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bath-22の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 89



例文

A flow dispersing plate 22 for molten solder 11 is provided in a solder bath 10.例文帳に追加

半田槽(10)には溶融半田(11)の流れ分散板(22)を設ける。 - 特許庁

The fermentation-bath-supporting rack 22 supports the fermentation bath 1 so that the bath can rotate with the first axis A as a center.例文帳に追加

醗酵槽受け架台22は醗酵槽1を、第1軸線Aを中心として回転可能に支持する。 - 特許庁

The liquid electrode 1 is stored in a thermohygrostat bath 22.例文帳に追加

液体電極1は恒温恒湿槽22内に収容されている。 - 特許庁

Further, the core member 2 is immersed into a nickel bath to form a nickel electroforming layer 22.例文帳に追加

さらにニッケル槽に浸漬しニッケル電鋳層22を形成する。 - 特許庁

例文

The cold bath tub unit 21 sterilizes and strains pooled cold water in a cold water storage tank 23 storing overflow water overflowing from a cold bath tub 22 and make-up water, and refluxes the cold water to the cold bath tub 22.例文帳に追加

冷浴槽ユニット21は、冷浴槽22から溢流するオーバフロー水及び補給水を貯える冷水貯槽23の貯留冷水を滅菌濾過して冷浴槽22に還流する。 - 特許庁


例文

Thereafter, the wafers 22 are dipped in a BHF (buffered hydrofluoric acid) bath 3 for formal etching.例文帳に追加

その後、本エッチング用のBHF(バッファード・フッ酸)槽3に漬浸される。 - 特許庁

The fine foam generating device is constituted so as to take out bath water from a bath tub 10 to a circulating passage 21 by a circulation pump 22, to dissolve air in the bath water in a gas liquid mixing tank 23 arranged at the downstream side of the circulating pump 22 and to reflux to the bath tub 10.例文帳に追加

循環ポンプ22により浴槽10から循環通路21に浴槽水を取り出し、循環ポンプ22の下流側に配置した気液混合タンク23内で浴槽水中に空気を溶解させて、浴槽10に還流させる構成。 - 特許庁

The rotator 4 has a fermentation-bath-supporting rack 22 and a rotary drive part 23.例文帳に追加

回転装置4は醗酵槽受け架台22と回転駆動部23とを有する。 - 特許庁

In the substrate treatment method, the supercritical fluid is directly supplied to the treatment bath 22 to make the inside of the treatment bath 22 to a desired treatment pressure, and then the supercritical fluid mixed with the chemical is introduced into the treatment bath 22 from a mixing portion 25.例文帳に追加

本発明の基体処理方法は、超臨界流体を処理槽22に直接供給して処理槽22を所定の処理圧力とした後、混合部25から薬液を混合した超臨界流体を処理槽22に導入するようになす。 - 特許庁

例文

Consequently, babbles do not flow in the observation bath 22 and do not adhere to the inside wall or cover 12 of a chip main body 11 forming the observation bath 22.例文帳に追加

その結果、観察槽22には気泡が流入せず、観察槽22を形成するチップ本体11の内壁あるいはカバー12に気泡が付着することはない。 - 特許庁

例文

The BHF bath 2 is a spare bath for buffering and is for cleaning off the alcohol solution attached in the former stage from each wafer 22 having an improved wettability for an etchant and familiarizing each wafer 22 with BHF.例文帳に追加

BHF槽2は、緩衝用の予備槽で、エッチング液の濡れ性の改善がなされた各ウェハ22に対し、前段におけるアルコール溶液を落とすと共に、BHFをなじませる。 - 特許庁

Sensors 43 and 45 for sensing an inclination of the rotary plate 22 are provided an bath sides of a protrusion 24 on the upper part of the rotary plate 22.例文帳に追加

回動板22の上部の突部24の両側には該回動板22の傾きを検知するセンサ43、45を配置する。 - 特許庁

The bath room air-conditioning device is provided with a casing 22, a heat exchanger, and piping connection parts 2a and 2b.例文帳に追加

