「developing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

DEVICE FOR REPLENISHING DEVELOPING SOLUTION FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND PROCESSING METHOD FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL例文帳に追加

ハロゲン化銀写真感光材料用現像液の補充装置及びハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - 特許庁

To continuously process printing plates having a positive photosensitive layer for an infrared laser using an alkali developing solution.例文帳に追加

赤外線レーザ用ポジ型感光層が形成された印刷版を、アルカリ現像液を用いて、連続的に処理可能とする。 - 特許庁

Then the photoresist film 12 is partially removed by bringing the piezoelectric substrate 10 into contact with a developing solution on a supporting base 13.例文帳に追加

次に、圧電基板１０を支持台１３上で現像液と接触させて、フォトレジスト膜１２の一部を除去する。 - 特許庁

DEVELOPMENT INITIATOR OF DEVELOPING SOLUTION FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND METHOD FOR PROCESSING THIS MATERIAL例文帳に追加

ハロゲン化銀写真感光材料用現像液の現像開始剤及びハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 - 特許庁

After a passage of a specified time, the developing solution 16 is eliminated by a method for, e.g. rotating the glass substrate 10.例文帳に追加

そして、一定の時間経過した後、ガラス基板１０を回転させるなどの方法により、現像液１６を除去する。 - 特許庁

To provide a cleaning method for a developing apparatus for a printed wiring board which method, when the developing apparatus is cleaned by spouting a chemical liquid from a feeding pipe of the developing apparatus body, removes sufficiently contamination by the solution easily striking portions otherwise hardly struck.例文帳に追加

印刷配線板用現像装置において、現像装置本体の供給管から薬液を噴出させて洗浄する時、薬液の当たりにくい部位にも当たりやすくして、汚れを充分に除去できるようにする。 - 特許庁

The objective photoresist lattice pattern having high resolution that reaches the critical limit of the optical exposure method is obtained at a high speed by utilizing high solubility of the multiply exposed portions 10 in a developing solution or insolubility of the unexposed portions 13 in the developing solution.例文帳に追加

多重露光部１０の現像液への高い溶解特性、または非感光部１３の現像液への非溶解性を利用して、高速性とともに、光学露光法の限界に達する微細解像特性をもつ格子パターンが得られる。 - 特許庁

In this case, the developing solution is moved down by the thickness of the liquid receiving plate and transferred onto the surface of the substrate, so that the developing solution supplied onto the substrate is restrained from flowing, exuding outside from the substrate, and wasting uselessly.例文帳に追加

この場合、現像液は液受け板の高さ分だけ動いて基板の表面に乗せられていくので、基板に供給された現像液に液流れが発生するのが抑えられ、外にはみ出して捨てられる無駄な現像液を少なくすることができる。 - 特許庁

To restrain a flow of developing solution from being formed on the surface of a substrate so as to develop the exposed surface of the substrate uniformly in a method of applying a developing solution on the surface of a substrate as a feed nozzle is moved from the rear end to front end of the substrate.例文帳に追加

基板表面に対して後端側から前端側へ供給ノズルを移動させながら現像液を塗布する手法において、基板表面の現像液膜に液流が形成するのを抑制して均一性の高い現像を行うこと。 - 特許庁

To prevent contamination and improve the quality of developing process by effectively blocking the penetration of a developing solution supplied onto the surface of a substrate to be processed from a nozzle and even to a rear side of the substrate.例文帳に追加

ノズルより被処理基板の表面に供給される現像液の基板裏面への回り込みを効果的に阻止して汚染の防止と現像工程の質の向上をはかること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition giving a planographic printing plate excellent in wear and printing resistances, developable even with an exhausted developing solution in a short time and ensuring wide developing conditions.例文帳に追加

耐摩耗性及び耐刷性に優れ、さらに疲労液現像液でも短い時間で現像が可能で現像条件の広い平版印刷版を与える感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

The developing nozzle can move in a horizontal direction from the first washing tank toward the second washing tank and can supply a developing solution onto a top surface of the substrate.例文帳に追加

前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。 - 特許庁

In the liquid formulation agent for a silver halide photographic developing solution, a developing agent-containing part is housed in a container made of plastic consisting essentially of polyethylene succinate.例文帳に追加

