「design pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

Since the pattern formation data 91 include a basic pattern part 911 and the correction rule part 913, the basic pattern and the correction rule on pattern formation are defined individually, which easily improves design efficiency of a pattern.例文帳に追加

パターン形成用データ９１は、基礎パターン部９１１と補正ルール部９１３とを備えるため、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上を容易に行うことができる。 - 特許庁

The high foamed layer may be arranged on the entire surface or arranged to form a design pattern.例文帳に追加

高発泡層は、全面に設けられていてもよいし、図柄状に設けられていてもよい。 - 特許庁

To easily realize a high design characteristic and long-term durability by suppressing the occurrence of pattern unevenness.例文帳に追加

模様むらの発生を抑え、高デザイン性と長期耐久性とを簡便に実現する。 - 特許庁

For example, the attaching range particularizing module 14 particularizes ranges (character part and white paper part) except an image among three objects, the design pattern image generating module 15 generates the design pattern image within the ranges and transmits the design pattern image to a printer 2 together with print data.例文帳に追加

例えば３つのオブジェクトのうち、イメージを除いた範囲（文字部分と白紙部分）を付加範囲特定モジュール１４で特定して、その範囲に地紋画像作成モジュール１５で地紋画像を作成し、印刷データと共に地紋画像をプリンタ装置２に送るようにした。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND DEVICE THEREOF, AND CORRECTING METHOD AND DEVICE FOR DESIGN DATA例文帳に追加

パターン形成方法およびその装置ならびに設計データの補正方法およびその装置 - 特許庁

To inspect accurately a minute pattern on an object on the basis of a design data.例文帳に追加

設計データに基づいて対象物上の微小なパターンの検査を精度よく行う。 - 特許庁

To execute data processing for generating exposure pattern data from design data more efficiently.例文帳に追加

設計データから露光パターンデータを生成するデータ処理工程をより効率的に行う。 - 特許庁

An end portion of a pattern of an object is detected from design layout information (step S11).例文帳に追加

設計レイアウト情報から、対象物のパターンの端部を検出する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

METHOD FOR DESIGN OF TEMPLATE PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING TEMPLATE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

テンプレートパターンの設計方法、テンプレートの製造方法及び半導体装置の製造方法。 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING MASK PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DESIGN PROGRAM例文帳に追加

マスクパターン設計方法および半導体製造方法ならびに半導体設計プログラム - 特許庁

To provide a method for pattern layout for a liquid crystal display device with increased design efficiency.例文帳に追加

設計効率を向上した液晶表示装置用パターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

The display may be letters (including a sign), a design, a pattern, a picture or a photograph.例文帳に追加

表示の種類としては、文字（サインも含む）、図案、模様、絵、或いは写真等があり得る。 - 特許庁

MOUNT TESTING APPARATUS FOR TESTING APPROPRIATE DESIGN OF LAND PATTERN, AND ITS MOUNT TESTING METHOD例文帳に追加

ランドパターンの設計の適否を試験する実装試験装置及びその実装試験方法 - 特許庁

DESIGN PATTERN PREPARATION METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の設計パターン作成方法、プログラム、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

To speed-up design verification of semiconductor layout data by improving efficiency of pattern matching.例文帳に追加

パターンマッチングの効率化を図り、半導体レイアウトデータの設計検証を高速化する。 - 特許庁

The image data such as a logo of the signboard is classified by a pattern of the color and design thereof.例文帳に追加

看板等のロゴのイメージデータを、その色及び模様等のパターンで分類付けしておく。 - 特許庁

To correct a design pattern to a shape suited to mask plotting or inspection by simple processing.例文帳に追加

設計パターンを、簡単な処理でマスク描画や検査に適した形状にパターン補正する。 - 特許庁

ALIGNMENT METHOD, DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, MASK, DEVICE MANUFACTURING METHOD, ALIGNMENT DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

アライメント方法、マスクパターンの設計方法、マスク、デバイス製造方法、アライメント装置、露光装置 - 特許庁

in vain that I recognised the pattern of the bed-curtains and the design of the mahogany frame; 例文帳に追加

ベッドのカーテンの柄やマホガニーのベッド枠の作りも見回したが、なんということはなかった。 - Robert Louis Stevenson『ジキルとハイド』

To provide a method for verifying a design pattern by which design patterns are verified while predicting an inoperable state of a circuit due to displacement in alignment and to provide a method for correcting a design pattern by which the above design patterns are subjected to necessary correction in accordance with the results of the verification.例文帳に追加

