「alignment-mark」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

A reference glass 20 with a reference mark 25 formed for adjusting a plane position is inserted between a first alignment camera 1 for measuring a head 10 and a second alignment camera 2 for measuring a member 18 to be recorded.例文帳に追加

ヘッド１０を測定するための第１アライメントカメラ１と、被記録部材１８を測定するための第２アライメントカメラ２との間に、平面位置調整のため基準マーク２５をつけた基準ガラス２０を挿入する。 - 特許庁

Since the reflection intensity of a laser beam for trimming can be kept at a high level on the alignment mark 18, alignment can be carried out accurately without adjusting the thickness of the antireflection film 20.例文帳に追加

これによって、アライメントマーク１８に照射されたトリミング用レーザー光の反射強度を高く維持することができるため、反射防止膜２０の膜厚調整を行うことなく正確なアライメントを達成することができる。 - 特許庁

To form a mask alignment mark part comprising a deep trench formed on the same substrate as that of a semiconductor device by forming a polycrystal silicon embedded in a deep trench in an optimal depth, in order to increase a signal strength at the time of the alignment and to improve an accuracy of the mask alignment.例文帳に追加

半導体装置と同じ基板に形成されたディープトレンチからなるマスクアライメントの合わせマーク部を、ディープトレンチ内に埋め込まれた多結晶シリコンを最適な深さに形成することにより、アライメント時の信号強度をあげ、マスク位置あわせの精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a mold for imprint in which an alignment mark composed of the same material as a mold material can be identified optically without requiring a complicated process in production of the mold, and alignment can be carried out with high alignment accuracy, and to provide an imprint method.例文帳に追加

本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用モールド、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To obtain an alignment mark used for alignment of a mask pattern in a semiconductor device manufacturing process, in which high diffraction efficiency and alignment of high accuracy can be obtained, even if a conductive film is as thick as a gate electrode film whose thickness is determined by the process conditions of a MOS semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程におけるマスクパターンの位置合わせに使用するアライメントマークにおいて、ＭＯＳ半導体装置のプロセス条件より決定されるゲート電極膜と同一の導電膜の膜厚でも、高い回折効率を得、高精度のアライメントを可能にする。 - 特許庁

To provide an imprint method and an imprint device in which an alignment mark composed of the same material as a mold material can be identified optically without requiring a complex process in production of a mold, and alignment can be performed with high alignment accuracy.例文帳に追加

本発明は、モールドの製造に複雑な工程を要することなく、モールド材と同じ材料からなるアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント方法およびインプリント装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

The above-mentioned problem is solved by configuring an alignment mark formed on a reflective mask with slit structures having a fine line width and a space less than the resolution limit for a wavelength of alignment light of a laser drawing device and reducing intensity of a reflection signal in alignment light irradiation.例文帳に追加

反射型マスクに形成するアライメントマークを、レーザ描画装置のアライメント光の波長に対し、解像限界以下の微細な線幅および間隔を有するスリット状の構造体で構成して、アライメント光照射における反射信号の強度を小さくすることにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

A lithographic projection apparatus has an alignment sensor comprising an electron beam supply source 10 for supplying an electron beam 12 for impinging on an alignment mark 14 on a substrate W, and a back- scattered electron detector 16 for detecting electrons being back-scattered from the alignment marker 14.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置は、基板Ｗ上のアライメント・マーク１４に当たる電子ビーム１２を供給するための電子ビーム供給源１０、およびアライメント・マーク１４から後方散乱された電子を検出するための後方散乱電子検出器１６を備えるアライメント・センサを備える。 - 特許庁

Plate alignment sensors 18a and 18b are equipped with an index being reference, and obtain the positional information on a plate P from relative relation between the image of the index and a mark on the plate P by projecting the image of the index to the mark.例文帳に追加

プレートアライメントセンサ１８ａ，１８ｂは基準となる指標を備え、この指標の像をプレートＰ上のマークに投影して指標の像とマークとの相対関係からプレートＰの位置情報を求める。 - 特許庁

The optical module comprises the optical element having a metal mark formed for the alignment, and an Si substrate 5 having an etching mark 7 formed of the same process as that for the same mask as that of a V-groove 6 for mounting an optical fiber.例文帳に追加

光モジュールにおいて、アライメント用のメタルマークが形成された光素子と、光ファイバ搭載用Ｖ溝６と同じマスクを用いた同一プロセスで形成されるエッチングマーク７が設けられたＳｉ基板５とを備える。 - 特許庁