現像主薬を含有するパートがポリエチレンスクシネートを主成分とするプラスチックによって造られた容器に収納されたハロゲン化銀写真用の現像液用液体調合処理剤。 - 特許庁

The developing nozzle can move in a horizontal direction from the first washing tank toward the second washing tank and can supply a developing solution onto a top surface of the substrate.例文帳に追加

前記現像ノズルは前記第１洗浄タンクから前記第２洗浄タンクに向う水平方向に移動することができ、前記基板の上部面上に現像液を供給することができる。 - 特許庁

(2) The platemaking method for the lithographic printing plate comprises processing the lithographic printing plate by a developing solution substantially not containing the developing agent, then washing away the silver halide emulsion layers.例文帳に追加

（２）前記平版印刷版を実質的に現像主薬を含有しない現像液で処理し、次いでハロゲン化銀乳剤層を水洗除去する平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

To provide an alkali developing solution capable of suppressing the leaching of anodically oxidized aluminum from the aluminum support of a photosensitive planographic printing plate and to provide a method which suppresses the leaching of anodically oxidized aluminum from the aluminum support of a photosensitive planographic printing plate in a developing process and can make a planographic printing plate exhibiting superior printing characteristics.例文帳に追加

感光性平版印刷版のアルミニウム支持体からの陽極酸化されたアルミニウムの溶出を抑制することができるアルカリ現像処理液を提供する。 - 特許庁

After a required developing process time lapsed, a rinse liquid feed nozzle 40 is moved from one end of the substrate W to the other to feed a developing solution onto the entire main surface of the substrate W.例文帳に追加

所要の現像処理時間経過後、リンス液供給ノズル４０が基板Ｗの一端側から他端側に移動して、基板Ｗの主面全体に現像液を供給する。 - 特許庁

To prevent generation of sludge due to increase in the concentration of a solder resist, in a developing solution for a solder resist and to prevent re-deposition of sludge onto a substrate made of copper or the like or deposition on a developing tank.例文帳に追加

ソルダーレジストの現像液において、ソルダーレジストの濃度上昇によるスラッジ生成と、スラッジの銅などの基材上への再付着や現像槽への付着を防止する。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps of (a) forming a film by using a chemically amplified resist composition; (b) exposing the film to light; (c) developing the film by using a developing solution containing an organic solvent; and (d) rinsing the film by using a rinsing liquid containing an organic solvent and having a specific gravity larger than that of the developing solution.例文帳に追加

（ア）化学増幅型レジスト組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、（ウ）有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、及び（エ）有機溶剤を含み、かつ比重が前記現像液より大きいリンス液を用いてリンスを行う工程を含むパターン形成方法。 - 特許庁

The developing device is provided with an atmospheric pressure measuring part 101, and a control part 106 controls the projection pressure of a developing solution 105 projected from a nozzle 103 by a developing solution projection part 104 on the basis of correlation information between dimensional errors in the line width of a pattern which are generated under a plurality of atmospheric pressures and the measured atmospheric pressures.例文帳に追加

現像装置に気圧計測部１０１を設け、制御部１０６が複数の気圧下において生じるパターンの線幅の寸法との誤差を計測した気圧との相関関係情報を基に、現像液射出部１０４がノズル１０３から射出する現像液１０５の射出圧を気圧に応じて制御する。 - 特許庁

The development replenisher solution which is additionally supplied to a developing solution for developing a photosensitive planographic printing plate with a positive type photosensitive composition layer containing (A) a photothermal converting material and (B) an alkali-soluble resin on the base after exposure with near infrared laser light contains a higher concentration of a surfactant than the original developing solution.例文帳に追加

支持体上に、（Ａ）光熱変換物質、及び（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有するポジ型感光性組成物層を有し、近赤外レーザー光によって露光された感光性平版印刷版を現像するための現像液に追加供給される現像補充液であって、当初現像液よりも高濃度の界面活性剤を含有することを特徴とする現像補充液。 - 特許庁

After a substrate W, to which a developing solution has been supplied by a developing solution supply part 50, is subjected to a first rinsing process with a rinsing solution supply part (60), the surface of the substrate W is entirely heated by supplying heated nitrogen gas to the main surface of the substrate W from a heated gas supply part 80.例文帳に追加

