| 意味 | 例文 |
design patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1574件
A direct exposure device directly exposes the circuit pattern to a resist on the substrate based on design data of a theoretical circuit pattern created beforehand (step S2).例文帳に追加
ダイレクト露光装置が、予め作成した理論回路パターンの設計データに基づいて、基板上のレジストに直接に回路パターンを露光する(ステップS2)。 - 特許庁
In a data division process 103, input mask layout design data are divided into a plurality of layout pattern groups according to the layout pattern division condition.例文帳に追加
データ分割工程103では、入力されたマスクレイアウト設計データを前記レイアウトパターン分割条件に従って複数のレイアウトパターン群に分割する。 - 特許庁
At this time, the orderer 10 assigns and checks a design pattern of the photographic postcard and a layout pattern of the image on a screen of a personal computer 1 and places the order.例文帳に追加
このとき、注文者10は、パソコン1の画面上で、写真はがきのデザインパターンや画像のレイアウトパターンの指定・確認を行い、申込を行う。 - 特許庁
To provide a method for forming a back surface pattern, capable of controlling the size of the pattern corresponding to design effect required at the time of simultaneous coating of many colors.例文帳に追加
多色同時に塗装する際に、要求される意匠性に応じて模様の大きさをコントロールできる裏面模様の形成方法を提供する。 - 特許庁
To apply a design of a color pattern and a concave and convex pattern synchronizing with each other even on a curved surface shape part, and to apply an excellent appearance having concave and convex impression.例文帳に追加
曲面形状部分にまで着色模様と凹凸模様が同調した意匠を付与するとともに、凹凸感のある優れた外観を付与する。 - 特許庁
To prevent the impairment of design due to a shift between a floor pan body pattern and a drain hole cover pattern when the patterns have directionality and regularity.例文帳に追加
模様に方向性や規則性がある場合に、床パン本体の模様と排水口カバーの模様とがずれてデザイン性が損なわれることのないようにする。 - 特許庁
The process from process design to machining pattern formation includes a reverse problem simulation process for obtaining a machining process and a machining pattern from designed device structure.例文帳に追加
プロセス設計から加工パターン生成に至る工程には、設計デバイス構造から加工プロセス及び加工パターンを求める逆問題シミュレーション工程が含まれる。 - 特許庁
To provide a method capable of easily forming a decorative pattern having durability and design effect, and an adherend having a pattern formed thereto by this method.例文帳に追加
耐久性があり、意匠性を有する装飾模様を容易に形成することのできる方法、および該方法により模様が形成された被着体の提供。 - 特許庁
A layer definition part 26 defines different layer numbers to an oblique wiring pattern and a via cell pattern included in layout data of a semiconductor integrated circuit design, respectively.例文帳に追加
レイヤ定義部26は、半導体集積回路設計のレイアウトデータに含まれる斜め配線図形とビアセル図形に対し各々異なったレイヤ番号を定義する。 - 特許庁
The developed model is applied to the optical simulation, using the layout design pattern data of a semiconductor integrated circuit to form a light intensity pattern (S21, S22, S23).例文帳に追加
半導体集積回路のレイアウト設計パターンデータを用いる光学シミュレーションに前記モデルを適用して光強度パターンを形成する(S21,S22,S23)。 - 特許庁
Since the evaluation is performed by using a circuit design value and actual pattern layout data, the more precise and highly accurate evaluation based on the actual pattern layout is performed.例文帳に追加
回路設計値と実際のパターンレイアウトデータを用いて評価するので、実際のパターンレイアウトに即した、より正確で高精度な評価が行える。 - 特許庁
According to a literature of early Muromachi period, the pattern was the Kiri, take, hoo mon (the design of paulownia, bamboo and phoenix), which was the same as Korozen no goho (a cloth that an emperor put on when he or she performed an important ritual), and the pattern was first weaved and then dyed. 例文帳に追加
室町時代初期の書によると、文様は黄櫨染御袍と同様の桐竹鳳凰文であり、文様を織ってから後染めした。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
implements Observer design pattern. It is possible to add Listeners adds a customizable monitor pattern to display a progress bar. 例文帳に追加
Observer パターンを実装しており、Listener を追加することが可能 カスタマイズ可能なモニターパターンによるプログレスバーの表示により、ユーザ側で好きなときに進捗表示を中断可能 - PEAR
