「back spin」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The flattening processing is performed by using resist etch-back, the application of spin-on glass and chemical mechanical grinding, etc.例文帳に追加

平坦化処理は、レジストエッチバック、スピンオンガラスの塗布、化学機械研磨などを用いて行う。 - 特許庁

To suppress a decrease in back spin amount on a struck golf ball and the occurrence of a variation in back spin amount depending on the position of a striking point when rounded portions are formed on the edges of scorelines.例文帳に追加

スコアラインの縁に丸みを形成した場合に、打球のバックスピン量の低減を防止し、かつ、打点の位置によってバックスピン量にばらつきが生じることを低減すること。 - 特許庁

To provide an apparatus for the spin coating of a substrate, whereby even when the substrate is rectangle or curved, the unevenness of coating with a coating fluid is suppressed, and the coating fluid is prevented from spreading onto the back of the substrate and to provide a method for spin coating.例文帳に追加

矩形形状、曲面形状の基材であっても、吸引機構を適切に適用でき、塗布液の塗布ムラを抑制し、基材裏面への塗布液の廻り込みを防ぐことができるスピン塗布装置、及び塗布方法を提供すること - 特許庁

To suppress generation of a fine scratch and a defective part being generated at the top of an oxide plug due to chemical-mechanical polishing by depositing a spin-on glass layer on the chemically and mechanically polished oxide layer and etching back the spin-on glass layer and the oxide layer.例文帳に追加

浅いトレンチ絶縁構造を作る方法は、基板にトレンチを形成し、ついで酸化物マテリアルを前記トレンチ内と前記基板上にデポジットする。 - 特許庁

To provide a putter head reducing the top spin of a ball when hitting the ball compared with a general putter and in its turn facilitating the creation of back spin of the ball.例文帳に追加

通常のパターに比べボールを打った時にボールのトップスピンが減少し、ひいては、ボールにバックスピンがかかり易いパターヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a golf ball 1 which is higher in the rotating speed of a back spin than that of the conventional golf balls when the ball is hit under the same conditions.例文帳に追加

同一条件で打撃された際のバックスピンの回転速度が従来品よりも大きなゴルフボール１の提供。 - 特許庁

Then the substrate W is put back to the horizontal attitude, and the spin chuck 1 is rotated at a high speed to remove fine droplets on the peripheral end surfaces of the substrate W.例文帳に追加

その後、基板Ｗを水平姿勢に戻し、スピンチャック１を高速回転して、基板Ｗの周端面の微小液滴を振り切る。 - 特許庁

To provide a spin treating device prevented in the flying up of a treating liquid for cleaning the back surface of a substrate to a front surface.例文帳に追加

この発明は基板の裏面を洗浄する処理液が表面側に舞い上がるのを防止したスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

A second interlayer dielectric 9 is formed on the first interlayer dielectric 7 by spin coating and etching-back processing.例文帳に追加

回転塗布法及びエッチバック処理により第１層間絶縁膜７上に第２層間絶縁膜９が形成されている。 - 特許庁

To increase the carry of a hit ball by reducing the back spin amount of the ball.例文帳に追加

ボールのバックスピン量を低減させることにより打球の飛距離を増大させるウッド型ゴルフクラブヘッドを提供する。 - 特許庁

As for the golf ball, a back spin amount S_W#1 at the time of being hit with a driver is ≤2,900rpm, the back spin amount S_SW at the time of being hit with a sand wedge is ≥6,500rpm, and S_SW/S_W#1 is ≥2.35.例文帳に追加

１番ウッドで打撃したときのバックスピン量Ｓ_Ｗ＃１が２９００ｒｐｍ以下、サンドウェッジで打撃したときのバックスピン量Ｓ_ＳＷが６５００ｒｐｍ以上であって、かつＳ_ＳＷ／Ｓ_Ｗ＃１が２．３５以上であることを特徴とするゴルフボール。 - 特許庁

To provide a spin treatment apparatus in which the occurrence of stain on the back surface of a substrate caused by a treatment liquid stuck and remaining on the head in the drying of the back surface of substrate is prevented.例文帳に追加

