「design pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

DESIGNING DEVICE FOR TIRE TREAD PATTERN ARRANGEMENT, DESIGNING METHOD FOR TIRE TREAD PATTERN ARRANGEMENT, AND RECORDING MEDIUM WITH TIRE TREAD PATTERN ARRANGEMENT DESIGN PROGRAM RECORDED例文帳に追加

タイヤトレッドパターン配列の設計装置、タイヤトレッドパターン配列の設計方法及びタイヤトレッドパターン配列設計プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁

To provide a correcting method for a mask pattern which can bring a pattern formed on a wafer through a photolithography process close to a design pattern.例文帳に追加

フォトリソグラフィプロセスを経てウエハ上に形成されるパターンをより設計パターンに近づけることのできるマスクパターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

Accordingly, painting operation in the case of a pattern design and joint-groove painting or the painting of the block-like pattern sections can be conducted at the pattern units.例文帳に追加

このようにすれば図柄設計や目地溝塗装あるいはブロック図柄部分の塗装の際の塗装操作が図柄単位で行なうことが出来る。 - 特許庁

A tendency of inducing wiring failures in a design layout pattern of a semiconductor device by lithography and processing is quantified as a score; whether the design layout pattern is good or not is discriminated by the score; and if the pattern is discriminated as good, a transfer layout pattern transferred from the design layout pattern is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

リソグラフィとプロセスによる半導体装置の設計レイアウトパターンでの配線不良の発生しやすさをスコアとして定量化し、このスコアに基づいて設計レイアウトパターンの良否を判定し、この良否の判定が良であれば設計レイアウトパターンを転写した転写レイアウトパターンを半導体基板上に形成する。 - 特許庁

To improve design efficiency of a pattern by individually defining a basic pattern and a correction rule on pattern formation, in pattern forming data to be used on forming a geometric pattern on a substrate.例文帳に追加

基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データにおいて、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上する。 - 特許庁

The print 1 has a structure for superposing and imprinting a ground pattern or a design pattern on a parallel line pattern 3 using a hue having substantially the complementary color relationship between the hue of the pattern 3 and the hue of the latter pattern.例文帳に追加

該印刷は、万線パターン上に地紋や模様パターンを重ね印捺する構造で、万線パターンの色相と後者パターンの色相とが実質的に互いに補色関係にある色相を用いる。 - 特許庁

A pattern most approximate to the design pattern is selected from the finely processed test resist patterns, and the test pattern used for the formation of the selected pattern is adopted as a correction pattern (S4, S8).例文帳に追加

微細化されたテスト用レジストパターンの中から前記設計パターンに最も近いパターンを選択し、選択されたパターンの形成に用いたテスト用パターンを補正パターンとして採用する（Ｓ４，Ｓ８）。 - 特許庁

In the pattern forming method for forming a transfer pattern for a design pattern by performing lithographic processing, the line width measuring position of the design pattern is extracted on the basis of a previously set condition and a length measuring position recognition pattern is added to the extracted position (ST101).例文帳に追加

リソグラフィ処理を行うことで設計パターンの転写パターンを形成するパターン形成方法において、予め設定された条件に基づいて設計パターンにおける線幅測長箇所を抽出し、抽出箇所に測長箇所認識パターンを追加する（ST101）。 - 特許庁

When a drawing pattern is converted from design data to manufacture data, the direction of a figure pattern 1 in the design data is determined according to an advantageous process direction of the pattern data process tool to be used.例文帳に追加

描画パターンを設計データから製造データに変換する際に、使用するパターンデータ処理ツールの処理方向得意性に応じて、前記設計データにおける図形パターン１の向きを設定する。 - 特許庁

The design device generates an outer serif pattern and an inner serif pattern to an optical proximity effect of a circuit pattern included in design data 21, and converts intermediate data 23 including them to drawing data 24.例文帳に追加

設計装置は、設計データ２１に含まれる回路パターンの光学的近接効果に対するアウターセリフパターンとインナーセリフパターンを生成し、それらを含む中間データ２３を描画データ２４に変換する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, capable of efficiently and uniformly performing formation and correction of pattern design data along a production process of semiconductor device or a request on pattern design process.例文帳に追加

パターンの設計データの作成および修正を、半導体装置の製造プロセスやパターン設計プロセス上の要請に沿って効率良く、かつ、均一に行うことができるパターン作成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a design coating method by which a design pattern such as woodgrain pattern, stone grain pattern is imparted to a base material such as plastic or wood by an efficient method which is preferable in terms of environmental sanitation.例文帳に追加

プラスチックや木材などの基材に対して、木目調、石目調などの意匠模様を、環境衛生面から好ましく、かつ効率的な方法で付与することができる意匠塗装方法を得る。 - 特許庁