現像液供給部５０によって現像液の供給された基板Ｗに対してリンス液供給部６０により第１のリンス処理を施した後、加熱気体供給部８０によって基板Ｗに対して加熱された窒素ガスを基板Ｗの主面に供給して基板Ｗ全面を加熱する。 - 特許庁

A plurality of tanks 104 for storing a plurality of processing solution, severally, including, at least, a developing solution and a fixing solution, are provided, a temperature sensor 274 and a heater 272 are disposed in each tank, a reference temperature is set up for each processing solution, and the heaters 272 are each controlled so that the reference temperatures are attained.例文帳に追加

少なくとも現像液および定着液を含む複数の処理液をそれぞれ収容する複数のタンク１０４を備え、各タンクに温度センサ２７４およびヒーター２７２を配置し、処理液ごとに基準温度を設定し、前記基準温度になるようにヒーター２７２を制御する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition capable of using a basic aqueous solution as a developing solution, having practical sensitivity and capable of forming a fine pattern free of swelling.例文帳に追加

現像液として塩基性水溶液を使用することができ、実用的な感度を有していて膨潤のない微細パターンを形成することができるネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A black-and-white silver halide photographic sensitive material having a built-in auxiliary developing agent containing a 1-phenyl-3-pyrazolidone derivative with a specified structure is processed by using a developing solution containing ascorbic acids as a developing agent (and not containing a dihydroxybenzene type developing agent) without incorporating an auxiliary developing agent comprising 1-phenyl-3-pyrazolidones.例文帳に追加

アスコルビン酸類を現像主薬として含有する現像液（ジヒドロキシベンゼン型の現像主薬を含有せず）を、１−フェニル−３−ピラゾリドン類の補助現像主薬を含有させることなく用いて、特定構造の１−フェニル−３−ピラゾリドン誘導体を含有する補助現像主薬内蔵型の黒白ハロゲン化銀写真感光材料を処理する。 - 特許庁

The developing step is carried out by injecting a developer solution from a spray injection device to a plate material after exposure.例文帳に追加

現像工程が、露光済みの版材にスプレー式の噴射装置より現像液を噴射して現像することを特徴とする。 - 特許庁

Then the substrate 10 having the second resist layer 17 is immersed in a developing solution 20d to develop the second resist layer 17.例文帳に追加

次に、第２のレジスト層１７を含む半導体基板１０を現像液２０ｄに浸漬して、第２のレジスト層１７を現像する。 - 特許庁

After the resist film 8' is exposed, a developing solution is removed to form a barrier 8 in a remaining part of the resist film 8'.例文帳に追加

次に、レジスト膜８’を露光した後に現像液で除去することで、レジスト膜８’の残留した部分が隔壁８となる。 - 特許庁

Accordingly, the influence due to mingling of the liquid W and the developing solution 32 is prevented from being exerted on liquid development processing.例文帳に追加

したがって、液体Ｗと現像液３２と混ざり合うことによる影響が液体現像処理に及ぶのを防止している。 - 特許庁

To provide a composition for forming a protective film for forming a new protective film which can be peeled with a developing solution in liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光における現像液で剥離できる、新規な保護膜を形成しうる保護膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

To supply, without waste, a developing solution onto the surface of a substrate which is coated with a resist and subjected to an exposure process while restraining it from flowing.例文帳に追加

レジストが塗布され露光処理がされた基板の表面に液流れのない現像液を無駄を抑えて供給すること - 特許庁

A developing solution for a photosensitive polyimide precursor is prepared by blending an organic solvent with ≥1 wt.% water.例文帳に追加

有機溶剤に水を１重量％以上配合してなる感光性ポリイミド前駆体用現像液及びパターンの製造法。 - 特許庁

An acid catalyst 8 is generated in an exposed part in the resist film 6 and the exposed part is made soluble in a developing solution.例文帳に追加

レジスト膜６内の露光部分には酸触媒８が発生し、露光された部分が現像液に対して可溶性となる。 - 特許庁

HYDROXYLAMINE SALT SOLID MIXTURE, METHOD FOR STORING THE SAME, AND COLOR DEVELOPING SOLUTION FOR SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL USING THE SAME例文帳に追加

ヒドロキシルアミン塩固体混合物、その保管方法及びそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料用発色現像液 - 特許庁

