「developing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming method by reaction development forming a photoresist image by using a polymer having a carbonyl group in a side chain and making this soluble in a developing solution.例文帳に追加

側鎖にカルボニル基を有するポリマーを用い、これを現像液に可溶にすることによりフォトレジストを形成する新規な「反応現像画像形成法」を提供する。 - 特許庁

A photopolymer plate 102 is immersed in hot water W, stored in a hot water tank 10 prior to development of the photosensitive layer of the photopolymer plate 102 is by brushing in a developing solution.例文帳に追加

フォトポリマー版１０２の感光層が現像液下において、ブラッシング処理される現像処理前に、温液槽１０に貯溜された温水Ｗへ浸漬される。 - 特許庁

To provide an original plate for planographic printing plate which does not generate scum in a developing solution when developed and gives a planographic printing plate excellent in printing durability.例文帳に追加

現像処理により現像液中にカスが発生することがなく、また平版印刷版とした場合に耐刷性にも優れた平版印刷版用原版を提供する。 - 特許庁

To obtain a developing device which does not cause damage or wear to a photosensitive material and obtains a desired agitating capacity when the photosensitive material is processed by injecting a processing solution.例文帳に追加

処理液を噴射して感光材料を処理する際に、感光材料の傷や擦れが無く、また、所望の攪拌能力を得ることができる現像処理装置を得る。 - 特許庁

In the regeneration process for the photoresist developing waste solution including a process for bringing the photoresist developing waste solution contacted with a cation exchange resin, the process for bringing the photoresist developing waste solution contacted with the cation exchange resin mainly contains the pohtoresist and TAAH contacted with a TAA type acidic cation exchange resin with a specific surface area of 10 m^2/g or more to remove alkali metal ions such as Na^+ or K^+.例文帳に追加

フォトレジスト現像廃液を陽イオン交換樹脂と接触させる工程を含むフォトレジスト現像廃液の再生処理過程において、該フォトレジスト現像廃液を陽イオン交換樹脂と接触させる工程がフォトレジスト及びＴＡＡＨを主として含むフォトレジスト現像廃液を比表面積が１０ｍ^２／ｇ以上のＴＡＡ形強酸性陽イオン交換樹脂と接触させ、Ｎａ^+、Ｋ^+等の不純物アルカリ金属イオンを除去することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。 - 特許庁

To provide a quality control method for easily keeping the quality of a planographic printing plate constant by evaluating the activity of a developing solution for an image forming material for an IR laser for direct plate making and feeding back the result to a developing step.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用画像形成材料の現像液の活性度を評価し、その結果を現像工程にフィードバックして、容易に平版印刷版の品質を一定に保つための品質管理方法とを提供する。 - 特許庁

The method for forming the resist patterns includes selectively exposing resist films formed on a substrate and having a film thickness of ≤50 nm and developing the resist film by using a developing agent for forming the resist patterns being aqueous solution containing an organic solvent.例文帳に追加

基板上に形成された、その膜厚が５０ｎｍ以下であるレジスト膜を選択的に露光するとともに、有機溶剤を含有する水溶液であるレジストパターン形成用現像液を用いて現像することを含むレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

A first processing section 30 for applying a developing solution to a photographic film F, a first image reading section 40 for reading the distributed density of silver from the developed photographic film F and a second processing section 50 for spraying a bleaching solution while controlling the amount of the solution according to the distributed density of silver are arranged on a traveling route of the photographic film F.例文帳に追加

写真フィルムＦの搬送経路上に、写真フィルムＦに現像液を塗布する第１処理部３０、現像処理された写真フィルムＦから銀の分布密度を読み取る第１画像読取部４０、銀の分布密度に応じて漂白液の量を制御しつつ噴霧する第２処理部５０を配設する。 - 特許庁

