「design pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a mask blank that prevents disappearance of a resist pattern and also prevent a pattern defect upon producing a transfer mask by a semiconductor design rule (for a DRAM with hp half pitch of 65 nm or less), and also to provide a mask.例文帳に追加

半導体デザインルール（ＤＲＡＭ ｈｐ６５ｎｍ以下）の転写用マスクを作製する際、レジストパターンの消失を防止し、パターン欠陥を防止できるマスクブランク、及びマスクを提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive, user-friendly, decorative and thin display apparatus, in which a pattern itself emits light to attain high decoration effect, and a design pattern is easily changed.例文帳に追加

模様自体が明るく発光して高い装飾効果が得られ、意匠パターンの変更が容易であり、且つ安価で取り扱いに優れた装飾効果の高い薄型の表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a game machine, etc. capable of increasing the flexibility in the design of pattern arrangement and enhancing the amusement for players by diversifying the pattern arrangement.例文帳に追加

図柄配列の設計の自由度を増加させることができ、図柄配列を多様なものにして、遊技者への娯楽性の向上を図ることができるようにした遊技機等を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus which can observe easier than before a transparent registering mark for positioning a synchronizing layer on which a design such as a picture pattern and a pattern is applied, and a transparent layer.例文帳に追加

絵柄、模様等の意匠が施された同調層と透明層とを位置合わせするための透明な見当マークを従来よりも容易に観察できる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a transparent FRP molded article with a decorative pattern having depth and high design effect by forming the decorative pattern at a part of the FRP molded article without extending a molding cycle.例文帳に追加

成形サイクルを長くすることなく、ＦＲＰ成形品の一部に装飾模様を形成し、透明で深みがあり意匠性が高い装飾模様付きＦＲＰ成形品を得る。 - 特許庁

A pattern smaller than four times as large as the amount of fading of a charged particle beam used in a primary exposure process is extracted from the design patterns, and a pattern shape correction for correcting a proximity effect is calculated.例文帳に追加

この設計パターンの内、一次露光を行う際の荷電粒子ビームのボケ量の４倍より小さいパターンを抽出し、近接効果補正のためのパターン形状補正を計算する。 - 特許庁

Therefore, in order to stably and highly accurately superpose the design data and the observation data of the resist pattern, a transfer pattern to be formed through the photomask data used for the exposure and the exposure conditions is calculated by using an exposure simulator, and the transfer pattern is superposed on the observation data of the actual resist pattern.例文帳に追加

そこで設計データとレジストパターンの観測データを安定にかつ高精度に重ね合せる為に、露光シミュレータを用いて、露光に用いたフォトマスクデータ及び露光条件から形成される転写パターンを算出し、転写パターンと実際のレジストパターンの観測データとの重ね合わせ処理を行う。 - 特許庁

The pattern for the inspection in an arrangement position of the pattern for the inspection is found by a ray tracing computation to be prepared, so as to bring a reflection image of the pattern for the inspection imaged in the imaging position into a linear or a truly round pattern having no distortion, based on a design data for the inspection-objective curved surface mirror.例文帳に追加

検査対象曲面鏡の設計データを基に、撮像位置で撮像される検査用パターンの反射像がゆがみのない直線状または真円状のパターンとなるように、検査用パターン配置位置での該検査用パターンを光線追跡演算で求めて作成する。 - 特許庁

To provide a high-frequency printed board design support device capable of carrying out electric property design rule checking on-time in a pattern design of a high-frequency printed board having transmission line property, without design and analysis being divided, and without needing knowledge of electric property and an analysis technique.例文帳に追加

伝送線路特性を有する高周波プリント基板の設計支援装置において、高周波プリント基板のパターン設計で、設計と解析が分業されず、電気特性の知識や、解析テクニックを必要とせず、電気特性デザインルールチェックが、オンタイムで実施できる高周波プリント基板板設計支援装置を提供する。 - 特許庁

This band-like building interior finishing decorative material, the design pattern of which is printed on the basis of the design pattern data of another member combined with the band-like building interior finishing decorative material by ink jet printing, is pasted to the member so as to obtain the building interior finishing decorative material.例文帳に追加