To provide a means for detecting the failure of a circuit pattern accurately with high speed by comparing the pattern, formed on a photo mask or a wafer, with design data.例文帳に追加
フォトマスクやウエハ上に形成されたパターンを、設計データとの比較により、回路パターンの欠陥を精度良く、かつ高速に検出する手段の提供。 - 特許庁
In a supporting apparatus 11, design three-dimensional configuration data for indicating a three-dimensional configuration that is the design data of the forging are compared with the measuring three-dimensional configuration data, the distortion pattern of the forging is examined, and hence distortion pattern data are acquired.例文帳に追加
支援装置11では、鍛造品の設計データである3次元形状を表す設計3次元形状データと計測3次元形状データとを比較して鍛造品の歪パターンを調べて歪パターンデータを得る。 - 特許庁
Resolution of an area of an end edge at the flat surface part 3 side of the design pattern in the recession part 2 and an area of an end edge at the recession part 2 side of the design pattern in the flat surface part 3 becomes lower than that of the other area.例文帳に追加
凹部2における意匠模様の平面部3側の端縁の領域と、平面部3における意匠模様の凹部2側の端縁の領域では、他の領域よりも解像度が低くなっている。 - 特許庁
The exposure mask is provided with a design pattern 3 which forms an actual device and a monitor pattern which possesses a defect having the smallest defect size exceeding a permissible range and further a defect detectable by a defect inspection apparatus and having the defect size within the permissible range together with the design pattern.例文帳に追加
露光マスクに、実デバイス形成用の設計パタン3と共に、許容範囲を越える最小の欠陥サイズを有する欠陥、さらには欠陥検査装置による検出が可能でかつ許容範囲内の欠陥サイズを有する欠陥を備えたモニタパタンとを設ける。 - 特許庁
Though the winding route of the many turn-side coil pattern 3L is almost fixed and the degree of freedom for design of the pattern 3L is low, the degree of freedom for setting the winding route of the less-turn side coil pattern 3L becomes higher accordingly to the reduced number of turns of the pattern 3S.例文帳に追加
多ターン側コイルパターン3Lの巻回経路はほぼ定まってしまい、その設計の自由度は低いのに対して、少ターン側コイルパターン3Sは、巻回数が少ない分、その巻回経路の設定の自由度は高くなる。 - 特許庁
To provide a layout creation device and a manufacturing method for a semiconductor circuit for preventing occurrence of a pseudo error in checking a design rule due to coexistence of an actual circuit pattern and a dummy pattern in a layout pattern for performing an accurate and reliable design rule check on the actual circuit pattern.例文帳に追加
レイアウトパターンにおける実回路パターンとダミーパターンとの混在に起因したデザインルール・チェック時の擬似エラーの発生を解消して、実回路パターンに対する正確で信頼性の高いデザインルール・チェックを行うことを可能とした半導体集積回路のレイアウト作成装置および半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁
In order to generate the two-dimensional code having the optional design as the pattern, a two-dimensional code having a part closest to the pattern is generated using a computer and the pattern of the two-dimensional code is rewritten so that the pattern of the two-dimensional code may become identical or similar to the specified design most within a range that no reading error is generated.例文帳に追加
任意のデザインを模様として持つ二次元コードを生成するため、コンピュータを利用してその模様に最も近い部分をもつ二次元コードを生成し、読み取りエラーが発生しない範囲で二次元コードの模様を指定のデザインと同一または最も類似するよう、二次元コードの模様を書き換える。 - 特許庁
To provide a molding device by which a design face can be effectively cooled, and the design face can be easily maintained at a desired temperature or higher when transferring a molding pattern formed in the design face to the molding material.例文帳に追加
意匠面を効率的に冷却できるとともに、意匠面に形成された成型パタンの成型材料への転写時に、意匠面を所望の温度以上に保つことが容易な成型装置を提供する。 - 特許庁
A design person in charge or engineer uses this data to produce a derivation rod pattern design for simulation and can determine whether any operator parameter needs to be controlled (for example, controlling a blade notch position) for eventually complete a rod pattern design concerning a specific core.例文帳に追加
