| 意味 | 例文 |
design patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1574件
To provide a game machine capable of increasing the flexibility in the design of pattern arrangement, diversifying the pattern arrangement and enhancing the amusement properties.例文帳に追加
図柄配列の設計の自由度の増加、図柄配列の多様化、娯楽性の向上を図ることができるようにした遊技機を提供する。 - 特許庁
Mask pattern data used when a film formed on the semiconductor substrate to form the design circuit pattern is processed is prepared.例文帳に追加
設計回路パタンを作製するために半導体基板の上方に形成された膜を処理する際に用いられるマスクパタンデータが用意される。 - 特許庁
To provide a metallic printed matter having a protrusion and recess pattern with high design properties having lustrousness of metallic style and a stereoscopic sense of the protrusion and recess pattern.例文帳に追加
金属調の光輝度と凹凸の立体感を持たせた意匠性の高い凹凸模様を有する金属調印刷物を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an exposure mask by which a mask pattern with high dimensional accuracy can be formed without depending on the layout of the design pattern.例文帳に追加
設計パターンのレイアウトによらずに寸法精度の良好なマスクパターンを形成することが可能な露光マスクの作製方法を提供する。 - 特許庁
On the basis of this result, condition change such as change of a design, correction of a paper pattern, or change of the cloth is performed and design of optimal clothing accessories is supported.例文帳に追加
この結果に基づいてデザインの変更、型紙の修正、生地の変更などの条件変更を行い、最適な衣料服飾品の設計を支援する。 - 特許庁
The design rule checker 115 generates a third layout pattern with only the unmarked patterns of the layout being validated against the set of specified design rules.例文帳に追加
デザインルールチェッカー115は、特定のデザインルールのセットに照らして検証されているレイアウトのマークされないパターンのみを有する第3のレイアウトパターンを生成する。 - 特許庁
A finish evaluating means 41 evaluates the finished state of a semiconductor device based on the design dimension Wd of a design pattern feature 22 and on the finish dimension Wf of the semiconductor device manufactured by using a mask pattern of a synthesized pattern feature 21.例文帳に追加
仕上り評価手段41は、設計パターン図形22の設計寸法Wdと、合成パターン図形21のマスクパターンを用いて製造した半導体デバイスの仕上り寸法Wfとに基づいて、半導体デバイスの仕上り状態を評価する。 - 特許庁
Referring to the data, designers or engineers correct the test core loading pattern, carry out simulations and draw up a derived core loading pattern design to ultimately complete them as an acceptable core loading pattern design of the core.例文帳に追加
設計担当者又は技術者はそのデータを見て、試験用炉心ローディングパターンを修正し、シミュレーションを実行して、炉心の受け入れ可能炉心ローディングパターンデザインとして最終的に完成するために、派生炉心ローディングパターンデザインを作成する。 - 特許庁
To provide a correction method for a design pattern 31 by which a moving amount to move edges E01 to E24 of a design pattern 31 of a semiconductor device can be accurately calculated so as to form a real pattern of the semiconductor device as desired on a wafer.例文帳に追加
半導体装置の実パタンがウェハ上に所望どおりに形成されるように、半導体装置の設計パタン31のエッジE01乃至E24を移動させる移動量を正確に算出できる設計パタン31の補正方法を提供する。 - 特許庁
The pattern area rate in the peripheral region around the correction cell including the respective pattern as the objective of correction is measured based on the design data for forming the real pattern (ST1 to ST3).例文帳に追加
実パターン形成用の設計データに基づき、補正対象となる各パターンを含む補正セルを中心とした周辺領域内におけるパターン面積率を測定する(ST1〜ST3)。 - 特許庁
This eatable pattern-printed sheet B is characterized in that a pattern 4 such as a painting, a pattern, a character and a design is printed or painted by an eatable coating material on an eatable film 1.例文帳に追加