The radiation sensitive positive type resist composition contains a resin having a rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with ionizing radiation, a solvent and a compound which reduces the rate of dissolution of a resist film in the alkali developing solution under the action of the acid and/or irradiation with the ionizing radiation.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、電離放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤ならびに酸及び／又は電離放射線の照射により、レジスト膜のアルカリ現像液に対する溶解速度を減少させる化合物を含有する感放射線性ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a compound which generates acid by irradiation of active rays or radiation; (B) a resin insoluble or hardly soluble with an alkali developing solution and changed into soluble with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (C) a compound having at least one cyclic ether group and at least one alicyclic group.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び（Ｃ）少なくとも１つの環状エーテル基と、少なくとも１つの脂環基とを有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a planographic printing plate precursor capable of being used in conventional processing equipment and a printer as they are, enabling direct plate making from digital information of a computer or the like, having improvement in discrimination of an image to an alkaline developing solution without causing dirt and excellent in processability with an exhausted developing solution having lowered activity (development latitude).例文帳に追加

従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用できて、コンピューター等のデジタル情報から直接製版可能であるとともに、汚れの発生の無くアルカリ性現像液に対する画像のディスクリミネーションが向上し、活性度の落ちた疲労現像液での処理性（現像ラチチュード）に優れる平版印刷版用原版を提供すること。 - 特許庁

The concentration measuring instrument for the photoresist developing solution is equipped with a pair of magnetic field generation means and a means for detecting the phase difference ϕ between the voltage V_1 applied to one of the magnetic field generation means and the receiving voltage V_2 caused by the applied voltage V_1 and detected by the other magnetic field generation means through the photoresist developing solution.例文帳に追加

フォトレジスト現像液の濃度測定装置として、一対の磁場発生手段と、この磁場発生手段のうち一方の磁場発生手段に印加される電圧Ｖ_1と、この印加電圧Ｖ_1に起因し前記現像液を介して他方の磁場発生手段で検出される受信電圧Ｖ_2の位相差φを検出する手段とを備えるようにする。 - 特許庁

While the prescribed flow rate of a developing solution is being discharged from the developing solution feeding nozzle 70, the horizontal nozzle arm 76 is moved to the direction of arrow F at a suitable scanning speed, and the horizontal nozzle arm 76 is moved to the prescribed position located above the canter part of the prescribed position located above the center part of the semiconductor wafer W from the discharge starting position.例文帳に追加

現像液供給ノズル７０より所定の流量で現像液を吐出させながら、適当なスキャン速度で水平ノズルアーム７６が矢印Ｆの方向に移動して、所定の時間をかけて、現像液ノズル７０を吐出開始位置から半導体ウエハＷの中心部の上方に設定された所定の位置まで移動させる。 - 特許庁

A motor control section 72 controls a motor 26 so that a developing solution is discharged from the coating nozzle 23 until the rear end of the final image of the film 2 reaches the position opposite to the coating nozzle 23, and immediately after that, the motor control section 72 controls a motor 126 so that the developing solution near the head of the coating nozzle 23 is sucked into the coating nozzle 23.例文帳に追加

そして、モータ制御部７２は、フィルム２の最終画面の後端が塗布ノズル２３に対向する位置に到達するまでは塗布ノズル２３から現像液が吐出されるようにモータ２６を制御するが、その直後、塗布ノズル２３の先端部近傍にある現像液が塗布ノズル２３内に吸引されるようにモータ１２６を制御する。 - 特許庁

To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material which ensures high running stability of a developing solution and a fixing solution, stable sensitivity and γ, gives an image nearly free from residual color and unevenness in development, requires low replenishment and attains high safety.例文帳に追加

現像液及び定着液のランニング安定性が高く、感度及びγが安定し、残色、現像ムラの少ない画像を与え、かつ、低補充でしかも安全性の高いハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像若しくは多重現像用レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液、及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

A developing container in which much development processing solution is stored in order to coat a plate barrel with the development processing solution need not be provided at the bottom part of the plate barrel, and development is realized at any position of the plate barrel as well as at the bottom part of the plate barrel.例文帳に追加