浴室空調装置は、ケーシング22と、熱交換器と、配管接続部2a、2bを備えている。 - 特許庁

This cleaning apparatus comprises installing a storage tank 22 which connects to a bath 15 and stores a bath wastewater, and a heating means (a bath boiler 14) on the path to the septic tank 100 carrying out an anaerobic and an aerobic treatments.例文帳に追加

本発明の浄化装置は、浴槽15に接続し浴槽排水を貯留する貯留タンク22と、嫌気処理および好気処理を実行する浄化槽100との浴槽排水経路途上に加熱手段(ふろ釜14)を配設する構成となっている。 - 特許庁

The rotary drive part 23 is removable from the fermentation bath 1 and is provided so as to be able to rotate the fermentation bath 1 on the fermentation-bath-supporting rack 22 by power with the first axis A as a center.例文帳に追加

回転駆動部23は醗酵槽1と着脱可能であって醗酵槽受け架台22の上で醗酵槽1を第1軸線Aを中心として動力により回転可能に設けられる。 - 特許庁

First, wafers 22 formed with a resist pattern stored in a basket 10 are dipped altogether in an alcohol diluted solution bath 1.例文帳に追加

まず、レジストパターンが形成されたウェハ22は、バスケット10ごとアルコール希釈液槽1に漬浸される。 - 特許庁

Thereafter, a wafer W is moved from the inside of a cleaning bath 22 into the inside of the chamber 23a of the drying unit 23.例文帳に追加

その後、ウエハWを洗浄槽22内から乾燥ユニット23のチャンバー23a内まで移動させる。 - 特許庁

Though the bath water in that state is disturbed in a conventional nozzle, bath water is vigorously jetted in the horizontal direction from this nozzle because jetting of bath water to the outside is controlled by a control part 22.例文帳に追加

ここで、従来であればこの状態のときに浴水に乱れが生じていたが、本発明にあっては、規制部22によって浴水が外側に噴出することが抑制されているので、水平方向に勢いよく浴水が噴出する。 - 特許庁

According to this constitution, upon using a bath individually, the amount of heat transfer to the upstream side hot-water supplying tubes 21 is reduced and boiling can be prevented whereby the heat of the high- temperature gas is absorbed effectively by the downstream side bath tubes 22 and the thermal efficiency of a bath function is improved.例文帳に追加

これにより風呂単独使用では、上流側の給湯管21への伝熱量が減少して沸騰が防止出来、高温ガスの熱が効果的に下流側の風呂管22に吸熱され、風呂機能の熱効率が向上する。 - 特許庁

The bath room 10 is equipped with a bathtub 20 and the bathtub 20 has a bathtub bottom part 21 and a bathtub wall part 22.例文帳に追加

浴室10には、浴槽20が設けられており、浴槽20は浴槽底部21と浴槽壁部22とを有している。 - 特許庁

A heating zone 20, a heat insulating zone 21 and a cooling zone 22 are successively arranged above a hot dip galvanizing bath 18.例文帳に追加

溶融亜鉛めっき浴18の上方に加熱帯20、保温帯21及び冷却帯22が順に配置されている。 - 特許庁

A skirt 26 is integrally formed at the lower part of a nozzle main body 23 of the gas nozzle 22 in a flaring shape, and an aperture 27 of the lower end of this skirt 26 is inserted into molten solder 11 inside the soldering bath 12.例文帳に追加

ガスノズル22のノズル本体23の下部にスカート26を拡開状に一体形成し、このスカート26の下端の開口27を、はんだ槽12内の溶融はんだ11中に挿入する。 - 特許庁

In the apparatus 21 provided with an electrolytic bath 22 and an electrolyte housing part 35 for housing the electrolyte to be supplied to the bath 22, the usability can be improved by reducing the supply frequency of the electrolyte.例文帳に追加

電解水を生成する電解槽22と、前記電解槽22に供給する電解質を収納する電解質収納部35を備えた電解水生成装置21で、電解質の供給頻度を少なくすることで使用性を向上できる。 - 特許庁