To provide an image formation device for balancing a design pattern effect with a recognition rate of a dot pattern with respect to code information-embedding data with a design pattern function; and an image processing method of an image formation device.例文帳に追加

地紋機能付きのコード情報埋め込みデータに対して地紋効果とドットパターンの認識率の両立を可能とする画像形成装置及び画像形成装置の画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical structure having a design pattern which is visible in a default state that does not use backlight, wherein the design pattern does not interfere with viewing of a design pattern appearing with the backlight, and to provide an optical display device.例文帳に追加

バックライトを使用しないデフォルト状態で目視可能な意匠パターンを有するとともに、その意匠パターンがバックライトで浮かび上がる意匠パターンの目視の妨げにならないような光学構造体及び光学表示装置を提供すること。 - 特許庁

Reference image data corresponding to an optical image is created on the basis of design pattern data.例文帳に追加

設計パターンデータから光学画像に対応する参照画像データを作成する。 - 特許庁

To precisely execute a design rule check with a circuit pattern which CAD data represents.例文帳に追加

ＣＡＤデータが示す回路パターンに対して、精度良くデザインルールチェックを実行する。 - 特許庁

The tatami mat and the straw mat used as the surface of the tatami mat printed with the pattern and design may be obtained by printing the treated surface with the continuous fine and clear pattern and design using the finish ink.例文帳に追加

絵柄図柄を印刷した畳および畳表は、下地処理した面に仕上げインキを用いて連続した繊細鮮明な絵柄図柄を印刷したものでもよい。 - 特許庁

GRADIENT MAGNETIC FIELD COIL DEVICE, NUCLEAR MAGNETIC RESONANCE IMAGING DEVICE, AND COIL PATTERN DESIGN METHOD例文帳に追加

傾斜磁場コイル装置、核磁気共鳴撮像装置、および、コイルパターンの設計方法 - 特許庁

If the design image is not generated from the dot pattern image yet, magnification processing is performed upon a bit map image which becomes the base of the design image, and dot pattern formation processing is then executed.例文帳に追加

まだドットパターン画像で生成されていない場合は、地紋画像のベースとなるビットマップ画像に対して変倍処理を実行し、その後、ドットパターン形成処理を実行する。 - 特許庁

On a rear side of a display plate 67 is printed a design pattern, and a center portion and a peripheral portion of the design pattern are imaged by a camera unit 30 to find a best focus position.例文帳に追加

表示プレート６７の背面に図柄パターンがプリントされ、この図柄パターンの中央部と周辺部とをカメラユニット３０で撮像してベストピント位置を求める。 - 特許庁

Circuit design data of a circuit pattern of an array substrate is inputted into a CAD system.例文帳に追加

ＣＡＤシステムにアレイ基板の回路パターンの回路設計データを入力する。 - 特許庁

To provide a pattern-inspecting device for reducing unneeded inspection time caused by the pattern defect of design-side data due to the inconveniences of a design data development circuit.例文帳に追加

設計データ展開回路の不具合による設計側データのパターン欠陥に起因する無駄な検査時間を削減することが可能なパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

a design consisting of a pattern of varicolored diamonds on a solid background (originally for knitted articles) 例文帳に追加

同一調の地（元来ニット製品の）の多彩なひし形のパターンからなるデザイン - 日本語WordNet

SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, DESIGN SUPPORT SOFTWARE SYSTEM, AND AUTOMATIC TEST PATTERN GENERATION SYSTEM例文帳に追加

半導体集積回路、設計支援ソフトウェアシステム、および、テストパターン自動生成システム - 特許庁

Circuit design of a circuit pattern of an array substrate reusing the network list is made possible.例文帳に追加

ネットリストを再利用したアレイ基板の回路パターンの回路設計が可能となる。 - 特許庁

A design rule checker 115 subsequently processes the marked layout pattern and validates all but the marked patterns of the second layout pattern against a set of specified design rules.例文帳に追加

デザインルールチェッカー115は続いてマークされたレイアウトパターンを処理し、特定のデザインルールのセットに照らして、第２レイアウトパターンのマークされたパターンを除いた全てについて検証する。 - 特許庁

A sheet 1 is a sheet made of a synthetic resin which is previously colored and executed with a design pattern.例文帳に追加

シート１は、予め色、柄模様が施されている合成樹脂製シートである。 - 特許庁

One embodiment of the method includes acquiring a field image in a reticle design pattern.例文帳に追加

１つの方法は、レティクル設計パターン内のフィールドの像を獲得することを含む。 - 特許庁

The display filter includes a plurality of design pattern filters 111, 112, and a blindfold filter 113.例文帳に追加

複数の意匠パターンフィルタ１１１，１１２と、目隠しフィルタ１１３とを備える。 - 特許庁

To provide a method for creating design pattern data to reduce the TAT (turn around time).例文帳に追加