この発明は、基板の下面を乾燥処理する際に、ヘッドに付着残留する処理液によって基板の下面にしみが生じるのを防止できるスピン処理装置を提供することにある。 - 特許庁

In addition, when a nonmagnetic back face layer (36) is inserted in an interface on the side which is not in contact with the nonmagnetic intermediate layer, a spin-dependent interface scattering at an interface of magnetized fixed layer/nonmagnetic back face layer or at an interface of magnetized free layer/nonmagnetic back face layer is available, and the output can be increased.例文帳に追加

また、非磁性中間層と接しない側の界面に、非磁性背面層（３６）を挿入すると、磁化固着層／非磁性背面層界面あるいは磁化自由層／非磁性背面層界面でのスピン依存界面散乱を利用することができ、出力が増大する。 - 特許庁

To certainly prevent a spin tendency with suitable back-and-forth power distribution to stably conduct steering start of a four-wheel drive vehicle in a state where a tire chain is equipped to a front wheel, and to certainly prevent the spin tendency with suitable back-and-forth power distribution when a vehicle has an under steering tendency.例文帳に追加

前輪にタイヤチェーンを装着した状況に於いて、４輪駆動車の転舵発進が適切な前後動力配分でスピン傾向になることを確実に防止し安定して行うことができ、また、車両がアンダーステア傾向の際も適切な後左右動力配分でスピン傾向になることを確実に防止する。 - 特許庁

In this invention, the back-and-forth movement of the electromagnetic slewing device is converted to the spin of endless belt, which enables a display of time at a large number of world cities in a wristwatch. 例文帳に追加

この発明は、永久磁石の往復移動を回転運動に変換して無端ベルトを駆動する電磁回転装置とその電磁回転装置を用いて世界時刻を多数表示できるようにした世界時刻表示腕時計に関する。 - 特許庁

To send a golf ball flying to an accurate position and to stop the golf ball there by giving a back spin amount greater than a conventional amount to the golf ball, by a golf club head.例文帳に追加

ゴルフクラブヘッドにおいて、従来に比べてより多くのバックスピン量をゴルフボールに与えることで、正確な位置にゴルフボールを飛ばして止める。 - 特許庁

To provide a method of analyzing a spin polarization in an optical column of a mapping electron microscope or in a beam outgoing port back part of an electron spectrometer, and to provide a suitable system in which the above method is performed.例文帳に追加

写像する電子顕微鏡の光学コラム内、または電子分光計のビーム出射口後部において、スピン偏極を分析するための方法と、その方法を実施するための適切なシステムを提供する。 - 特許庁

Afterwards, the vias are filled with low dielectric constant materials 60 serving as sacrificial layers in a spin-coating process followed by using a chemical mechanical polishing or etching back to remove the excess low dielectric constant material.例文帳に追加

その後、ビアはスピン塗布工程で犠牲膜として働く低誘電率材料６０で充填され、さらに化学機械的研磨またはエッチバックを用いて低誘電率材料の余分な部分が除去される。 - 特許庁

A back rinse nozzle 46 is arranged on a tangent (1) of a wafer W held by a spin chuck 31 and an ejecting direction 3 is directed to a rotating direction 2 of the wafer W.例文帳に追加

バックリンスノズル４６はスピンチャック３１によって保持されたウェハＷの接線 上に配置され、ウェハＷの回転方向 に吐出方向 が向けられている。 - 特許庁

A spin base 11 of a substrate holding part 1 is provided with a plurality of retaining pins 14 retaining the back of a substrate 100, and a plurality of rotation type holding pins 15 for regulating a horizontal position of the substrate 100.例文帳に追加

基板保持部１のスピンベース１１は、基板１００の裏面を支持する複数の支持ピン１４および基板１００の水平位置を規制する複数の回転式保持ピン１５を備える。 - 特許庁

A resist film 17 is formed on the interlayer insulating film 16 using a spin coating method, and the resist film 17 is etched back until the interlayer insulating film 16 is exposed.例文帳に追加

回転塗布法にて層間絶縁膜１６上にレジスト膜１７を形成し、層間絶縁膜１６が露出するまでレジスト膜１７をエッチバックする。 - 特許庁

To provide a push-down head designed to effectively apply a back-suction action so as to improve a spin-type nozzle in draining a liquid, and a discharge pump.例文帳に追加

