「design pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To control a pattern (design or diagram) to be printed on a plate product made by extrusion molding of a plastic so as to vary the pattern.例文帳に追加

それぞれのプラスチック押出成形による板材製品に印刷されるパターン(模様または図形)を制御し、パターンを異ならせる。 - 特許庁

To provide a block for performing efficient laying work and providing the laying pattern of a joint pattern having an excellent design property.例文帳に追加

効率的な敷設作業が可能でありながら、意匠性に優れた目地模様の敷設パターンを得ることができるブロックを提供する。 - 特許庁

(Step S2) A dummy pattern is inserted between design patterns of the division regions as shown in a division region enlarged view A of a layout pattern 1c.例文帳に追加

レイアウトパターン１ｃの分割領域拡大図Ａに示すように、分割領域の設計パターン間にダミーパターンを挿入する（ステップＳ２）。 - 特許庁

To provide an apparatus for printing a building plate capable of sequentially printing a pattern of a design pattern of many variations on respective building plates.例文帳に追加

豊富なバリエーションの柄模様のパターンを，各建築板に順次印刷することができる建築板の印刷装置を提供すること。 - 特許庁

To rapidly engrave a fine design pattern on a pattern pressing roll at low cost.例文帳に追加

緻密な意匠パターンを絞押しロール上に迅速にかつ低廉に彫刻することができる絞押しロールの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To achieve the proper capacity design and evaluation of a capacitor power source according to a load pattern.例文帳に追加

負荷パターンに応じて適切なキャパシタ電源の容量設計、評価を行えるようにする。 - 特許庁

To obtain a design pattern for a chip whose size is smaller than before and whose finish shape is guaranteed.例文帳に追加

従来よりも小さいチップサイズのパターンで、仕上がり形状が保証された設計パターンを得る。 - 特許庁

To increase a degree of integration of a circuit by allowing degrees-of- freedom for a writing pattern design of display part peripheral circuits.例文帳に追加

表示部周辺回路の配線パターン設計に自由度を与え、回路の集積度を上げる。 - 特許庁

To provide a pneumatic tire capable of reducing noise without changing design of basis of a block pattern.例文帳に追加

ブロックパターンの基調のデザインを変えずに騒音を改良できる空気入りタイヤを提供すること。 - 特許庁

AUTOMATIC PATTERN GENERATION SYSTEM, METHOD AND EQUIPMENT DATA AUTOMATIC DISTRIBUTION SYSTEM FOR AUTOMATIC DESIGN DEVICE例文帳に追加

自動絵柄作成システム及び方法、並びに自動設計装置用設備機器データ自動配信システム - 特許庁

Next, a separately prepared stone piece design is glued into each stone piece pattern (S3).例文帳に追加

次に、別途用意した石片模様を石材モデル内の各石片パターンに貼り込む（ステップＳ３）。 - 特許庁

MASK PATTERN DESIGN TO IMPROVE QUALITY UNIFORMITY IN LATERALLY CRYSTALLIZED POLYCRYSTALLINE Si FILM例文帳に追加

横方向に結晶化した多結晶ＳＩ膜の品質の均一性を向上させるマスクパターン設計 - 特許庁

To easily decorate the surface of a resin even with a fine pattern design in simple facilities at low cost.例文帳に追加

微細なパターンの意匠でも容易に、簡素な設備で、低コストで、樹脂表面に加飾する。 - 特許庁

To provide a radio IC tag capable of easily corresponding to a change in the design of an antenna pattern.例文帳に追加

アンテナパターンのデザイン変更に容易に対応することのできる無線ＩＣタグを提供する。 - 特許庁

It was similar to amber weave (taffeta) in its elaboration, and had a raised stripe design and willow branch pattern. 例文帳に追加

緻密なところは琥珀織（タフタ）に似て、浮線紋や柳条の模様が浮き出たものであった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Forget about trying to remember how the design pattern is actually structured.例文帳に追加

デザインパターンが実際にどのような構造になっているかを記憶しようとすることは忘れてください。 - NetBeans

To provide a method of effectively manufacturing a wood-cement board having an uneven design pattern.例文帳に追加

生産効率良く凹凸意匠面を有する木質セメント板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pneumatic tire capable of reducing noise without changing a key design of a block pattern.例文帳に追加

ブロックパターンの基調のデザインを変えずに騒音を改良できる空気入りタイヤを提供すること。 - 特許庁

This patterned twisted yarn lace, a Raschel lace, is made by the use of design twisted yarn as the pattern yarn as shown in Fig.1, Fig.2, and Fig.3.例文帳に追加

この発明のラッセルレースは、柄糸に図１、図２、図３の如く意匠撚糸を使用した。 - 特許庁

Both of the original embroidery fabric 13 and the embroidery-stitched 14 design pattern 16 is transfer-copied to the transfer film 11.例文帳に追加