合わせずれによって回路が動作できないことがあることを予測して設計パターンを検証する設計パターンの検証方法と、その検証の結果に応じて、設計パターンに必要な補正を施す設計パターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

The mask is formed with a mask circuit pattern which is identical in design to other design circuit patterns, a mask top first mark which is overlapped in design with the substrate top first mark when the mask circuit pattern and the substrate top circuit pattern are overlapped at an overlapping position, and a mask top second mark which is overlapped in design with the substrate top second mark.例文帳に追加

マスクは、他の設計回路パターンと設計上は合同のマスク回路パターンと、マスク回路パターンと基板上回路パターンを重ね合わせ位置で重ねた場合に基板上第１マークと設計上重なるマスク上第１マークと、基板上第２マークと設計上重なるマスク上第２マークを有する。 - 特許庁

To automatically extract such a ground pattern and a power source pattern that have a possibility of causing unnecessary radiation in a design stage of a printed board.例文帳に追加

基板の設計段階で不要放射を生じる恐れのあるグラウンドパターン及び電源パターンを自動的に抽出する。 - 特許庁

To provide an IC card having high flexibility in design of an antenna pattern and preventing an antenna pattern from being broken by embossing.例文帳に追加

エンボス加工によるアンテナパターンの断線が防止されながら、アンテナパターンの設計の自由度が高いＩＣカードを提供する。 - 特許庁

To form a creased pattern meeting a design to a cloth itself and surely prevent the elimination of the creased pattern with time.例文帳に追加

生地自体にデザインに応じた皺模様が得られ、この皺模様の自然消滅を良好に防止することができるようにする。 - 特許庁

To give a novelty to the design of a pattern of a cell sheet and make the pattern replaceable even after the completion of a game board.例文帳に追加

遊技機において、セルシートの絵柄の見え方に斬新性を持たせ、かつ遊技盤の完成後も絵柄を交換可能とする。 - 特許庁

The pattern 7 for wiring and the pattern 13 for reinforcement are formed of the same metallic materials within the allowable range of a design rule.例文帳に追加

配線用パターン７及び補強用パターン１３はデザインルールの許容範囲内で同じ金属材料により形成されている。 - 特許庁

To provide a coating method and a coating apparatus of a substrate which has a pattern design faithfully reproducing a pattern on an object surface.例文帳に追加

対象物の表面の模様を忠実に再現した柄模様を有する基板の塗装方法及び塗装装置を提供する。 - 特許庁

Wachigai refers to a design that consists of many intersecting circles, and in yusoku-monyo (traditional design motifs, used either in single units or repeated to create patterns, based on designs from Heian courtly decoration) has a similar pattern called shippo. 例文帳に追加

輪違という文様は、幾つもの輪を交差させたものをいい、有職文様では、同様のものを七宝ともいう。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method of creating a design layout of a semiconductor device that can modify design pattern at a high-speed and with high accuracy.例文帳に追加

高速高精度に設計パターンを修正することが可能な半導体装置の設計レイアウト作成方法を提供すること。 - 特許庁

To make a photomask responding to a fine design rule in a short exposure time by using a conventional pattern design tool and an exposure apparatus.例文帳に追加

微細な設計ルールに対応したフォトマスクを、既存のパターン設計ツールや露光装置を利用して、短い露光時間で作成する。 - 特許庁

A design display control means performs design variation display by the variation pattern for stop display in the notice stop mode, and then design stop display is performed by a design combination for indicating the result from first lottery for winning/losing.例文帳に追加

図柄表示制御手段は、その変動パターンで図柄を変動表示させてその予告停止態様で停止表示させた後、第１の当否抽選の結果を示す図柄組み合わせで図柄を停止表示させる。 - 特許庁

To provide a pattern layout method wherein the enhancement of design accuracy, shortening of a designing period, and reduction of design error are made possible by creating an exposure pattern to be transferred onto a substrate by exposure.例文帳に追加

基板上に露光される露光パターンを作成することにより、設計精度の向上、設計期間の短縮、設計ミスの低減が可能となったパターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device capable of inspecting a print mark printed on a design, a pattern, a texture, a color or the like, when the design, the pattern, the texture or the like is printed on a wrapping sheet.例文帳に追加