To provide a device and a method for aligning a mark, capable of accurately aligning the alignment mark of a micro-lens and a liquid crystal cell, and to provide a manufacturing method for a liquid crystal display device and a liquid crystal projector.例文帳に追加

マイクロレンズと液晶セルのアライメントマークの位置合せを正確に行える、マークの位置合せ方法およびその装置、それを用いた、液晶表示装置の製造方法ならびに液晶プロジェクタを提供すること。 - 特許庁

Positioning of a reticle R held to a reticle stage 2 is carried out by overlapping an alignment mark RM of the reticle R with a reticle reference mark SM of a reticle reference part 13 supported above a projection optical system 3.例文帳に追加

レチクルステージ２に保持されたレチクルＲの位置合わせは、レチクルＲのアライメントマークＲＭと、投影光学系３の上方に支持されたレチクル基準部１３のレチクル基準マークＳＭを重ね合わせることで行なわれる。 - 特許庁

Thereafter, the adjustment substrate AW is replaced with a substrate to be processed for performing the transfer of the pattern, and the alignment is performed so that the plate-side mark of the printing plate aligns with the substrate-side mark of the substrate to be processed.例文帳に追加

その後、調整用基板ＡＷをパターンの転写を行うべき処理対象基板に置き換え、印刷版の版側マークと処理対象基板の基板側マークとが一致するように位置合わせを行う。 - 特許庁

To form a mark structure, which is usable as an alignment mark in subsequent steps, on a semiconductor film in the same exposure step, in a step of obtaining a semiconductor of a crystal phase of large particle size from the semiconductor film.例文帳に追加

半導体膜から粒径の大きな結晶相の半導体を得る工程において、以降の工程で、アライメントマークとして利用可能なマーク構造を、同一の露光工程において半導体膜に形成する。 - 特許庁

To form a mark structure capable of being utilized as an alignment mark in subsequent processes on a semiconductor film during the same exposure process in a process for obtaining a semiconductor of a large particle size crystal phase from a semiconductor film.例文帳に追加

半導体膜から粒径の大きな結晶相の半導体を得る工程において、以降の工程で、アライメントマークとして利用可能なマーク構造を、同一の露光工程において半導体膜に形成する。 - 特許庁

To provide an alignment mark, having a pattern of a box-in-box for clearly evaluating the overlap of masks at positioning the mask, and to provide a method for manufacturing a semiconductor element using the mark.例文帳に追加

マスクの位置合わせを行う際に、マスクの重ね合わせを明確に評価できるボックスインボックスのパターンを有するアライメントマークを提供すると共に、そのマークを用いた半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then the position of the wafer W with respect to the direction of the optical axis of the alignment detecting system AS when detecting the wafer mark is decided and the wafer mark is detected at the position.例文帳に追加

そして、その基準位置を基準とする所定範囲内の中から、ウエハマークを検出するときのアライメント検出系ＡＳの光軸方向に関するウエハＷの位置が決定され、その位置でウエハマークが検出される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which completely prevents peel-off of a structure such as an alignment mark or a step monitor mark after dicing, and also prevents exposure of an interface of an interlayer insulating film after the dicing.例文帳に追加

ダイシング後のアライメントマークや工程モニターマーク等の構造物の剥がれを皆無にでき、さらにはダイシング後に層間絶縁膜の界面を露出させることがない半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a biosensor measuring instrument constituted so as to prevent the erroneous recognition of a discrimination label by enhancing the alignment accuracy of the discrimination mark of a biosensor with the optical element constituting a discrimination mark detection means without lowering workability.例文帳に追加

作業性を低下させることなくバイオセンサの識別マークと識別マーク検出手段を構成する光学素子とのアライメント精度を向上し、識別標識の誤認識を防止したバイオセンサ測定器を提供する。 - 特許庁

A reflection light scattering configuration is provided on the alignment mark, an emission light amount is reduced from a first surface part by scattering, and a significant difference on mark detection is provided with the emission light amount from a second surface part.例文帳に追加

位置決め用マークに反射光散乱構成を設け、該散乱により第１の表面部からの出射光量を減らし、第２の表面部からの出射光量との間にマーク検出上の有為差をもたせる。 - 特許庁

Based on the defective distribution, the main control system 20 selects a mark for instrumentation from marks formed on the wafer W, and location information of the selected mark for instrumentation is measured by using an alignment detection system AS.例文帳に追加

この欠陥分布に基づいて主制御系２０はウエハＷに形成されたマークから計測対象マークを選択し、選択した計測対象マークの位置情報をアライメント検出系ＡＳを用いて計測する。 - 特許庁