元刺繍布地１３も刺繍１４した絵柄模様１６を転写フィルム１１にコピーする。 - 特許庁

To design the wiring pattern of a semiconductor device efficiently by a simple means while taking account of the effect of parasitic capacitance from the start of design.例文帳に追加

簡易な手段によって、設計当初から寄生容量の影響を考慮した半導体装置の配線パターンの設計を効率良く行う。 - 特許庁

To provide a design method, a design device and a program for a semiconductor device, that can form a dummy pattern with suitable density.例文帳に追加

適切な密度のダミーパターンを生成することができる半導体装置の設計方法、設計装置及びプログラムを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an aluminum material which utilizes coarse crystal grain structural pattern as a design and has more improved design characteristic.例文帳に追加

粗大結晶粒組織模様を意匠として利用したアルミニウム素材であって、より改良された意匠性を有するアルミニウム素材を提供する。 - 特許庁

His extraordinary sense of design brought about the term Korin Moyo (Korin Pattern), which significantly influenced Japan's current-day paintings, craftwork and design. 例文帳に追加

その非凡なデザイン感覚は「光琳模様」という言葉を生み、現代に至るまで日本の絵画、工芸、デザイン等に与えた影響は大きい。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a wiring design support apparatus and a wiring design support method capable of easily forming a three-dimensional wiring pattern in a short time.例文帳に追加

３次元の配線パターンを短時間かつ簡単に形成できる配線設計支援装置及び配線設計支援方法を提供すること。 - 特許庁

To enhance the productivity of a board molded product having a grain-like decorative pattern formed to the design surface thereof and to also well keep the quality of the design surface.例文帳に追加

意匠面に木目調の装飾模様を備えたボード成形品の生産性を高め、かつ意匠面の品質も良好に保持する。 - 特許庁

A business object similar to the request of the user 10 is extracted by comparing design patterns of the business objects by a design pattern analyzing part 103.例文帳に追加

デザインパターン分析部１０３は、ビジネスオブジェクトのデザインパターンを比較することにより、ユーザ１０の要求に類似したビジネスオブジェクトを抽出する。 - 特許庁

To provide a wiring design system allowing relatively reasonable wiring design, and capable of creating a reasonable and high-density wiring pattern in a single-layer board.例文帳に追加

より合理的な配線設計を可能とし、単一層の基板において、合理的で且つ高密度な配線パターンの作成を可能とする。 - 特許庁

To solve a problem that, although there has been a method of evaluating pattern shapes of electronic devices by using design data or a non-defective pattern as a reference pattern, the pattern shape cannot be evaluated with high accuracy because of difficulty in defining an exact shape suitable for manufacturing conditions of the electronic devices by the design data or the non-defective pattern.例文帳に追加

設計データや良品パターンを参照パターンとして、電子デバイスのパターン形状を評価する方法があるが、設計データや良品パターンでは、電子デバイスの製造条件に適合した形状を正確に定義することが困難であり、パターンの形状を高精度に評価することができない。 - 特許庁

The ceramic building plate 1 is formed with the designed pattern 301 in the design projection 21 even at an end 211 close to the continuous joint part 22, and the designed pattern part 301 has a non-continuous design pattern 302 which is not continuously formed even in an adjacent design projection 210 formed adjacent to the described design projection 21 through the continuous joint part 22.例文帳に追加

窯業系建築板１は，意匠凸部２１に，連続目地部２２に近接する端部２１１まで意匠模様３０１が形成してあるが，意匠模様３０１は，当該意匠凸部２１と連続目地部２２を介して隣り合う隣接意匠凸部２１０までは連続して形成されていない不連続意匠模様３０２を有している。 - 特許庁

The defect inspection of the design pattern 3 and the defect inspection of the monitor pattern 5 are performed by using the defect inspection apparatus and after the defect of the monitor pattern 5 is confirmed to be detectable by the defect inspection apparatus, the defect of the design pattern 3 detected in the defect inspection is corrected.例文帳に追加

そして、欠陥検査装置を用いて設計パタン３の欠陥検査およびモニタパタン５の欠陥検査を行い、欠陥検査装置によってモニタパタン５の欠陥が検出可能であることを確認した後、欠陥検査において検出された設計パタン３の欠陥を修正する。 - 特許庁

In a package design simulation method, a container as a package with a specific pattern (for example, a lattice pattern) is photographed from plural prescribed points of view (S10, S12), and the data of the container picture are inputted to a package design simulation device (S14).例文帳に追加

特定パターン（例えば格子パターン）を付与したパッケージとしての容器を所定の複数視点から撮影し（Ｓ１０，Ｓ１２）、容器画像のデータをパッケージ意匠シミュレーション装置に入力する（Ｓ１４）。 - 特許庁

In a next size correction quantity determining process (ST15), the size correction quantity of a design pattern of a photomask is determined according to the calculated mean value, so that the transfer pattern has specific design values.例文帳に追加

次の寸法補正量決定工程ＳＴ１５において、算出した平均値に基づいて、転写パターンが所定の設計値となるようにフォトマスクの設計パターンの寸法補正量を決定する。 - 特許庁