スピン式のノズルの液切れを良くするためにバックサックション作用を効果的に適用する工夫を施した押下げヘッド及び吐出ポンプを提案する。 - 特許庁

By supplying hot water into a back fluid supply pipe 26 via a valve 40d, the hot water is supplied toward the back of the substrate W held by a spin chuck 21 from a plurality of fluid flow outlets in a fluid umbrella nozzle 27.例文帳に追加

裏面流体供給管２６内にバルブ４０ｄを介して温水を供給することにより、流体傘ノズル２７の複数の流体噴出口から当該温水をスピンチャック２１に保持された基板Ｗの裏面に向けて供給する。 - 特許庁

The game unit 8 is provided on the back part thereof with a cut part 70 through which is passed a signal line for controlling at least the plurality of spin drum display device units 6 while the main control board for controlling the games of the slot machine is arranged on the back part of the game unit 6.例文帳に追加

前記遊技ユニット８は、少なくとも前記複数個の回胴表示装置ユニット６を制御する信号線を通す切り欠き部７０が背部に設けられると共に、当該遊技ユニット６の背部には、スロットマシンの遊技制御を行なう主制御基板を配設してある。 - 特許庁

To provide a spin etching apparatus for a rectangular substrate, by which the throwing power of a liquid chemical for etching to the back surface of the rectangular substrate such as a rectangular thin glass substrate is eliminated to reduce the occurrence of defective and a required dimensional precision is attained.例文帳に追加

長方形薄板ガラス基板等の長方形基板の裏面へのエッチング用薬液の回り込みを解消して不良品発生率の低減を図り、かつ所要の寸法出し精度を実現できる長方形基板のスピンエッチング装置を提供する。 - 特許庁

Prior to disposing the seed crystal 100 having the growth end face 100a in a chamber of a silicon carbide single crystal production apparatus, a protective film 2 is formed by spin coating on the back face 100b of the seed crystal 100 while the growth end face 100a of the seed crystal 100 is held by a vacuum chuck 1.例文帳に追加

この成長端面１００ａを有する種結晶１００を炭化ケイ素単結晶製造装置の容器内に設置するに先立って、種結晶１００の成長端面１００ａを真空チャック１で保持しつつ、種結晶１００の裏面１００ｂにスピンコートで保護膜２を形成する。 - 特許庁

In this disk drive provided with a hard disk, an actuator, a transducer, an electronic device, a circuit device and a spin motor, the actuator includes an arm and a motor, and the motor is connected to the arm to move the arm with respect to a disk and outputs a back electromotive force generation signal.例文帳に追加

ハードディスク、アクチュエータ、トランスデューサ、電子装置、回路装置及びスピンモータを備えるディスクドライブで、アクチュエータは、アーム及びモータを含み、モータは、ディスクに対してアームを移動させるためにアームに接続されかつ逆起電力生成信号を出力する。 - 特許庁

The detection sensor 14 is provided with a first and second magnetic sensors (spin valve GMR circuits) 16a, 16b arranged at its tip, a bias magnet 17 which is provided at their back and generates a magnetic field around the magnetic sensors 16a, 16b, and a case 18 for holding these.例文帳に追加

回転検出センサ１４は、先端部に設けられた第１及び第２の磁気センサ（スピンバルブＧＭＲ回路）１６ａ、１６ｂと、その背後に設けられ、磁気センサ１６ａ、１６ｂの周囲に次回を発生するバイアス磁石１７と、これらを保持するケース１８とを備えている。 - 特許庁

While a substrate W held nearly horizontally with a spin chuck 1 is rotated, pure water heated to ≥70°C, or warm water, is supplied to the back surface Wb of the substrate, and pure water dissolved with nitrogen in a supersaturated stage is supplied to the front surface Wf of the substrate as treating liquid.例文帳に追加

スピンチャック１に略水平に保持された基板Ｗを回転させた状態で、基板裏面Ｗｂに対して摂氏７０度以上に加熱された純水（温水）を供給する一方で、基板表面Ｗｆに対して窒素が過飽和に溶解された純水を処理液として供給する。 - 特許庁