可食性フィルム1上に可食性塗料で絵画・模様・文字・図案等の図柄4を印刷又は絵付けしてあることを特徴とする可食性図柄印刷シートBとする。 - 特許庁
In this method of generating electron beam lithography data, the pattern design data is subjected to the data conversion process to generate a plurality of pattern data and job deck and store the pattern information to a data file in the step S_1.例文帳に追加
本電子線描画データの作成方法では、ステップS_1 で、パターンの設計データをデータ変換処理し、複数個のパターンデータと、ジョブデックを作成し、データファイルにパターン情報を記憶する。 - 特許庁
Then portions 25a and 25b in a simulation pattern 24 of a transferred image from the first OPC pattern 23 are outputted, the portions where the displacement from the design pattern 21 is larger a specified value.例文帳に追加
次に、第1のOPCパターン23の転写イメージのシミュレーションパターン24における設計パターン21に対するズレ量が所定値よりも大きい箇所25a及び25bを出力する。 - 特許庁
Consequently, the corrected data 93 as the data of a corrected pattern in matching with pattern formation conditions or the like can be generated easily, and the design efficiency of a pattern can be improved.例文帳に追加
その結果、パターン形成条件等に合わせて補正したパターンのデータである補正済データ93を容易に生成することができ、パターンの設計効率を向上することができる。 - 特許庁
To provide a pattern layout method for a liquid crystal panel which improves design efficiency and suppresses a data size.例文帳に追加
設計効率を向上し、データサイズを抑制できる液晶パネル用パターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁
At this time the dough is brought to be applied with a picture, design or pattern by using powdery cocoa, powdery green tea or the like.例文帳に追加
このとき、ココア粉末や抹茶粉末、食紅等を使用して絵や柄、模様の入った生地にする。 - 特許庁
COMPUTER-IMPLEMENTED METHOD FOR DETECTING AND (OR) SORTING DEFECT IN RETICLE DESIGN PATTERN例文帳に追加
レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出し、かつ(あるいは)ソートするためのコンピュータに実装された方法 - 特許庁
The area density of a design pattern in the density calculation area is calculated (an area density calculating part 46).例文帳に追加
密度計算領域における設計パターンの面積密度を計算する(面積密度計算部46)。 - 特許庁
To provide a capacitor in which a pattern design, repair and alteration of capacitance are facilitated.例文帳に追加
パターン設計が容易であると共に、リペアーが容易で、静電容量値の変更が容易なコンデンサを提案する。 - 特許庁
A consultant side 13 receives design data of a target circuit pattern of an integrated circuit device, a difference between a pattern form formed on a substrate using the design data and the design data, and manufacturing process information when the circuit pattern is formed on the substrate from a manufacturer side 11 via a network 12.例文帳に追加
製造者11側からコンサルタント13側が、集積回路装置における目標とする回路パターンの設計データと、前記設計データを用いて基板上に形成されたパターン形状と前記設計データとの差異と、前記回路パターンを基板上に形成した際の製造工程情報とを、ネットワーク12を介して受け取る。 - 特許庁
According to data of it, corrections for canceling the mask distortion are made for mask pattern design data at a time.例文帳に追加
このデータに基づいて、マスク歪みを相殺する補正を、マスクパターン設計データに対し一括して行う。 - 特許庁
The original embroidery fabric 13 is,embroidered a design pattern 16 at a rough interval with the embroidering yarn 14A.例文帳に追加
元刺繍布地13に刺繍糸14Aを粗の間隔で絵柄模様16を刺繍14する。 - 特許庁
To provide a layout pattern inspection device capable of easily observing a dangerous place caused by a design layout.例文帳に追加
設計レイアウトに起因する危険箇所を容易に観察可能なレイアウトパターン検査装置を得ること。 - 特許庁
To provide a computer-implemented method for detecting a defect in a reticle design pattern.例文帳に追加
レティクルの設計パターンにおける欠陥を検出するためのコンピュータに実装された方法を提供する。 - 特許庁