絵柄模様が、帯状建築内装装飾材と組み合わせる他の部材の絵柄模様データを基にインクジェット印刷によって印刷された帯状建築内装装飾材であり、これを部材に貼着等することにより建築内装装飾材とする。 - 特許庁

21.(1) Each representation of a design which consists of a repeating surface pattern shall show the complete pattern and a sufficient portion of the repeat in length and width to disclose adequately the design, and such representation shall be of a size not less than A5.例文帳に追加

規則21 (1) 反復平面模様から成る意匠の各表示においては，模様全体並びに意匠を適切に開示するのに十分な長さ及び幅での反復模様の部分を明示するものとし，かつ，当該表示の大きさは，A5以上でなければならない。 - 特許庁

This decoration member is formed by vacuum molding or pressure molding of a thermoplastic resin sheet 42 of a prescribed thickness with a design pattern M on the surface or a transparent thermoplastic resin sheet 42 of a prescribed thickness with the design pattern M on the backside.例文帳に追加

表面に模様、図柄Ｍが施された所定厚さの熱可塑性樹脂シート４２、または裏面に模様、図柄Ｍが施された透光性を有する所定厚さの熱可塑性樹脂シート４２を真空成形又は圧空成形することにより成形される。 - 特許庁

A CPU 10, measurement pattern data generation parts 2, 3, 4, 5, 6, and 7, design-side data generation parts 12 and 13, a comparison circuit 14 for comparing measurement pattern data with design-side data, a retry requirement-judging means 69, and a repeated inspection instruction means 61 are at least provided.例文帳に追加

ＣＰＵ１０と、測定パターンデータ生成部（２，３，４，５，６，７）と、設計側データ生成部（１２，１３）と、測定パターンデータと設計側データとを比較する比較回路１４と、リトライ必要性判定手段６９と、繰り返し検査命令手段６１とを少なくとも有する。 - 特許庁

An arbitrary design pattern is copied on the surface side of a fabric 1 by a copying machine 2 using a toner, a transparent transfer foil 7 is piled on a fabric 1A after copy processing and the foil is transferred by a hot-stamping method by using the toner of copied design pattern as a binder.例文帳に追加

布帛１の表面側に、トナーを使用する複写機２で任意の意匠模様を複写し、この複写加工後の布帛１Ａに透明転写箔７を重ね合わせ、複写意匠模様のトナーをバインダーとして、ホットスタンピング法により箔を転写する。 - 特許庁

To provide a design sheet having a metallic-luster-finished window frame pattern that is a metallic-luster-finished in design, excellent in electric wave permeability, and improved in the visibility of a transparent window part, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

意匠が金属光沢調で電波透過性に優れ、なおかつ透明窓部の視認性を向上させた金属光沢調窓枠柄を有する意匠シートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide effective inspection techniques to search abnormality of a pattern in a single-die or multi-die reticle and to detect a reticle design error resulting from an error in a design data base.例文帳に追加

シングル・ダイ又はマルチ−ダイ・レティクルにおけるパターンの異常を突きとめ、設計データベース内の誤りの結果としてもたらされるレティクル設計誤りを検出する効果的な検査テクニックを提供する - 特許庁

Data checked by a first design rule 1 of design data of a pattern to be formed within a semiconductor device is corrected based on a correction guideline 5, and subjected again to the first desiging rule check.例文帳に追加

半導体装置内に形成されるパターンの設計データのうち第１のデザインルール１によるチェックが済んだデータを修正指針５に基づいて修正し、再び第１のデザインルールチェックにかける。 - 特許庁

The treated substrate is provided with a substrate top circuit pattern which is identical in design to one of a plurality of design circuit patterns in which overlapping positions of semiconductor devices are determined, and a substrate top first mark and a substrate top second mark.例文帳に追加

被処理基板は、半導体装置の重ね合わせ位置が決められた複数の設計回路パターンの１つと設計上は合同である基板上回路パターンと基板上第１、第２マークを有する。 - 特許庁

The design pattern of a design layer 3 which is printed on the surface side of a decorative plate 2 having translucency, is imprinted on the mirror face 4a of a mirror layer 4 printed on the reverse side of the decorative plate 2.例文帳に追加

