and the second target mark with the substrate recognition camera and the head camera to grasp the amount of displacement, and further considering these amounts of displacement.例文帳に追加

第１ターゲットマークを挟んで両カメラのずれ量を把握するとともに，第１ターゲットマークと第２ターゲットマークを基板認識カメラとヘッドカメラで認識し両者のずれ量を把握し，これらのずれ量を加味して電子部品１と基板２の位置合わせを行う。 - 特許庁

A control means 17 controls transfer speed of the web so that generation timing of a web feed control signal (CPF-N signal) generated in a preset cycle and generation timing of a mark detection signal generated by the mark detecting means 16 through the detection of the alignment mark Rm are constantly in phase.例文帳に追加

制御手段(17)は、予め設定された周期で発生するウェブ送り制御信号(CPF-N信号)の発生タイミングと、位置合せマーク(Rm)を検出することによりマーク検出手段(16)が発するマーク検出信号の発生タイミングとの位相が一定となるようにウェブ搬送速度を制御する。 - 特許庁

An latent image detection means generates an optical measuring signal where the amplitude of an optical detection signal is a function of the contrast of an alignment mark latent image by making the spatial frequency of the mask mark substantially equivalent to the effective resolving power of a projection lens system and significantly larger than the resolving power of an alignment means.例文帳に追加

マスクマークの空間周波数を投影レンズ系の有効解像力と略同等の大きさとするとともにアライメント手段の解像力よりもかなり大きくすることにより、光検出信号の振幅がアライメントマーク潜像のコントラストの関数とされる光測定信号を生成する潜像検出手段を設ける。 - 特許庁