After a design data D100 of a photomask to regulate positions where a circuit pattern and an auxiliary pattern are to be laid is prepared, a corrected exposure data D200 is prepared by using the design data D100.例文帳に追加

回路パターン及び補助パターンが配置される位置を規定するフォトマスクの設計データＤ１００を用意した後、前記設計データＤ１００を利用して補正された露光データＤ２００を用意する。 - 特許庁

In performing the correction of proximity effect to a design pattern with which the structural layer of a semiconductor device can be designed, first, a plurality of divided areas DA are formed by dividing the whole area of a design pattern.例文帳に追加

半導体装置の構成層を設計する設計パターンに近接効果の補正をするにあたって、まず、設計パターンの領域全体を等分して複数の分割領域ＤＡを生成する。 - 特許庁

To provide an exposure mask which can form a design pattern having roughness and fineness in compliance with design data with good accuracy and a method of manufacturing the same, and a method of forming a transfer pattern using this exposure mask.例文帳に追加

疎密を有する設計パターンを設計データ通りに精度よく形成することが可能な、露光マスクその製造方法、ならびにこの露光マスクを用いた転写パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A pattern is extracted by performing registration p1 of a pattern image with respect to a critical portion of the reference mask and registration p2 of a pattern in a critical portion of design data and applying extraction p4 of the critical pattern portion to a pattern image acquired by acquisition p3 of the pattern image of an inspection target mask.例文帳に追加

基準マスクのクリティカル部分についてのパターン画像の登録Ｐ１と、設計データのクリティカル部分のパターンの登録ｐ２を行い、検査対象マスクのパターン画像の取得ｐ３によって得たパターン画像に対してクリティカルパターン部の抽出処理ｐ４を施すことでパターンを抽出する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional pattern ornament which can present a three-dimensional pattern prepared by enlarging a dot-shaped pattern formed in a desired design, as a moire pattern having a gradation wherein the pattern turns gradually into a thin state from a dense region toward a thin region.例文帳に追加

所望する図柄に形成されたドット状の模様を拡大してなる立体模様を密領域から粗領域に向けて徐々に粗状態となるようなグラデーションのモアレ模様に現出することができる立体模様装飾体を提供する。 - 特許庁

Each design pattern 5 is partitioned to form a design part 6 with a plurality of vertical grooves 6a arranged; a design part 7 with a plurality of lateral grooves 7a arranged; a design part 8 with a plurality of inclined grooves 8a arranged downward to the right; and a design part 9 with a plurality of inclined grooves 9a arranged downward to the left.例文帳に追加

各意匠パターン５に、縦溝６ａを複数並べた意匠部６と、横溝７ａを複数並べた意匠部７と、右下がり傾斜溝８ａを複数並べた意匠部８と、左下がり傾斜溝９ａを複数並べた意匠部９とを区画して形成する。 - 特許庁

A device for evaluating a pattern form comprises a design data storage section 1, an evaluation region production section 2, a pattern image acquisition section 3, a pattern contour detection section 4, a data synthesis section 5, and a pattern form measurement section 6.例文帳に追加

パターン形状評価装置は、設計データ記憶部１と、評価領域生成部２と、パターン画像取得部３と、パターン輪郭検出部４と、データ合成部５と、パターン形状計測部６とを備えている。 - 特許庁

The inspection of pattern is carried out materially by measuring the deviation between both data through the comparison of the profile of pattern with the design data of CAD or the like or by operating the size or the like of the circuit pattern from the profile of pattern.例文帳に追加

パターン検査は、具体的には、パターンの輪郭とＣＡＤ等の設計データとを比較して両者のずれを計測したり、パターン輪郭から回路パターンの寸法等を算出することにより実行される。 - 特許庁

It is possible in the pattern inspection device 1 to inspect a minute pattern on the substrate 9 on the basis of the design data 81.例文帳に追加

これにより、パターン検査装置１では設計データ８１に基づいて基板９上の微小なパターンの検査を精度よく行うことができる。 - 特許庁

To exactly obtain a distribution of a line width difference between a pattern which is constituted on a mask and a design pattern, or a distribution of positional errors of these patterns.例文帳に追加

マスク上に形成されたパターンと設計パターンとの線幅の差の分布、または、これらのパターンの位置ずれ量の分布を正確に求める。 - 特許庁

In addition, comparison with design data is performed to inspect if a desired circuit pattern is gained (step S307) through pattern matching (step S306).例文帳に追加

さらに、パターンマッチングを行って（ステップＳ３０６）、設計データとの比較により所望の回路パターンが得られたかを検査する（ステップＳ３０７）。 - 特許庁

To efficiently design a geometric pattern to be formed on a substrate, and moreover, to easily change the designs of a pattern.例文帳に追加

基板上に形成される幾何学的パターンの設計を効率化することを主な目的とし、さらには、パターンの設計変更を容易に行う。 - 特許庁