To design pattern data in a short turnaround time and to improve the production yield of a semiconductor device.例文帳に追加
パターンデータを短いターン・アラウンド・タイムで設計でき、また、半導体装置の製造歩留まりを向上できる。 - 特許庁
It is a design of fabric woven in a grid pattern with yarns of two colors like purple and brown or light yellow. 例文帳に追加
紺色と茶色や浅黄色など、二色の色糸を格子状に碁盤の目のように織った文様。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
As the design having the counterfeit-proof function, for example, a relief (an embossing pattern) and a line raster are used.例文帳に追加
偽造防止機能を有するデザインとしては、例えば、レリーフ(浮き彫り模様)やラインラスターが採用される。 - 特許庁
The marker may employ any shape such as an imitation gem, flower, geometric pattern design.例文帳に追加
マーカーとして模造宝石や花或は幾何模様のデザインなど任意の形象を採用することができる。 - 特許庁
To provide a patterned bathtub exhibiting an excellent design whose pattern is more brilliantly highlighted than conventional ones.例文帳に追加
模様付きの浴槽において、模様をより鮮明に際立たせた、意匠性に優れた浴槽を提供する。 - 特許庁
The pattern layer 14 consists of a red-colored design part and a black-colored background part.例文帳に追加
パターン層14は、赤色に着色された意匠部と、黒色に着色された背景部とからなる。 - 特許庁
a sheet of material (metal, plastic, cardboard, waxed paper, silk, etc.) that has been perforated with a pattern (printing or a design) 例文帳に追加
パターン(印刷またはデザイン)で穴を開けられた1枚の材料(金属、プラスチック、ボール紙、パラフィン紙、絹など) - 日本語WordNet
METHOD FOR DESIGNING BASIC PATTERN OF GARMENT, DESIGN-ASSISTING SOFTWARE AND RECORDING MEDIUM ON WHICH PROGRAM OF THE SOFTWARE IS RECORDED例文帳に追加
服ベーシックパターンの設計方法、該設計支援ソフト及び該ソフトのプログラムが記録された記録媒体 - 特許庁
This is a design method for a dummy pattern, which is inserted in wiring patterns 11-13, and 15-17 on a reticule.例文帳に追加
本発明は、レチクル上の配線パターン11〜13,15〜17に挿入するダミーパターンを設計する方法である。 - 特許庁
To improve the degree of freedom of design of a wiring pattern on a wiring board and to thin the wiring board.例文帳に追加
配線板の配線パターンの設計の自由度を向上させるとともに、配線板を薄型化する。 - 特許庁
A layout processing means 261 arranges the dummy pattern which does not function as a circuit in layout design processing data.例文帳に追加
レイアウト設計処理データに回路的に機能しないダミーパターンをレイアウト処理手段261が配置する。 - 特許庁
Uchiwa fan has not only physical function to make a wind by fanning it with a hand, but also various cultural functions for its design and pattern applied to the fan part. 例文帳に追加
手で扇いで風を起こすほか、絵柄や文様にもさまざまな文化的機能がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
During change of a design, a side lamp 78 is flashed at intervals of 100 ms according to a red flashing pattern 2.例文帳に追加
図柄変動中は、赤色の点滅パターン2でサイドランプ78を100ms周期で点滅する。 - 特許庁
A design pattern image is created by using the dot patterns, and is superposed on an image of a printing object.例文帳に追加
それらのドットパターンを用いて地紋画像を生成し、それを印刷対象の画像に重畳する。 - 特許庁
To provide a horizontal design embossed decorative sheet in which a concavo-convex design fall by the elongation of an embossed decorative sheet cannot occur easily at the time of laminating even if a horizontal design is included in a recessed pattern by an embossing finish and to provide a horizontal design embossed decorative panel in which the same is laminated on a substrate.例文帳に追加
エンボス加工による凹陥模様に横柄が含まれていても、ラミネート時にエンボス化粧シートの伸びによる凹凸意匠低下が起き難い、横柄エンボス化粧シートと、それを基板にラミネートした横柄エンボス化粧板を提供する。 - 特許庁