To provide a method for marking an alignment mark for easily obtaining an excellent mark form without contaminating the surface of a glass substrate or inducing decrease in strength of the glass substrate or cracks caused by marking.例文帳に追加

ガラス基板の表面を汚染せず、且つ刻印に起因するガラス基板の強度低下やクラック発生等を招来せず、しかも容易に良好なマーク形状を得ることが可能なアライメントマーク刻印手法を提供する。 - 特許庁

The alignment sensor comprises an image rotary interferometer having an alignment illumination source and receiving electromagnetic radiation from a symmetrical alignment marks illuminated by the illumination source, and a detector for receiving the electromagnetic radiation from the interferometer, thereby obtaining the position of a central location of the alignment mark.例文帳に追加

アライメント照明源を有し、前記アライメント照明源により照明された対称アライメントマークからの電磁放射を受信するイメージ回転形干渉計を有し、イメージ回転形干渉計からの電磁放射を受信する検出器を有し、それにより、対称アライメントマークのセンタロケーションの位置が求められるように構成されていることを特徴とするアライメントセンサ - 特許庁

When alignment measurement of composite shots S1 to S9 arrayed on a semiconductor wafer W is performed, the alignment measurement is carried out in units of composite shots first and if recognition of an alignment mark in one composite shot S ends in failure, the alignment measurement is performed again in every composite chip 10 constituting the one composite shot S with respect to the one composite shot S.例文帳に追加

半導体ウエハＷ上に配列された複合ショットＳ１〜Ｓ９のアライメント計測を実施する際、先ず複合ショット単位でアライメント計測を実施し、一の複合ショットＳにおいてアライメントマークの認識に失敗した場合には、当該一の複合ショットＳについて、それを構成する複合チップ１０毎に再度アライメント計測を実行する。 - 特許庁

To provide a position sensing unit capable of sensing a mark position with high precision by projecting an optimum light beam in both search and fine alignment processes.例文帳に追加

サーチ及びファインアライメント処理のそれぞれにおいて最適な照明光を照射し精度良いマーク位置検出ができる位置検出装置を提供する。 - 特許庁

An alignment mark formed of the red layer 5 is read with the infrared ray to align the blue layer 7, the green layer 9, and the black matrix 14 when they are patterned.例文帳に追加

赤色層５により形成されたアライメントマークを赤外線で読み取り、青色層７、緑色層９、ブラックマトリクス１４のパターニング時のアライメントを行う。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet for a semiconductor, which is free of a scratch and contamination, so that alignment mark recognition of a semiconductor device never ends in failure.例文帳に追加

接着シートに擦り傷や汚染が発生せず、半導体素子のアライメントマーク認識を損なうことのない半導体用接着シートを提供する。 - 特許庁

Further, scribe regions 10 in which there is no alignment mark 12 are formed in all regions crossing a scribe line 8 in the blank region 6.例文帳に追加

また、ブランク領域６におけるスクライブライン８と交差する全ての領域にはアライメントマーク１２が存在しないスクライブ領域１０が形成されている。 - 特許庁

The image of the alignment mark included in the color aberration- corrected continuous spectrum lights is detected by a TV camera 20, and the positioning of the wafer 5 with the mask is aligned.例文帳に追加

この色収差補正された連続スペクトル光に含まれるアライメントマークの像をＴＶカメラ２０で検出してウエハ５とマスクとの位置合わせを行う。 - 特許庁

The alignment mark forming unit 51 includes a pair of exposure units arranged on the front side and the backside of the substrate disposed on the table 11 coaxially respectively.例文帳に追加

アライメントマーク形成部５１は、テーブル１１上に載置された基板の表面側と裏面側に各々同軸上に配設された一対の露光部を備える。 - 特許庁

To provide a printing apparatus in which even in the case where an alignment mark is provided on any one side of a substrate placed on a stage, imaging can be performed with one camera.例文帳に追加

ステージに載置する基材のいずれの面にアライメントマークが設けられる場合であっても、１つのカメラで撮像可能な印刷装置を提供する。 - 特許庁

ALIGNMENT MARK, SEMICONDUCTOR CHIP INCLUDING THE SAME, SEMICONDUCTOR PACKAGE INCLUDING THE CHIP AND METHODS OF FABRICATING THE SAME例文帳に追加