版胴に現像処理液の塗布を行うため、多量の現像処理液を収容した現像容器を、版胴の最下部に設ける必要がなく、版胴の最下部に限らず、版胴のいずれの位置でも、現像が可能となる。 - 特許庁

The resist film 11 is then developed with an alkaline developing solution 14 and an alkaline rinsing solution 17 is supplied onto the resist film 11 to form the objective resist pattern comprising the unexposed regions 11b of the resist film 11.例文帳に追加

次に、レジスト膜１１に対してアルカリ性現像液１４を用いて現像を行なった後、レジスト膜１１に対して、アルカリ性リンス液１７をレジスト膜１１上に供給して、レジスト膜１１の未露光部１１ｂからなるレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide the photosensitive resin developing solution for attaining dissolution development capable of enhancing an yield by using an aqueous alkaline solution containing a specified compound.例文帳に追加

一般的に樹脂ブラックマトリクス又はカラーフィルター製造に用いられる顔料分散樹脂を現像する際に、非画線部を平均粒径で０．１μｍ以下の微粒として分散溶解する、いわば溶解現像の形態を呈する感光性樹脂現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which an electrode pattern comprising a conductive film is formed on a substrate even if a developing solution used is a weak alkaline aqueous solution, and to form a practicable electrode pattern on a substrate having a ZnO-based film as a conductive film.例文帳に追加

現像液が弱アルカリ水溶液であっても、基板上に導電膜からなる電極パターンを形成できる方法を提供し、導電膜としてＺｎＯ系膜を有する基板上に実用可能な電極パターンを形成すること。 - 特許庁

This method of measuring the degree of hair damages, caused by an ultraviolet ray uses a keratin film obtained after bringing a hair keratin protein solution of hair dissolved with a protein denaturing agent and a reductant into contact with a developing solution, followed by drying.例文帳に追加

毛髪を蛋白質変性剤及び還元剤により溶解させた毛髪ケラチン蛋白質溶液と、展開用溶液とを接触させ、乾燥させた後に得られるケラチンフィルムを用いた、紫外線による毛髪損傷度の測定方法。 - 特許庁

To provide "a hydrogen of a viscous solution" useful for developing food, medicine, cosmetics and the like each comprised of a viscous solution, the quality of which can be remarkably improved by providing them with reducing capacity, a method for manufacturing the same, and a system for manufacturing the same.例文帳に追加

粘性溶液でできている食品、医薬品、化粧品等還元性の付与によって品質が著しく向上する製品開発に効果がある「粘性溶液の水素コロイド」とその生産方法並びに生産システムを提供する。 - 特許庁

Therefore, the erosion of the peripheral section of the resist 12A by a developing solution can be prevented at the developing and rinsing of the resist 12A for avoiding the crushing of the window section 12a by the resist 12A creeping around into the front surface side of the wafer 10, after the resist 12A has been applied to the backside of the wafer 10.例文帳に追加

これにより、裏面レジスト１２Ａ塗布後、ウェーハ表面側へ回り込んだ裏面レジスト１２Ａによる窓部１２ａの潰れを回避する現像・リンス時に、その現像液で裏面レジスト１２Ａの周辺部が溶損するのを防止することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a planographic printing plate which effectively prevents development scum from being generated even when an alkali developing solution with relatively low pH is used for developing many sheets, and ensuring stable development even when an aged planographic printing plate original plate is used.例文帳に追加

比較的低ｐＨのアルカリ現像液を使用した場合であっても、多数枚現像処理しても現像カスの発生が効果的に抑制され、且つ、経時した平版印刷版原版を用いても安定に現像できる平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid treatment device capable of preventing a phenomenon or so called a loading effect, wherein the production amount of resolution products or the concentration of a developing solution becomes different locally and an etching speed or the like is changed, and capable of uniformly developing a photo mask such as a reticle or the like.例文帳に追加