An etching processing device 20 for etching an object in an evacuated atmosphere comprises a processing bath 21, where a carried-in semiconductor wafer W is etched, and a vacuum pump 30, which provided on the lower side of a susceptor 22 of the processing bath 21 while being coaxial with the processing bath 21, sucks the exhaust of the processing bath 21 for evacuation.例文帳に追加

真空雰囲気で被処理体にエッチング処理を施すエッチング処理装置20は、搬入された半導体ウエハWにエッチング処理を施すための処理容器21と、この処理容器21のサセプタ22の下方側に処理容器21と同軸的に配置され、処理容器21内の排気を吸引して真空引きするための真空ポンプ30とを具備する。 - 特許庁

A oil bath side end of a rotating ring 4 is provided with a shield plate 22 having a cylindrical part 22a fitted in the rotating ring 4 and a flange part 22b continued to an axial directional end of the cylindrical part 22a.例文帳に追加

回転輪4の油浴側端部に、回転輪4に嵌め合わせられた円筒部22aおよび円筒部22aの軸方向端部に連なるフランジ部22bを有するシールド板22が設けられている。 - 特許庁

In the method for vapor-depositing the vapor of fluoroalkylsilane on the passage of the parts for fluid 12, the inside of a constant temperature bath 20 is provided with a treatment vessel 22 through which the vapor of fluoroalkylsilane and a carrier gas flow.例文帳に追加

流体部品12の通路にフルオロアルキルシランの蒸気を蒸着させる方法において、恒温槽20内にフルオロアルキルシランの蒸気及びキャリヤーガスが流れる処理容器22を設ける。 - 特許庁

The water drop removing means can be taken out from the washing bath 22 together with the basket 32 when needed to make it easier to implement inspection and replacement works.例文帳に追加

水滴除去手段は必要時に食器カゴごと洗浄槽から取り外すことができ、点検・交換作業が容易化される。 - 特許庁

Water discharged from a container 21 is purified with ion exchange resins 22 and is sent to a water electrolytic bath 24 to be electrolyzed.例文帳に追加

容器21から排出された水はイオン交換樹脂22によって純水にされ、水電解槽24に送られて電気分解される。 - 特許庁

This hot water supply system 10 for supplying hot water to hot water utilizing portions 100, 102 includes: a heat pump 50; a heat storage tank 22; a tank water heating conduit 30; a bath tub 102; and a bath tub water heating conduit 80.例文帳に追加

温水利用箇所100、102に温水を供給する温水供給システム10であり、ヒートポンプ50と、蓄熱タンク22と、タンク水加熱水路30と、浴槽102と、浴槽水加熱水路80を備えている。 - 特許庁

While the wafer W is moved from the inside of the cleaning bath 22 into the inside of the chamber 23a of the drying unit 23, or after the wafer W is moved from the inside of the cleaning bath 22 into the inside of the chamber 23a of the drying unit 23, the drying gas is supplied into the chamber 23a.例文帳に追加

そして、ウエハWを洗浄槽22内から乾燥ユニット23のチャンバー23a内まで移動させる間に、またはウエハWを洗浄槽22内から乾燥ユニット23のチャンバー23a内まで移動させた後に、チャンバー23a内に乾燥ガスを供給する。 - 特許庁

Both ends of the string-like carbonaceous material 1 are suspended and dipped into a bath of liquid metal silicon 22 melted in a crucible.例文帳に追加

次いで配列させた紐状炭素質材料1の両端部を坩堝内に溶融させた液体金属ケイ素22浴中に垂下し浸漬させる。 - 特許庁

A plurality of water discharge sections 22 for discharging the bath water stagnated inside of the sill 2 to the bathroom side are provided in the longitudinal direction of the projected stripes 16.例文帳に追加

下枠2内に溜まる浴水を浴室側に排水させる排水部22を各突条16の長手方向の複数箇所に設ける。 - 特許庁

The leg sections 21 are configured while comprising beam materials 22 supporting the load of the bath unit body 31 and beam corbels 23 being fitted at both end sections of the beam materials 22 respectively and capable of being retained to each sill 4.例文帳に追加

脚部21はバスユニット本体31の荷重を支える梁材22と、前記梁材22の両端部にそれぞれ設けられて各土台4に係止可能な梁受材23とを含んで構成されている。 - 特許庁