アラインマーク、該アラインマークを具備する半導体チップ、該半導体チップを具備する半導体パッケージ並びに該半導体チップ及び該半導体パッケージの製造方法 - 特許庁

A driving element incorporating TFT is formed on the other substrate (108), thereon a reference mark and an alignment film are formed (109, 110) to complete a TFT(thin film transistor) substrate.例文帳に追加

他方の基板にはＴＦＴを含む駆動素子を形成し（108）、基準マークを形成し（109）、配向膜を形成して（110）、ＴＦＴ基板が完成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical waveguide that suppresses a decrease in propagation loss of the optical waveguide, improves visibility of an alignment mark, and has superior productivity.例文帳に追加

光導波路の伝播損失の低下が抑制され、かつアライメントマークの視認性が向上し、生産性に優れた光導波路の製法を提供する。 - 特許庁

On the alignment mark 45, the first gate electrode 38 is provided and a cover pattern 47 is also provided having the same structure as the first gate electrode 38.例文帳に追加

アライメントマーク４５上には、第１ゲート電極３８が設けられると同時に、第１ゲート電極３８と同じ構造のカバーパターン４７が設けられる。 - 特許庁

The sheet material feed guide device 3 essentially comprises a first suction drum 4, advance alignment marks 6, a side pull-type mark 7 and a transfer drum 8.例文帳に追加

シート材供給案内装置３は本質的に第１の吸引ドラム４と、前進整列マーク６と、側部引っ張り型マーク７と、転送ドラム８とを具備する。 - 特許庁

By detecting a partial alignment mark formed in the incomplete unit region that has been aligned, position information at the incomplete unit region is obtained.例文帳に追加

位置合わせの行われた不完全単位領域内に形成されている一部のアライメントマークを検出することにより、不完全単位領域の位置情報を得る。 - 特許庁

Gauge resistances 7, 8, contact holes 12, 13 for a gauge resistance, and wirings 10, 11 for a gauge resistance are formed by using the recessed part 18 for an alignment mark.例文帳に追加

アライメントマーク用凹部１８を用いてゲージ抵抗７，８、ゲージ抵抗用コンタクトホール１２，１３およびゲージ抵抗用配線１０，１１を形成する。 - 特許庁

To detect the position of an alignment mark formed on a wafer with high accuracy at the time of performing exposure by using a catadioptic projection optical system.例文帳に追加

反射屈折型の投影光学系を使用して露光を行う場合に、ウエハ上に形成されたアライメントマークの位置を高精度に検出する。 - 特許庁

With a TTL method that uses the projection optical system 14, a mark MK for alignment that is directly provided on the semiconductor substrate Waf is detected.例文帳に追加

かつ、投影光学系１４を介するＴＴＬ方式で、直接半導体基板Ｗａｆ上に設けられた位置合わせ用のマークＭＫを検出する。 - 特許庁

To provide a step-type proximity exposure method by which a measurement position of a gap and a position of an alignment mark can be disposed while avoiding overlapping on an exposure pattern.例文帳に追加

ギャップの測定位置及びアライメントマークの位置を露光パターンに重ならないように設けることができるステップ式近接露光方法を提供する。 - 特許庁

The second wiring pattern 22 is formed so that an orthographic projection 122 onto the first surface 11 may be prevented from both overlapping on and contacting the alignment mark 14.例文帳に追加

第２の配線パターン２２は、第１の面１１への正射影１２２が、アライメントマーク１４とオーバーラップ及び接触のいずれもしないように形成されてなる。 - 特許庁

To obtain an alignment method for an exposure apparatus and an exposure apparatus, wherein a work piece is not rejected from the production line even when a reference mark position on the work piece is misaligned and the process efficiency is hardly decreased.例文帳に追加

ワーク上の基準マーク位置がずれていてもラインアウトせず、処理効率の低下しにくい露光装置のアライメント方法および露光装置を得る。 - 特許庁

In the semiconductor device, an alignment mark 54 formed of a metal uppermost wiring layer is disposed along the dicing lines 52 at the corner 51A of the chip 51.例文帳に追加

最上層のメタル配線層で形成されるアライメントマーク５４を、チップ５１のコーナー部５１Ａのダイシングライン５２に沿って配置することを特徴としている。 - 特許庁

A light reflecting substrate film 2 is formed on the light pervious substrate 1 to be coated with a resist 3 and the alignment mark 4 is transferred to the resist 3.例文帳に追加

透光性基板上１に光反射性の下地膜２を形成し、該下地膜２上にレジスト３を塗布し、該レジスト３上にアライメントマーク４を転写する。 - 特許庁