設計担当者又は技術者はこのデータを使用して、シミュレーションのための派生ロッドパターンデザインを作成し、最終的には特定の炉心に関するロッドパターンデザインを完成するために、どのオペレータパラメータを調整する(例えば、ブレードノッチ位置を制御する)必要があるかを判定することができる。 - 特許庁
In this method for forming the textile design, the textile design is drawn by being overlapped with a basic pattern for the textile design of which the front view 10 and the rear view 12 are each formed by projecting proportion of the human body, using a reduced scale similar to a scale used in forming the paper pattern of clothing, and jointly using designing ability.例文帳に追加
意匠図原型正面図10、及び背面図12は、人体プロポーションを投影して作成した意匠図原型であり、この意匠図原型に重ねて、被服の型紙の作成に用いるのと同様の縮尺定規を使用し、かつデッサン力も併用しながら、意匠図を描く。 - 特許庁
A defective portion of a wafer process on a design layout can be extracted by specifying design restriction conditions according to the number of vertexes in a polygonal figure included in a given region of the design layout pattern, as well as the photomask data of the pattern is corrected.例文帳に追加
設計レイアウトパタンの任意の領域内に含まれるポリゴン図形の頂点数に応じた設計制約条件を規定し、該当パタンを抽出することで、設計レイアウト上のウェハプロセスの不具合箇所抽出を可能にするとともに、該当パタンのフォトマスクデータ補正を実施する。 - 特許庁
A two-dimensional blade cross section model design section 112 determines a two-dimensional blade cross section model by defining a two-dimensional cross section at each blade height with a fourth NURBS curve using information on a flow pattern obtained through a thermal design as well as a design variable held in a design variable section.例文帳に追加
二次元翼型設計部112は、熱設計からフローパターンの情報及び設計変数部に保持された設計変数を用いて、それぞれの翼高さ位置での二次元断面を4次のNURBS曲線で定義して、二次元翼型を決定する。 - 特許庁
To prepare a hairline pattern that goes along with a design of a draft and can represent texture of a grain pattern of the draft in a more real manner, particularly in the case the grain pattern is used as a draft.例文帳に追加
下絵の絵柄と同調したヘアラインパターンであって、しかも、特に、下絵として木目柄を用いた場合に、下絵の木目柄の質感をよりリアルに表現できるヘアラインパターンを作成する。 - 特許庁
A correction pattern comprising a plurality of correction edges is obtained by dividing a pattern edge of a design pattern into a plurality of portions to be corrected and applying optical proximity correction to each portion.例文帳に追加
設計パターンのパターンエッジを補正対象となる複数の部分に分割して当該各部分に対して光近接効果補正を行うことにより、複数の補正エッジからなる補正パターンを得る。 - 特許庁
Inside/outside pattern defining information that defines the inside and outside of a pattern formed on a sample object is generated by thinning design data for generating a sample pattern.例文帳に追加
検査対象試料を生成するためのデザインデータに対して細線化処理を行い、対象試料上に形成されたパターンの内側と外側を規定するパターン内外規定情報を生成する。 - 特許庁
An inspection pattern 400 is arranged in, for example, the pattern transfer area 110, other than the pattern massed area 112, which has no problem regarding device characteristics and design and its space can be secured.例文帳に追加
検査パターン400は,デバイス特性および設計上問題がなく,また検査パターン400のスペースが確保できる,例えばパターン密集領域112以外のパターン転写領域110に配置する。 - 特許庁
To obtain a molded article with an irregular pattern which is not provided by a secondary surface pattern but is provided by an internal structure of the molded article and is not a regular simple pattern but exhibits high design properties and high aesthetic properties.例文帳に追加
二次的な表面模様の付与ではなく、成形品の内部構造により、しかも規則的な単純模様でなく、意匠性、審美性の高い不規則模様を有する成形品を得ること。 - 特許庁
A lower limit of an interval between the auxiliary pattern 13 and the isolated line pattern 11c corresponds to a minimum space of a design rule and an upper limit is three times the width of the isolated line pattern 11c.例文帳に追加
また、上記補助パターン13と上記孤立ラインパターン11cとの間隔は、その下限がデザインルールの最小スペース分であり、その上限が該孤立ラインパターン11cの幅の3倍である。 - 特許庁
Major karakami patterns were a geometrical pattern (geometric design) such as arabesque of 'karakami' and a tortoiseshell pattern in an early stage, and the technical decorative pattern of paintings such as the Korin School from recent times. 例文帳に追加