溶解生成物の生成量や現像液の濃度が局所的に異なり、エッチング速度等が変化するローディング効果と呼ばれる現象を防止し、レチクル等のフォトマスクに対する均一な現像処理が可能な液処理装置を提供すること。 - 特許庁

To conduct a plurality of utilization methods in each of which a required image maintenance time is different from one another concerning a sheet which can make a record of the image by making a developing solution adhere and used repeatedly, using a smaller number of kinds of developing solutions smaller than the number of the plurality of the methods.例文帳に追加

顕像液を付着させることで画像の記録ができかつ繰り返し利用可能なシートについて、必要な画像維持時間が互いに異なる複数の利用方法に対してその数よりも少ない種類の顕像液で対応することである。 - 特許庁

To provide an Al alloy film for a display device, the alloy film showing low contact resistance even when the film is directly connected to a transparent pixel electrode eliminating a barrier metal layer, and higher corrosion resistance against a developing solution or corrosion resistance against a peeling solution in a manufacturing process of the display device.例文帳に追加

バリアメタル層を省略して透明画素電極と直接接続させた場合にも低コンタクト抵抗を示し、且つ、表示装置の製造過程における現像液耐食性や剥離液耐食性も高められた表示装置用Ａｌ合金膜を提供する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material less liable to a gradation change due to the entering of a bleach-fixing solution into a color developing solution, in particular the enhancement of contrast (and/or the increase of sensitivity) and less liable to the increase of fog due to a change of color development time.例文帳に追加

発色現像液中への漂白定着液の混入による階調変動、特に硬調化（及び／または感度増加）が少なく、発色現像時間の変動に対しカブリの増加が少ないハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁

The method for producing a fluorine-containing ether compound comprises the reaction of a fluoroolefin compound with a hydroxy group-containing compound in a reaction system at least containing a phase transfer catalyst, an alkali aqueous solution and a fluorine-containing organic solvent developing phase-separation with the alkali aqueous solution.例文帳に追加

少なくとも相間移動触媒、アルカリ水溶液、および該アルカリ水溶液と相分離する含フッ素有機溶媒が存在する反応系において、フルオロオレフィン化合物と水酸基含有化合物とを反応させる含フッ素エーテル化合物の製造方法。 - 特許庁

A dry coloring film formed by carrying a reagent for developing a color by reacting with phosphoric acid on a transparent film is used, and the coloring film is dipped in a test body solution, and then optical absorptivity is measured, to thereby quantitate the phosphoric acid concentration in the test body solution.例文帳に追加

燐酸に反応して発色する試薬を透明フィルタに担持させた乾式の発色フィルムを用い、この発色フィルムを検体溶液に浸漬した後、光吸収度を測定することによって検体溶液中の燐酸濃度を定量することができる。 - 特許庁

In the thin film, the aggregate of the nano-particles is formed on a water surface by developing a solution dissolved with the organic compound onto the water surface and removing the solvent.例文帳に追加

本発明は、有機化合物を溶解した溶液を水面上に展開した後、溶媒を除去することにより、水面上にナノ粒子の集合体を形成せしめてなる薄膜である。 - 特許庁

To provide a copolymer having easily processable etching rate to a developing solution without light exposure, a molecular resin composition, a method for forming a pattern by using the composition and a method for producing a capacitor.例文帳に追加

露光工程なしで現象溶液に対して容易なエッチング速度を有する共重合体、分子樹脂組成物及びそれを用いたパターン及びキャパシタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition which exhibits proper post-development resolution and resistance to metal plating, excels in dispersion stability in a developing solution, and prevents the occurrence of aggregates, and to provide an application of the composition.例文帳に追加

現像後解像性及び金属めっき耐性が良好で現像液分散安定性に優れ凝集物が発生しない光重合性樹脂組成物及びその用途の提供。 - 特許庁

To provide a low-cost stable photomechanical process for an aluminum planographic printing plate excellent in printing characteristics without causing any environmental problem because a waste developing solution is reduced substantially to zero.例文帳に追加