ＴＡＴの短縮を図れる設計パターンデータ作成方法を提供すること。 - 特許庁

Consequently, the efficiency regarding the design of the arrangement pattern is enhanced, the labor of the person in charge of the design is relieved and determination of the arrangement pattern is assisted.例文帳に追加

したがって配置パターン設計にかかる効率を向上し、設計担当者の手間を低減させることができ、配置パターンの決定を支援することができる。 - 特許庁

Interference pattern information 17 is outputted by a pattern matching verification system 15, and the interference pattern information 17 and design rules 11 are compiled to extract design rules to be applied to the interference pattern information 17, by a physical verification system 16, and design rules are referred to verify the design rules between a comparison cell list 13 and the interference pattern information 17.例文帳に追加

パターンマッチング検証システム１５によって干渉パターン情報１７が出力され、物理検証システム１６によって、干渉パターン情報１７とデザインルール１１とがコンパイルされることによって干渉パターン情報１７に適用されるデザインルールが抽出され、デザインルールを参照して、比較セルリスト１３と干渉パターン情報１７との間にてデザインルールの検証が行われる。 - 特許庁

To compare a pattern image of design data with a pattern image of a reticule mask by a parameter which can be numerized.例文帳に追加

数値化が可能なパラメータで、設計データのパターン画像とレチクルマスクのパターン画像とを比較することを課題とする。 - 特許庁

To reduce a deviation of a resist pattern formed on a resist after development from a pattern based on a design due to the loading effect.例文帳に追加

ローディング効果により現像後にレジストに形成されるレジストパターンと設計上のパターンとのズレを軽減すること。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method for efficiently performing lithography rule check on a design pattern after optical proximity correction.例文帳に追加

光近接効果補正後の設計パターンに対して効率的にリソグラフィールールチェックを行うパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR CREATING DESIGN PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING MASK PATTERN DATA, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

設計パターンデータ作成方法、マスクパターンデータ作成方法、マスク製造方法、半導体装置の方法およびプログラム - 特許庁

To form a fine via pattern while reducing the man-hours for pattern design, the number of sheets of use masks and the deviation of superposition.例文帳に追加

パターン設計工数、使用マスク枚数及び重ね合わせずれを低減しつつ、微細なビアパターンの形成を可能にする。 - 特許庁

To provide a technology making the area to be obtained of an actual pattern close to the area of a design pattern in an ink jet process.例文帳に追加

インクジェットプロセスにおいて、得られる実パターンの面積を設計パターンの面積に近づける技術を提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR CREATING DESIGN PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

設計パターンの作成方法、フォトマスクの製造方法、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR DESIGNING DUMMY PATTERN, EXPOSURE MASK, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND DESIGN PROGRAM OF DUMMY PATTERN例文帳に追加

ダミーパターンの設計方法、露光マスク、半導体装置、半導体装置の製造方法およびダミーパターンの設計プログラム - 特許庁

OPTICAL PATTERN DESIGN METHOD, MANUFACTURE OF OPTICAL PATTERN, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, SHOT BLAST DEVICE, AND ABRASIVE GRAIN SORTING DEVICE例文帳に追加

光学パタ—ン設計方法、光学パタ—ン製造方法、液晶表示装置、ショットブラスト装置及び砥粒選別装置 - 特許庁

To provide a pattern habit visualizing apparatus, a design confirming method and a program where a pattern habit of a medium having a rugged pattern on a surface can be confirmed by an image.例文帳に追加

表面に凹凸模様を有する媒体の柄癖を、画像にて確認可能な柄癖可視化装置、意匠確認方法、及びプログラムを提供する。 - 特許庁

Measuring pattern data for acquiring measured pattern data of the pattern of the sample to be inspected is compared with developing pattern data for generating the developing pattern data corresponding to the measuring pattern data from design data of the sample to be inspected, so as to detect the defect of the pattern of the sample to be inspected.例文帳に追加

被検査試料のパターンの測定パターンデータを取得する測定パターンデータと、被検査試料の設計データから測定パターンデータに対応した展開パターンデータを生成する展開パターンデータとを比較して被検査試料のパターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

The design by the design body 3 can be, especially, a figure of a regular pattern, an emblem or a combination of them.例文帳に追加

意匠体３に係る意匠を特に、規則的なパターンを有する模様、標章、あるいはこれらの結合とすることができる。 - 特許庁

To provide an original design by providing a cover member for displaying a pattern of a character, a design, etc., on the front side of a windmill.例文帳に追加

風車の前面に任意のキャラクター、デザイン等図案を表示した蓋部材を覆設してオリジナリティのあるものを提供する。 - 特許庁