からかみの紋様は、当初「唐紙」の唐草や亀甲紋様などの幾何学紋様が主流で、近世にはいって光琳派などの絵画の技巧的な装飾文様が多用されるようになった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To provide a design method for mask pattern in which an auxiliary pattern for improving a focal depth of an isolated pattern is arranged, with respect to a mask of performing exposure by using a light source having a direction dependence for resolution.例文帳に追加
解像特性に方向依存性を有する光源を用いて露光を行うマスクについて、孤立パターンの焦点深度を向上させる補助パターンを配置するマスクの設計方法を提供する。 - 特許庁
To provide a device for creating a mask pattern for creating layout design data capable of improving a data ratio.例文帳に追加
データ率を向上することが可能なレイアウト設計データを生成するマスクパターン生成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a building board having a block-tone pattern with a high grade design on the surface.例文帳に追加
本発明は表面に意匠性の高いブロック調模様を有する建築板を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a glazing apparatus capable of forming a design pattern such as shading, patches, or the like on roof tiles using one spray gun.例文帳に追加
一つのスプレーガンで瓦に濃淡、斑、その他のデザイン模様を形成することができる施釉装置を提供する。 - 特許庁
However, the design data and the resist pattern sometimes differ much in features due to an OPE (optical proximity effect).例文帳に追加
なお、設計データとレジストパターンは、OPE(光近接効果)により、形状は大きく乖離している場合がある。 - 特許庁
PNEUMATIC TIRE HAVING ANNULAR DECORATIVE ELEMENT FORMED WITH DESIGN SIMILAR TO TREAD PATTERN ON SURFACE OF SIDE WALL例文帳に追加
トレッド・パターンと類似する模様が形成された環状装飾体をサイドウオールの表面に備えた空気入りタイヤ - 特許庁
To provide a printed circuit board for keyboard capable of improving the latitude of the circuit pattern design of a keyboard.例文帳に追加
キーボード基板の回路パターン設計の自由度を向上可能なキーボードの印刷回路基板を提供すること。 - 特許庁
To provide a pachinko machine capable of easily peeling a game design plate off into a game board and a game pattern film.例文帳に追加
遊技意匠板を遊技基板と遊技図柄フィルムとに容易に剥離できるようにしたパチンコ機を提供する。 - 特許庁
Then, a calculation value for the image signal is calculated from design data of the absorber pattern (step S105).例文帳に追加
次に、吸収体パターンの設計データから画素信号の計算値を数値計算により求める(ステップS105)。 - 特許庁
The display plate 55 is easily detachably attached to the receiving part 62 so as to facilitate the change in the design pattern.例文帳に追加
表示プレート55は、受け部62から容易に着脱自在になっており、意匠パターンの変更が容易である。 - 特許庁
To provide a pattern forming method which can design a track width optimally according to a shape of a recording head or the like.例文帳に追加
記録ヘッドなどの形状に応じてトラック幅などを最適に設計し得るパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
The display plate 55 is easily detachably attached to the frame 62 so as to facilitate the change in the design pattern.例文帳に追加
表示プレート55は、フレーム62から容易に着脱自在になっており、意匠パターンの変更が容易である。 - 特許庁
This outer wall executing structure 1 is formed by vertically and laterlally joining outer wall plates 2 having the pattern to the design surface 21.例文帳に追加
意匠面21に柄模様を有する外壁板2を上下左右に接合してなる外壁施工構造1。 - 特許庁
To provide a woodgrain pattern sheet capable of reproducing the design of a natural woodgrain more real by printing or the like.例文帳に追加
印刷等により天然の木目の意匠をよりリアルに再現することができる木目模様シートを提供する。 - 特許庁
Arbitrary pattern drawing design data is transferred from a data server 6 to the arithmetic processing unit 5.例文帳に追加
演算処理ユニット5は、データサーバー6から任意のパターン描画設計データが演算処理ユニット5に転送される。 - 特許庁
A tolerance data generating part (16) generates tolerance data, corresponding to a target pattern set from design data.例文帳に追加
公差データ生成部(16)は、設計データに基づき設定されたターゲットパターンに対応した公差データを生成する。 - 特許庁
The step A2 to step A5 are then repeated until the size of the dummy pattern becomes the minimum size which meets a design rule.例文帳に追加
そしてステップA2乃至ステップA5を、ダミーパターンのサイズがデザインルールを満たす最小サイズに至るまで繰り返す。 - 特許庁
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