透光性を有する装飾プレート２の表面側に印刷された模様層３の模様パターンを、該装飾プレート２の裏面側に印刷された鏡面層４の鏡面４ａに写り込ませる。 - 特許庁

The circuit design (250, 300) is stored on a computer readable medium and contains an electronic representation of a layout pattern (260, 258, 302) for at least one layer of the circuit design on an integrated circuit.例文帳に追加

回路設計図（２５０，３００）は、コンピュータ可読媒体上に格納され、集積回路上の回路設計図のうち少なくとも一層のレイアウトパターン（２６０，２５８，３０２）の電子表象を含む。 - 特許庁

To provide a sequence design support system for supporting efficient sequence design by improving an automation rate in preparing a valve pattern drawing used for original data of a sequence control program.例文帳に追加

シーケンス制御プログラムの元データとなるバルブパターン図の作成について自動化率を高め、それによりシーケンス設計をより効率的に行えるように支援するシーケンス設計支援システムの提供。 - 特許庁

To provide a reflecting surface designing method for the reflecting mirror of vehicular lamp which improves the controllability of a luminous intensity distribution pattern and the efficiency of design work and to provide a reflecting surface design system and a recording medium.例文帳に追加

配光パターンの制御性及び設計作業の効率が向上される車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法、反射面設計システム、及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

To securely and easily perform proximity effect correction while making an LSI fine as desired when a circuit design pattern having a plurality of overlapping design patterns is evaluated.例文帳に追加

互いに重なり合う複数の設計パターンを有する回路設計パターンの評価において、ＬＳＩに対して所望の微細化を図りながら近接効果補正を確実且つ簡単に行なえるようにする。 - 特許庁

The design of the interlayer is formed by kneading a design forming material when manufacturing, for instance, or pattern-sticking a plurality of interlayer pieces of different designs.例文帳に追加

前記中間膜は、例えばその製造時に意匠形成素材が練り込まれることによって意匠が形成されたり、意匠の異なる複数の中間膜片をパターン貼りすることによって意匠が形成される。 - 特許庁

Reference design patterns in a plurality of types are subjected to correction processes using a mathematical model in a plurality of times for the respective parameters to calculate a plurality of corrected reference design patterns on each reference design pattern of a plurality of types.例文帳に追加

複数種類の標準設計パターンそれぞれに対して、数式モデルを用いた補正処理を複数のパラメータの値それぞれで複数回行うことにより、複数種類の標準設計パターンそれぞれ毎に複数の補正後標準設計パターンを算出する。 - 特許庁

The luster adjusting resin layer can either be of a uniform thickness or can be partially formed in an uneven thickness in a pattern shape to represent an uneven surface design.例文帳に追加

艶調整樹脂層は均一厚さでも良いが、模様状に部分的に形成すれば表面凹凸意匠も表現できる。 - 特許庁

To effectively prevent leak of a document using a design pattern when an image of an original is transmitted.例文帳に追加

原稿の画像を送信する場合において、地紋パターンを利用した書類の漏洩防止を効果的に行うことができるようにする。 - 特許庁

In addition, a higher design characteristics can be obtd. by using a base coat layer 2 for a ground color, etc., a non-light storing picture pattern layer 3, etc., in parallel.例文帳に追加

更に、下地色用等のべースコート層２や、蓄光性の無い非蓄光絵柄層３等を併用すれば、より高意匠となる。 - 特許庁

Step ST11: Design pattern data are prepared in which contact holes are arranged on a part of grid points in matrix.例文帳に追加

マトリクス配置されたグリッド点に対して、一部のグリッド点上にコンタクトホールが配置された設計パターンデータを用意する（ステップＳＴ１１）。 - 特許庁

To quickly obtain final pattern data in a mask design step where masks used in the manufacture of a semiconductor integrated circuit device are designed.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造に用いられるマスクの設計段階において、最終的なパターンデータを迅速に得ること。 - 特許庁

To prevent an increase in design/verification TAT of a semiconductor integrated circuit in full consideration of the pattern dependency of transistor characteristics.例文帳に追加