The pattern inspection method includes a step (S12) of processing design data for an inspection pattern based on information dependent on an illumination condition of illumination used to inspect the inspection pattern, a step (S14) of generating reference data for the inspection pattern from the processed design data, and a step (S15) of comparing data of an actually formed inspection pattern with the reference data.例文帳に追加
披検査パターンの設計データを、披検査パターンの検査に用いる照明の照明条件に依存した情報に基づいて加工する工程(S12)と、加工された設計データから披検査パターンの参照データを生成する工程(S14)と、実際に形成された披検査パターンのデータと参照データとを比較する工程と(S15)、を備える。 - 特許庁
Further, the circuit pattern 8 of the power supply line of the integrated circuit 11 for electrically connecting a hole-type bypass capacitor 12, and the circuit pattern 9 of a ground line may be formed in any pattern layer, the flexibility of the design of the circuit pattern in the printed-wiring board 1 is increased, and the cost of the design of the circuit pattern is suppressed.例文帳に追加
また、バイパスコンデンサであるホール型コンデンサ12を電気的に接続する集積回路11の電源ラインの回路パターン8と、グランドラインの回路パターン9については、どのパターン層に形成してもよいので、プリント配線基板1における回路パターンの設計の自由度が増し、回路パターンの設計にかかるコストが抑えられる。 - 特許庁
A pattern like splashed Kasuri pattern is developed by the apparent difference of the soft-twist part and the hard-twist part to obtain a woven or knit fabric having high added value from the viewpoint of design.例文帳に追加
甘撚部と強撚部の外観上の相違によって絣調地模様が描出され、デザイン的に付加価値の高い織編布帛が得られる。 - 特許庁
The ground pattern or the design pattern can be visually recognized on the print 1 on the thermal recording magnetic ticket sheet, but is vanished on a copy product 2.例文帳に追加
感熱記録型磁気券紙上の印刷ではその部分の地紋や模様パターンが視覚認識できるが、複写品ではそれらが消失する構成とした。 - 特許庁
Image data of a section having MEEF equal to or greater than a prescribed value is created on the basis of the region data including at least some pattern defined by the design pattern data.例文帳に追加
設計パターンデータに定義される少なくとも一部のパターンを包含する領域データから、MEEFが所定値以上の箇所の画像データを作成する。 - 特許庁
A generation means 20 generates mask pattern data 31 to be formed on a mask from the design data 30 of an exposure pattern 32 to be transferred onto a semiconductor substrate.例文帳に追加
作成手段20は、半導体基板上へ転写する露光パターン32の設計データ30からマスク上へ形成するマスクパターンデータ31を作成する。 - 特許庁
To provide a block capable of providing a laying pattern of a joint pattern having an excellent design property with a minimum required stock management cost and laying work cost.例文帳に追加
必要最低限の在庫管理コスト及び敷設作業コストで意匠性に優れた目地模様の敷設態様を得ることができるブロックを提供する。 - 特許庁
When the paper pattern for the clothing is formed, the paper pattern can be rapidly and accurately formed, because the textile design reflects the actual dimensions of the human body.例文帳に追加
被服型紙を作成するに際しては、意匠図が実際の人体寸法を反映しているので、迅速かつ正確に型紙の製作が可能となる。 - 特許庁
To provide a data generating method to generate data for a resist pattern with which a wiring pattern conformed with design data can be formed on a substrate through an etching treatment.例文帳に追加
エッチング処理により基板上に設計データ通りの配線パターンを形成できるようにする、レジストパターンのデータを生成するデータ生成方法を実現する。 - 特許庁
To provide a reticle in which a mask pattern associated with a semiconductor chip formation and a mask pattern associated with several kinds of TEG formations are laid out by a new design.例文帳に追加
半導体チップ形成に係るマスクパターン、及び、複数種類のTEG形成に係るマスクパターンが、新規なデザインで配置されたレチクルを提供する。 - 特許庁
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