包装シートに意匠や模様、図柄などが印刷され、その意匠、模様、図柄、色などの上に印字された印字マークを安価に検査できる印字マーク検査装置を得る。 - 特許庁

Either or both of the external design pattern 21 and the internal design pattern 22 are obtained by corrugating the surfaces of the transparent external plate part 18 and the internal plate part 17.例文帳に追加

外側デザインパターン２１と内側デザインパターン２２のいずれか一方又は双方は、外側プレート部１８や内側プレート部１７の表面に凹凸を施すことによって得られる。 - 特許庁

To appropriately form an image and a decorative design pattern thereof without the need of changing a layout of the decorative design pattern for each of the number of images of which the layout is to be performed and of separately preparing a template.例文帳に追加

レイアウトする画像の数毎に装飾図柄のレイアウトを変更したり別途テンプレートを用意したりする必要なしに、画像とその装飾図柄とを適正に形成させる。 - 特許庁

Then, an area on the design layout, where a difference in the distribution of the pattern coverage becomes smaller by adding an additional pattern on the design layout, is set as an additional area.例文帳に追加

そして、前記設計レイアウト上に付加パターンを付加することによって前記パターン被覆率の分布差が小さくなる前記設計レイアウト上の領域を付加領域として設定する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern layout for a liquid crystal display device, capable of shortening a design time while improving the design accuracy of an array pattern for the liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置のアレイパターンの設計精度を向上できるとともに設計時間を短縮できる液晶表示装置用パターンレイアウトの作成方法を提供する。 - 特許庁

In the method of the invention, the arranged design is formed into a "durable image material" forming at least a part of the design layer within the print pattern, and the arranged design is not formed into a durable image material outside the print pattern.例文帳に追加

本方法においては、印刷パターン内において、配置されたデザインはデザイン層の少なくとも一部を形成する「耐久性イメージ材」に成され、印刷パターン外において、配置されたデザインは耐久性イメージ形成材に成されない。 - 特許庁

The measuring unit 3 measures the distance between a dummy pattern and the other pattern based on the layout design data including an element pattern constituting the circuit element of a semiconductor device and a dummy pattern not constituting the circuit element.例文帳に追加

測定部３は、半導体装置の回路素子を構成する素子パターンと、回路素子を構成しないダミーパターンと、を含むレイアウト設計データに基づいて、ダミーパターンと他のパターンとの間隔を測定する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus and method for inspecting a pattern to-be-inspected by using an image of the pattern to-be-inspected and data for fabricating the pattern to-be-inspected such as design data.例文帳に追加

検査対象パターン画像と、設計データ等の検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査対象パターンを検査するパターン検査装置および方法を提供する。 - 特許庁

In the process of forming a pattern with a design tool, a desired pattern to be formed on a photomask and a circular pattern in the size corresponding to a wafer diameter with reversed positive/negative images are prepared.例文帳に追加

設計ツールでのパターン作成時に、フォトマスク上に形成したいパターンと、ウエハ径に相当する大きさの円形パターンをポジ・ネガ反転させたパターンを用意する。 - 特許庁

To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.例文帳に追加

基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁

To provide a lithography correcting system which forms a resist pattern nearer to design dimensions for forming the resist pattern crossing perpendicularly to a pattern on a substrate having steps.例文帳に追加

段差を有する基板上のパターンと直交するレジストパターンを形成する場合に、設計寸法により近いレジストパターンを形成可能なリソグラフィ補正システムを提供する。 - 特許庁

The simulation result of each part of the transfer pattern obtained by simulation is evaluated in each importance corresponding to each pattern constituting the design pattern (ST105 to ST111).例文帳に追加

シミュレーションによって得られた転写パターンの各部について、設計パターンを構成する各パターン部分に対応する重要度毎にシミュレーション結果の評価を行う（ST105〜ST111)。 - 特許庁

Although a general cutting pattern will be shown below, the order of parts shown in the plan below may be changed in some cases such as the cloth with a pattern or design that needs pattern matching or cloth with stain. 例文帳に追加

一般的な裁断図を示すが、柄合わせを必要とするもの、また傷があった場合などはこの縦で区切られた区画のものの順序が異なる場合がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス