「design pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern matching method and apparatus for carrying out pattern matching between design data and the image taken by a scanning electron microscope converts the design data into a bitmap, and carries out the matching between the bitmapped design data and the image taken by a scanning electron microscope.例文帳に追加

本発明は、設計データと走査型電子顕微鏡にて取得される画像との間でパターンマッチングを行うパターンマッチング方法及び装置であって、設計データをビットマップに変換して、当該ビットマップ化された設計データと、走査型電子顕微鏡によって取得された画像とのマッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a card having a dual pattern which has a first pattern layer constituted of an ordinary printed pattern and a second pattern layer constituted of minute indentations formed in the surface of a transparent resin layer and has an excellent design property and forgery-preventing effect produced by a combined effect of the first and second pattern layers.例文帳に追加

本発明は、通常の印刷絵柄からなる第１絵柄層と、透明樹脂層の表面に形成された微細凹凸からなる第２絵柄層とを有し、第１絵柄層と第２絵柄層の相乗効果により優れた意匠性と偽造防止効果を備えた２重絵柄を有するカードを提供することである。 - 特許庁

To provide a practicable method for setting a design margin of mask patterns which determines the cross relations of the design margin, dimensional errors and superposition errors while studying an actual semiconductor process, a method for setting pattern accuracy and a method for setting the design margin of wafer patterns.例文帳に追加

実際の半導体プロセスを検討しながら、設計マージン、寸法誤差、重ね合わせ誤差の相互関係を求める実用的なマスクパターンの設計マージン設定方法、パターン精度設定方法およびウェハパターンの設計マージン設定方法の提供。 - 特許庁

In printing a design pattern, a solid color rubber made roll 11A having lower surface hardness is pressed with a prescribed pressing force on the design surface 21 of the building board 20 to print up to the depth position of the projecting and recessed parts 22a and 22b of the design surface 21.例文帳に追加

柄模様を印刷する際に、表面硬度がより柔らかなゴム製の無地ロール１１Ａを所定の押圧力で建築用ボード２０の意匠面２１に押し付けて、意匠面２１の凹凸２２ａ、２２ｂの深い位置まで印刷する。 - 特許庁

To provide dummy pattern design for reducing the performance drift of a MOS device caused by a difference of stress applied on the MOS device.例文帳に追加

MOSデバイスに加えられる応力の違いに起因するMOSデバイスの性能のドリフトを低減するダミーパターン設計を提供する。 - 特許庁

Referring to design information, a coordinate expected to have the same pattern as a corresponding coordinate and an alignment coordinate are selected.例文帳に追加

設計情報を参照して該当座標と同一のパターンが期待できる座標と位置合わせ用の座標を選定する。 - 特許庁

To reduce a design period by easily executing high-accuracy characteristic extraction along an actual device pattern in short TAT (Turn Around Time).例文帳に追加

実デバイスパターンに沿った精度の高い特性抽出を、簡易かつ短ＴＡＴで実行して設計期間の短縮を図る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a coated metal plate having a beautiful spot-like pattern uniformly formed thereto and excellent in design effect.例文帳に追加

美麗な斑状模様が均一に形成された優れた意匠性を有する塗装金属板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tile with a joint pattern and a manufacturing method thereof having a structure to prevent a joint material from peeling, and improving the design.例文帳に追加

目地材が剥離しない構造で意匠性に優れた目地模様付きタイル及びその製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a design support device, capable of extracting a ground pattern to which a designer of a printed circuit board needs to pay attention from a viewpoint of ESD countermeasure.例文帳に追加

ＥＳＤ対策の観点においてプリント基板の設計者が注意すべきグランドパターンを抽出できるようにする。 - 特許庁

To facilitate pattern design of a center feed planar antenna to achieve a desired directivity.例文帳に追加

中央給電型の平面アンテナについて、所望の指向特性を実現するためのパターン設計を容易化することを目的とする。 - 特許庁

To accurately print a fine design pattern to an architecture plate having unevenness on a surface without impairing a concentration gradation.例文帳に追加

表面意匠部に起伏を有する建築板に対して、繊細な柄模様を濃度階調を損なうことなく精度良く印刷する。 - 特許庁

To confirm the attractiveness of the whole a building-related product by simulating the pattern design of the building-related product.例文帳に追加

建築関連製品に対する柄デザインのシミュレーションを行い、建築関連製品の全体的な見栄えを確認できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which whether a design layout pattern is good or not can be discriminated and a clear guideline for correction is presented.例文帳に追加

設計レイアウトパターンの良否判定が可能で修正指針の明確な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The contact 21 may be overlapped on the auxiliary pattern 22 and an element isolation region, whereby a design is optimized taking an occupation area into consideration.例文帳に追加

コンタクト２１は補助パターン２２および素子分離領域に重なっても良く、占有面積を考慮して設計最適化できる。 - 特許庁

Next, according to the decision result, the design support device generates a grid table which includes shape information relative to the aimed pattern.例文帳に追加