A single storage water heater body two channel type hot water supply apparatus comprises a heat exchanger 12 for hot water supply in hot water supply piping 1 and a heat exchanger 22 for bath in extra firing piping 2 where both heat exchangers 12, 22 share a combustor 4.例文帳に追加

給湯管路1の給湯用熱交換器12と浴用追焚き管路2の浴用熱交換器22が1つの燃焼器4を共用している一缶二水路給湯装置である。 - 特許庁

When a test subject 24 bends an upper part of a body over the sheet 22 to press the breasts 26, the breasts 26 are inserted under the water of the water bath 10 with the breasts 26 enveloped in the sheet 22 by moderate pressure.例文帳に追加

被検者24が上半身をシート22の上に屈めて乳房26を押しつけると、乳房26はシート22により適度な押圧で包まれた状態で、水槽10内の水中に挿入される。 - 特許庁

Bath water is sent to a heater 22 from a circulating pump 20 through a changeover valve A26 and further sent to a filter tank 21 to be drained from a drain pipe 42 through a changeover valve B27 to wash the interior of a bath water cleaning apparatus Y.例文帳に追加

浴水を循環ポンプ20から切替バルブA26を経由してヒータ22に送り、更にろ過タンク21に送って、切替バルブB27を介して排水管42から排水することにより浴水浄化装置Yの内部を洗浄する。 - 特許庁

The plating apparatus 1 includes: a plating bath 11 storing a plating solution 12; an anode 21 arranged in the plating bath 11; and a cathode 22 arranged in the plating bath 11 and having a planar part 22a in which a material 51 to be plated is placed and a hole, through which the plating solution 12 is passed, is formed.例文帳に追加

めっき装置1は、めっき液12を貯留するめっき槽11と、めっき槽11内に配置されている陽極21と、めっき槽11内に配置されており、被めっき物51が戴置され、めっき液12を通過させる穴が形成された面状部分22aを有する陰極22を備えている。 - 特許庁

The constitution of this method for dyeing comprises irradiating the material 19 to be dyed with high frequency when the material 19 to be dyed is dipped in a dipping bath 21 having a dye liquor 22 and transferred.例文帳に追加

染液22を有する浸漬槽21を被染物が浸漬されて移行しているときに、被染物19に高周波を照射する構成とする。 - 特許庁

Water in the water storage tank 22 is supplied as drinking water via a water purifier 23, or used for water for a toilet and bath, washing, cleaning and other purposes in a vessel.例文帳に追加

貯水タンク22内の水は、浄水器23を介して飲料水として供給され、或いは、トイレ、風呂、洗濯、船内の清掃等に使用される。 - 特許庁

Only the moisture in oil is removed from the insulating oil, by utilizing moisture equilibrium caused by a temperature difference between a temperature of the insulating oil and a temperature in the thermohygrostat bath 22.例文帳に追加

絶縁油の温度と恒温恒湿槽22内温度間の温度差による水分平衡を利用して、絶縁油から油中水分のみ除去する。 - 特許庁

The nonslip member 20 is composed of a silicone-based gelatinous material and comes in detachably close contact with a sheet 22 bridged over an upper opening of the water bath 10.例文帳に追加

滑り止め部材20は、シリコンベースのゲル状材で構成され、水槽10の上部開口に懸け渡されたシート22を剥離自在に密着する。 - 特許庁

After the electronic circuit board 22 is fixed on the mounting part of a case main body 12 by a fixing member, the case main body 12 is turned upside down and arranged above a coating bath ascending system line, and then a coating bath 90 is made to ascend near to the opening end 18a to coat the electronic circuit board 22.例文帳に追加

そして、電子回路基板22を固定手段によってケース本体12の載置部に固定した後、ケース本体12を上下反転させ、次いでコーティング・バス上昇方式のライン上に配置し、次いでコーティング・バス90を開口端18a近傍まで上昇させることによって電子回路基板22をコーティングする。 - 特許庁