現像液の廃液を実質的に零にできて環境上の問題がなく、安価で、しかも印刷特性に優れたアルミニウム平版印刷版を安定的に製版できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a CMOS image sensor that has been improved in characteristics and the yield of the image sensor by preventing an alkaline developing solution from coming into contact with a metal pad.例文帳に追加

アルカリ現像液が金属パッドと接触することを防止して、イメージセンサの特性と歩留まりを向上させるようにしたＣＭＯＳイメージセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive image forming material for an IR laser having improved image forming property of a recording layer, excellent in printing resistance and having good stability of sensitivity to the concentration of a developing solution.例文帳に追加

記録層の画像形成性を改善し、耐刷性に優れ、現像液の濃度に対する感度の安定性の良好な赤外線レーザ用ポジ型画像形成材料を提供する。 - 特許庁

The fungi are controlled by coating, spraying or mixing an aqueous solution of the lactic acid ester on an article, e.g. a moist wall, having the fungi developing thereon or fear of the emergence of the fungi.例文帳に追加

例えば湿っぽい壁など、カビが発生しているか、またはカビが発生するおそれのある物体に、乳酸エステル水溶液を塗布、噴霧または混入することによりカビを防除する。 - 特許庁

A developing solution is applied by decreasing the coating amount at a position 300 mm from the front end of the photosensitive material and down from the position by ≤0.8 time of a predetermined coating amount.例文帳に追加

感光材料の先端から３００ｍｍ以降の現像液の塗布量を設定塗布量に対して０．８倍以下に減少させて塗布することによって達成された。 - 特許庁

To provide a disposal method for a developing solution for a planographic printing plate by which a precipitate is well separated and the precipitate is less tacky and easily disposed.例文帳に追加

平版印刷版用現像液の廃棄において、沈殿物がよく分離され、且つ沈殿のべたつきが小さく、廃棄が容易な平版印刷版用現像液の廃棄方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a heat-resistant relief pattern that forms a pattern including a non-photosensitive polyimide layer by treatment of one process by alkaline developing solution and heats the pattern.例文帳に追加

アルカリ性現像液による１工程の処理で非感光性ポリイミド層を含むパターンを形成し、これを加熱処理することによる耐熱性レリーフパターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a planographic printing plate that has high developability and suppresses the generation of development scum with time, even if alkali developing solution of a relatively low pH is used.例文帳に追加

比較的低ｐＨのアルカリ現像液を使用した場合であっても、現像性に優れ、経時的な現像カスの発生が抑制された平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

Preferably the photographic sensitive material contains a hydrazine derivative as a contrast enhancer and is processed with a developing solution of pH 8-11.例文帳に追加

尚、上記写真感光材料が硬調化剤としてヒドラジン誘導体を含有すること、上記写真感光材料をｐＨ８〜１１の現像液で処理することは、何れも好ましい態様である。 - 特許庁

To provide a developer for a positive photosensitive composition having sensitivity to laser light in a near IR region wherein the composition reacts to exposure to a laser of the near IR region and the reacted sections are made soluble in a developing solution.例文帳に追加

近赤外波長域のレーザーに露光感応して該感応部が現像液に可溶になる近赤外波長域レーザー感応性を有するポジ型感光性組成物のための現像剤 - 特許庁

To provide a new functional composite material by developing a solution dipping method as an effective approach to form a functional inorganic compound layer on a base material of an organic polymer.例文帳に追加

溶液浸漬法を有機ポリマー基材上に機能性無機化合物層を形成させる効果的な手法として展開することで新しい機能性複合材料を提供する。 - 特許庁

The method includes a step for applying a fresh developing solution to a planographic printing plate and a step for removing at least a silver halide emulsion layer by a mechanical peeling means.例文帳に追加

新鮮な現像液を該平版印刷版に塗布する工程、少なくともハロゲン化銀乳剤層を機械的な剥離手段で除去する工程を含むことを特徴とする製版方法。 - 特許庁