トランジスタ特性のパターン依存性を十分考慮しつつ、半導体集積回路の設計・検証ＴＡＴの増大を防止する。 - 特許庁

Depending on the design, an uneven pattern layer, a first transmissive ornamental film, and the like, are provided on the top surface of the transmissive dial 41.例文帳に追加

また、デザインによっては透過性文字板４１の上面に凹凸のあるパターン模様層や第１の透過性装飾膜などを設ける。 - 特許庁

To provide a foamed sheet to which a peculiar design colored in a specified pattern can be easily imparted and also, a method for manufacturing the foamed sheet.例文帳に追加

所定のパターンで着色された独特の意匠を容易に付与することができる気泡シート及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To simply materialize designing and manufacturing of a complicated carbon fiber pattern at low cost, without making a design to become monotonous.例文帳に追加

デザインが単調に陥ることがなく、複雑なカーボン繊維パターンの設計および製作を、簡単かつローコストにて実現可能にする。 - 特許庁

This system, this method and this computer program for analyzing circuit design provide a means for discretizing a circuit pattern into a series of pixels.例文帳に追加

回路設計を解析するためのシステム、方法およびコンピュータ・プログラムは、回路パターンを一連の画素に離散化する手段を提供する。 - 特許庁

To easily lay and form various randomly formed stone arrangement having no repetitive arrangement pattern on design at an execution work site.例文帳に追加

デザイン上、繰り返しの配列パターンがなく、変化に富んだ乱形された石組を施工現場で簡単に敷設形成できるようにする。 - 特許庁

3.1.2. "industrial design" means a new and original solution related to the shape, pattern or color, or a combination of colors in an article;例文帳に追加

3.1.2. 「意匠」とは、物品における形、模様、色彩若しくは色彩又はそれらの組合せに係わる新規かつ独自の解決手段をいう。 - 特許庁

To provide a method for detecting a transistor with a low withstand voltage to which a high voltage signal is supplied during verification of a layout design pattern.例文帳に追加

設計レイアウトパターンの検証の際に高電圧信号が接続される低耐圧トランジスタを検出する方法を提供する。 - 特許庁

A transfer patten design device designs a transfer pattern in which respective communication paths make selections as many as necessary corresponding to the output amounts.例文帳に追加

転送パタン設計装置１０３は、それぞれの通信経路が出力量に応じた回数だけ選択する転送パタンを設計する。 - 特許庁

To obtain an economical spun lace nonwoven fabric imparted with a cleaner design pattern and causing no decline in soft feeling and touch.例文帳に追加

経済的で、ソフト感や風合いが低下することがない、鮮明な意匠模様が付与された意匠模様入りスパンレース不織布を得る。 - 特許庁

Furthermore, the bluish green color presented by the film layer 15 is related to the red color of the design part of the pattern layer 14 by a complementary color.例文帳に追加

更に、フィルム層１５が呈する青緑色は、パターン層１４の意匠部に着色された赤色と補色の関係にある。 - 特許庁

Such a procedure enables the desired pattern to be easily obtained from various video images as an image of a design for embroidery sewing.例文帳に追加

このような構成では、多種多様のビデオ画像から希望する図柄を刺繍縫いの下絵画像として容易に取得することができる。 - 特許庁

To provide a design method for a dummy pattern applicable to an IC, where no automatic layout/wiring is used and a wiring data which is manually corrected.例文帳に追加

自動配置配線を用いないＩＣや手修正を行った配線データに適用できるダミーパターンの設計方法を提供する。 - 特許庁

Shapes of lightning streaks (a kind of "raimon" [architectural design pattern thought to be based on flashes of lightning]) together with a portrait inside, are represented on both sides of the roof. 例文帳に追加

また、屋根の左右には稲妻形模様（いわゆる雷文の一種）が描かれ、その模様の中に人物像が配置されている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A creping pattern A prepared by shrinking the stretchable yarns by heating is formed on the weave design of the woven fabric 2 in the sash 1.例文帳に追加

その帯１における織物地２の織り組織上に、加熱により伸縮糸２２を収縮させてなるしぼ模様Ａを形成する。 - 特許庁