While a spin base 2 is rotated by a motor 10 in a state in which a wafer W on whose surface a thin film is formed is held by a holding member 3, an etchant is supplied from a treatment liquid ejecting part 6 to the back face of the wafer W held by the holding member 3.例文帳に追加

表面に薄膜が形成されたウエハＷを保持部材３で保持した状態で、スピンベース２をモータ１０によって回転させながら、処理液吐出部６から保持部材３に保持されたウエハＷの裏面にエッチング液を供給する。 - 特許庁

In the treatment, the wafer W retained by the spin chuck 1 and shielding plate 2 are at a high speed rotated, and at the same time etching liquid is discharged from a nozzle 16, arranged at an upper end of a chuck shaft 11 to the back surface of the wafer that is rotating.例文帳に追加

処理時には、スピンチャック１に保持されたウエハＷおよび遮断板２が高速回転されるとともに、この回転しているウエハＷの裏面に向けて、チャック軸１１の上端に配置されたノズル１６からエッチング液が吐出される。 - 特許庁

In a process liquid supplying method, a template 60 which has plural opening portions 90 formed at places corresponding to predetermined positions on a surface 60a and flow paths 91 intercommunicating from the opening portions 90 formed on the surface 60a to a back surface 60b of the template 60 is mounted on a spin chuck 62 for rotating the template 60 while holding the back surface 60b of the template 60.例文帳に追加

処理液供給方法であって、表面６０ａにおいて、所定の位置に対応する箇所に開口部９０が複数形成され、且つ表面６０ａに形成された開口部９０から裏面６０ｂに連通する流通路９１を備えたテンプレート６０を、テンプレート６０の裏面６０ｂを保持して回転させるスピンチャック６２に載置する。 - 特許庁

In the electrooptical device 1, after alignment layers 24 and 32 are formed on a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 by a spin coating method, unnecessary alignment layers 240 and 320 adhered to the back surfaces 107 and 207 and side surfaces 108 and 208 of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are removed by atmospheric pressure plasma generated by an oxygen gas indirect discharging method.例文帳に追加

電気光学装置１において、ＴＦＴアレイ基板１０および対向基板２０にスピンコート法で配向膜２４、３２を形成した後、酸素ガス間接放電方式により発生させた大気圧プラズマにより、ＴＦＴアレイ基板１０および対向基板２０の裏面１０７、２０７および側面１０８、２０８に付着している余計な配向膜２４０、３２０を除去する。 - 特許庁

To prevent clean water from getting contaminated by preventing washing water and bubbles from flowing back to the clean water even if the opening of a cooling water hose submerges and a water pipe is decompressed in a drum type washing and drying machine that sequentially performs the processes of washing, rinsing, spin-drying and drying in a rotary drum nearly horizontally or nearly diagonally rotatably arranged.例文帳に追加

略水平方向または略傾斜方向に回転自在に配設した回転ドラム内で洗濯、すすぎ、脱水、乾燥などの各行程を逐次行うドラム式洗濯乾燥機において、冷却水ホースの開口部が水没した場合に水道管が負圧になっても、洗濯水や泡の浄水へ逆流するのを阻止し、浄水を汚染するのを防止する。 - 特許庁

The process for fabricating an actuator comprises a step for forming an SOG (Spin-On Glass) film on a zirconium oxide film, a step for etching back the zirconium oxide film on which the SOG film is formed until the zirconium oxide film is planarized, a step for forming a lower electrode on the planarized zirconium oxide film, and a step for forming a piezoelectric film on the lower electrode.例文帳に追加

アクチュエータ装置の製造方法において、アクチュエータ装置の製造方法において、酸化ジルコニウム膜上に、ＳＯＧ膜を形成する工程と、ＳＯＧ膜が積層された酸化ジルコニウム膜を、酸化ジルコニウム膜が平坦になるまでエッチバックする工程と、平坦化された酸化ジルコニウム膜上に下電極を形成する工程と、記下電極上に圧電体膜を形成する工程と、を備える、アクチュエータ装置の製造方法である。 - 特許庁