In a soldering device, melted metal 1 contained in a melted metal bath 12 are jetted upward from the melted metal bath 12 by jet pumps 22 and 23 and cylindrical members 31 are provided around the rotary driving shafts 26 of the stirring propellers 25 of the jet pumps 22 and 23 with certain gaps therebetween.例文帳に追加

溶融金属槽12に収容された溶融金属11を噴流ポンプ22,23で溶融金属槽12の上方に噴流させる噴流式半田付け装置において、噴流ポンプ22,23の撹拌用プロペラ25の回転駆動軸26の周囲に一定の隙間を保持して筒状部材31を介在させたたものである。 - 特許庁

Since the plunger 24 can be dismounted simply from the sleeve 22, after the plunger 24 is dismounted from the sleeve 22, the whole plunger can be cleaned only by being dipped into a plating bath.例文帳に追加

本発明によれば、プランジャー24をスリーブ22から簡単に取り外すことができることから、プランジャー24をスリーブ22から取り外した後、プランジャー全体をメッキ浴に浸すだけでクリーニングを行うことが可能となる。 - 特許庁

The flocculation reaction device (10) includes: a flocculation reaction bath (14) equipped with a stirrer (22); a wastewater supply unit which supplies wastewater to the flocculation reaction bath (14); and a flocculant supply unit which supplies the powdery flocculant composition.例文帳に追加

凝集反応装置が、攪拌機(22)を備えた凝集反応槽(14)と、該凝集反応槽(14)に廃水を供給する廃水供給手段と、粉状凝集剤組成物を供給する凝集剤供給手段と、を備えている。 - 特許庁

This hot bath apparatus is provided with a leg hot bathtub 22, a pair of arm hot bathtubs 21 and a liquid treatment device 1 treating the liquid flowing in/out a hot bathtub 20.例文帳に追加

温浴装置は、脚用の温浴槽22と、一対の腕用の温浴槽21と、温浴槽20に流入出する液体の処理を行う液体処理装置1とを備える。 - 特許庁

In etching equipment 1, TMAH aqueous solution 3 of 22 wt.% is kept at 80°C in an etching bath 2, and a silicon wafer 6 is dipped and treated by etching.例文帳に追加

エッチング装置1は、エッチング槽2内に22wt%のTMAH水溶液3を80℃に保持した状態とし、シリコンウエハ6を浸漬してエッチング処理を行なう。 - 特許庁

The deposit height measuring instrument includes current applying electrodes 11, 12 for applying a current within a plating bath and voltage measuring electrodes 21, 22 for measuring the voltage generated by the applied current; and estimates the deposition height of the deposits precipitated within the plating bath based on the voltage value measured between the voltage measuring electrodes 21, 22.例文帳に追加

堆積物高さ測定装置は、めっき浴内に電流を印加する電流印加用電極11,12と、その印加された電流によって発生する電圧を測定する電圧測定用電極21,22とを備え、電圧測定用電極21,22間で測定される電圧値に基づいて、めっき浴内に沈殿する堆積物の堆積高さを推定する。 - 特許庁

The penetration section formation device 20 comprises an inside member 21 placed to the inside of the unit-bath wall 15, an extension section 26 extended from the inside member 21, an outside member 22 placed to the outside of the unit-bath wall 15 and a screwing member 23 screwed to the extension section 26.例文帳に追加

貫通部形成装置20はユニットバス壁15の内側に配設される内側部材21と、当該内側部材21から延設された延設部26と、ユニットバス壁15の外側に配設される外側部材22と、前記延設部26に螺着される螺合部材23とより構成されている。 - 特許庁

例文

A soldering nozzle 13 for local soldering is provided in a soldering bath 12, and a gas nozzle 22 for feeding inert gas 21 such as nitrogen gas is provided in the periphery of an aperture 17 of the soldering nozzle 13 at a rather lower position from the tip end of the soldering nozzle 13.例文帳に追加

溶融はんだ11を収容したはんだ槽12に、局所はんだ付け用のはんだノズル13を設け、はんだノズル13の開口面17の周囲に窒素ガスなどの不活性ガス21を供給するガスノズル22を、はんだノズル13の先端よりやや低い位置に設置する。 - 特許庁




  
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