次に、設計支援装置は、判定結果に応じて着目パターンに対する形状情報を含む格子テーブルを生成する。 - 特許庁

To provide a game machine capable of enhancing the efficiency of design pattern formation when displaying machine type information in the game area of a game board.例文帳に追加

機種情報を遊技盤の遊技領域に表示する際に、デザイン図作成の効率化を図ることができる遊技機を得る。 - 特許庁

To accurately and reliably correct a layout pattern in a very short period of time in handling a minimum area design rule violation in a diagram unit.例文帳に追加

図形単位での最小面積デザインルール違反に対して、大幅に短時間で正確かつ確実にレイアウトパターンを修正する。 - 特許庁

Thus, it is possible to design the semiconductor device by taking into consideration the capacity fluctuation between the wiring patterns due to the insertion of the dummy pattern.例文帳に追加

これにより、ダミーパターンの挿入による、配線パターン間の容量変動を考慮した半導体装置の設計をする。 - 特許庁

The coordinates of the region pattern, excluding the wiring in a state with the LSI chips flipped, are computed and recognized by a substrate design tool.例文帳に追加

ＬＳＩチップをフリップさせた状態の配線除外領域パターンの座標を算出し、基板設計ツールに認識させる。 - 特許庁

At an LSI design phase, a region indicating the circuit treating the micro signal is created as a region pattern, excluding a wiring.例文帳に追加

ＬＳＩ設計段階に、微小信号を取り扱う回路を示す領域を配線除外領域パターンとして作成しておく。 - 特許庁

The technique can be fully integrated into flows of design for testability (DFT) and automatic test pattern generation (ATPG).例文帳に追加

記載された技術は、テスト容易化設計（ＤＦＴ）及び自動テストパターン生成（ＡＴＰＧ）のフローに完全に組込むことができる。 - 特許庁

To provide a method for creating a pattern of a high design property having appearance of a hologram style by an inexpensive and simple method.例文帳に追加

安価で簡便な方法でホログラム調の外観を有する高意匠性の図柄を形成する方法を提供すること。 - 特許庁

DETACHABLE DEVICE, CONTROL CIRCUIT, FIRMWARE PROGRAM OF CONTROL CIRCUIT, INFORMATION PROCESSING METHOD IN CONTROL CIRCUIT AND CIRCUIT DESIGN PATTERN例文帳に追加

着脱式デバイス、制御回路、制御回路のファームウェアプログラム、制御回路における情報処理方法及び回路設計パターン - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN FOR FORMING GATE ELECTRODE AND SEMICONDUCTOR DEVICE FORMED BY USING THE SAME METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME DEVICE例文帳に追加

ゲート電極形成用設計パターンの補正方法、当該方法を用いて形成される半導体装置とその製造方法 - 特許庁

To provide a semiconductor device PD in which design of the wiring pattern of a wiring board can be facilitated for mounting the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置を実装する配線基板の配線パターンの設計を容易にするような半導体装置ＰＤを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR ESTIMATING FILM THICKNESS, LAYOUT DESIGN METHOD, MASK PATTERN DESIGNING METHOD FOR EXPOSING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

膜厚予測方法、レイアウト設計方法、露光用マスクのマスクパターン設計方法、及び、半導体集積回路の作製方法 - 特許庁

To provide a semiconductor device which makes it easy to design a wiring pattern of a wiring board on which semiconductor devices are mounted.例文帳に追加

半導体装置を実装する配線基板の配線パターンの設計を容易にするような半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an embroidery data producing device which stitches an embroidery design pattern that matches the image of the music which a user likes.例文帳に追加

ユーザが嗜好する音楽のイメージにマッチングする図柄の刺繍模様を縫製する刺繍データ作成装置を提供する。 - 特許庁

The luster adjusting resin layer either can be of uniform thickness or can be partially formed in a pattern shape to represent an uneven surface design.例文帳に追加

艶調整樹脂層は均一厚さでも良いが、模様状に部分的に形成すれば表面凹凸意匠も表現できる。 - 特許庁

To manufacture a resonance tag at low cost while making it easy to design and adjust a circuit pattern which resonates at a desirable frequency.例文帳に追加

所望の周波数で共振する回路パターンの設計・調節が容易であり、低コストで製造することができるようにする。 - 特許庁

In order to evaluate a difference between design data and a formed resist pattern in detail by using observation data of the resist pattern formed through a semiconductor lithography process, the design data and the observation data of the resist pattern are superposed to calculate a one-dimensional or two-dimensional geometric characteristic value expressing the difference between them.例文帳に追加

半導体リソグラフィ工程を経て形成されたレジストパターンの観測データを用いて、設計データと形成されたレジストパターンの差異を詳細に評価するために、設計データとレジストパターンの観測データとを重ね合わせ、両者の差異を表現する１次元或いは２次元の幾何学的特徴量を算出する。 - 特許庁

When an input design data is subjected to rule-base proximity correction in the process of forming a pattern based on the design data of an electronic device on a substrate to be exposed, the pattern is moved by calculating a correction amount by using a pattern side as a unit and then subjected to the model-base proximity correction to create an exposure data.例文帳に追加

被露光基板上に電子デバイスの設計データに基づいてパターンを形成する工程において、入力した設計データに対し、ルールベースの近接効果補正を行う際に、パターンの辺を単位に補正量を算出して移動した後、モデルベースの近接効果補正を行って露光データを作成する。 - 特許庁

A wafer for evaluation is made in accordance with the correction data of the mask pattern of a mask for evaluation obtained by inputting the design data of the mask pattern of the mask for evaluation to the rule base OPC and the length measurement of the gate pattern of the wafer for evaluation is performed.例文帳に追加

ルールベースＯＰＣに評価用マスクのマスクパターンの設計データを入力することにより、得た評価用マスクのマスクパターンの補正データに基づいて評価用ウェハを製作し、評価用ウェハのゲートパターンの測長を行なう。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, a photo mask, and an alignment inspection mark which matches an alignment inspection pattern with the design of a semiconductor integrated circuit to eliminate the pattern dependence of the superposition of aberration, the pattern size dependence, etc.例文帳に追加

合わせ検査のパターンを半導体集積回路の設計に合わせることで、収差の乗りのパターン依存性、パターン寸法依存性等を除去する半導体装置の製造方法、フォトマスク、合わせ検査マークを提供する。 - 特許庁

The design device generates checking drawing data 26 obtained by removing the outer serif pattern and the inner serif pattern from the drawing data 24, and verifies the shape of a drawing pattern included in the checking drawing data 26 according to a verification rule.例文帳に追加

そして、設計装置は、アウターセリフパターン，インナーセリフパターンを描画データ２４から除去したチェック用描画データ２６を生成し、そのチェック用描画データ２６に含まれる描画用パターンの形状を検証ルールに従って検証する。 - 特許庁

To provide a pattern sewing machine which forms disruptive lines, which have a predetermined width in alignment with the sewing line of a pattern design, in a template negative plate such as pasteboard and can simply, quickly, and inexpensively create a template at time of sewing a pattern seam.例文帳に追加

厚紙等のテンプレート原板にパターン模様の縫製ラインに沿った所定幅を有する分断ラインを形成し、パターン縫目を縫製する際のテンプレートを簡単且つ迅速に、しかも安価に作成できるようにすることである。 - 特許庁

The method of manufacturing the electromagnetic wave shielding material includes the steps of printing a geometrical pattern on a base material, printing a design on the other surface of the base material, and press forming the surface printed by the geometrical pattern of this base material as a rear surface.例文帳に追加

基材上に幾何学的模様を印刷し、基材の他方の面上にデザインを印刷し、この基材の幾何学的模様が印刷された面を裏面として、プレス成形する。 - 特許庁

A correction means 22 compares the exposure pattern 32 calculated by the calculation means 21 and the design data 30 with each other to correct the mask pattern data 31 generated by the generation means 20.例文帳に追加

補正手段２２は、算出手段２１によって算出された露光パターン３２と、設計データ３０とを比較し、作成手段２０によって作成されるマスクパターンデータ３１を補正する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method for enlarging freedom of design regarding a formation material and an object of a thick film pattern and for enhancing its productivity, and a droplet ejection apparatus.例文帳に追加

厚膜パターンの形成材料や対象物に関する設計の自由度を拡大して、かつ、その生産性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

Correction portion data are created (S4, S6) to specify a correction portion in a layout pattern where a figure is to be modified to correct an optical proximity effect based on design pattern data.例文帳に追加

設計パターンデータに基づいて、レイアウトパターンのうち光近接効果を補正するために形状を変えるべき補正部分を特定する補正部分データを生成する（Ｓ４及びＳ６）。 - 特許庁

To erase an unwanted pattern (for example, a side lobe or the like) formed together with a resist pattern by increasing its thickness, whereby it is attempted to reduce a load on an exposure mask design and enlarge a focal depth.例文帳に追加

レジストパターンと共に形成される不要なパターン（例えば、サイドローブなど）を厚肉化させて消去することにより、露光マスク設計への負担軽減及び焦点深度の拡大を図る。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus and an image processing method used for generating an original with a ground tint pattern whereby the design pattern can surely be detected without degrading the image quality.例文帳に追加

画像品質を低下させることなく地紋パターンを確実に検出できる地紋付き原稿を作成するのに用いられる画像処理装置、及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored and patterned nonwoven fabric having colored pattern imparted to a nonwoven fabric with an uneven embossed pattern, woven fabric-like quality, and practical characteristics such as flexibility, design and strength.例文帳に追加

凹凸エンボス模様不織布に着色模様を付与した、織物調の品位を有し、柔軟性、意匠性、強度などの実用特性を備えた着色模様不織布を提供する。 - 特許庁

To provide an exposing system which can predict the quantity of exposure enough to form a resist pattern having a line width equivalent to a design value even if there is any manufacturing error in the line width of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの線幅が製造誤差を有する場合も、設計値と等しい線幅を有するレジストパターンを形成可能な露光量を予測する露光システムを提供する。 - 特許庁