To provide a resist developing solution which is reduced in a permeability into a gap between polymer aggregates and has a sufficient dissolution rate, and to provide a pattern forming method by which a pattern low in line edge roughnessby can be formed by using the resist developing solution.例文帳に追加

高分子集合体と高分子集合体との隙間への浸透力を弱め、十分な溶解速度を有するレジスト現像液と該レジスト現像液を使用して、低いラインエッジラフネスのパターンを形成可能としたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A cleaning fluid to which an ultrasonic vibration is given by a cleaning-fluid supply part 60 with reference to the substrate W is supplied to the main face of the substrate W to which a developing solution is supplied by a developing-solution supply part 30, and the whole face of the substrate W is cleaned.例文帳に追加

現像液供給部３０によって現像液の供給された基板Ｗに対して洗浄液供給部６０により超音波振動の付与された洗浄液を基板Ｗの主面に供給して基板Ｗ全面を洗浄する。 - 特許庁

A predetermined color developing absorbing solution is housed in the nitrogen dioxide collecting means 3 and the atmosphere or exhaust gas sucked by the suction means 1 is introduced into the nitrogen dioxide collecting means and passed through the color developing absorbing solution to develop a color.例文帳に追加

二酸化窒素捕集手段３の内部には所定の発色吸収液が収納され、吸引手段１を用いて吸引した大気又は排気ガスを二酸化窒素捕集手段３に導入し、発色吸収液に通気させて発色させるように構成する。 - 特許庁

To provide a developing solution composition for a negative type photosensitive planographic printing plate which ensures excellent ink receptivity for a developed printing plate, does not use a chemical substance liable to have endocrine diturbance action and its analogue and takes the environment into consideration, and to provide a developing solution composition excellent in defoaming property.例文帳に追加

現像した印刷版の着肉性に優れ、なおかつ内分泌撹乱作用を有すると疑われる化学物質及びその類似化合物を用いない、環境に考慮したネガ型感光性平版印刷版用の現像液組成物を提供する。 - 特許庁

During the developing process, the photoresist film 3 is irradiated with irradiation light (infrared) having the wavelength area that makes soluble parts dissolving into the developing solution 7 absorb the irradiation light selectively in comparison with insoluble parts not dissolving into the solution 7 on the exposed photoresist film 3.例文帳に追加

現像処理工程中に、露光処理後のレジスト膜３において現像液７に溶解する可溶部分が現像液７に溶解しない不溶部分に比べ選択的に吸収を起こす波長域の照射光（赤外線）を、レジスト膜３に照射する。 - 特許庁

To provide a method for replenishing a developer in an automatic developing apparatus for a photosensitive planographic printing plate by which the sensitivity of a developing solution containing a development inhibitor is controlled to be constant against changes in a process amount while a developing unit of an automatic developing apparatus has a simple and inexpensive structure in a replenishing system based on conductivity.例文帳に追加

電導度基準補充方式において、自動現像装置の現像部を簡易で安価な構成としながら、現像抑制剤を含有する処理量の変動に対する現像液感度を一定にする、感光性平版印刷版用自動現像装置の現像補充方法を提供する。 - 特許庁

When a power source switch is turned on, the automatic developing device replenishes the alkaline replenishing solution for the stop time of the replenishing solution meeting the stop time and thereafter replenishes the alkaline replenishing solution for the working time at every lapse of the prescribed time while measuring the working time.例文帳に追加

自動現像装置は、電源スイッチがオンされると、停止時間に応じたアルカリ補充液の停止時間補充を行い、この後に、稼動時間を計測しながら所定時間経過する毎にアルカリ補充液の稼働時間補充を行う。 - 特許庁

At this time, since a solution, such as a developing fluid or a rinse solution, does not reach the first metal film 12A owing to the shield by the second metal film 15, the solution will not corrode the organic EL layer 13 and the first metal film 12A via the first metal film 12A.例文帳に追加

このとき、現像液、リンス液などの溶液は、第２金属膜１５の遮蔽により第１金属膜１２Ａに到達しないため、第１金属膜１２Ａを介して有機ＥＬ層１３、第１金属膜１２Ａを浸食することはない。 - 特許庁

The developing solution supplying apparatus 100 is equipped with a control tank 5 and an equalizing tank 6, connected in the post stage of a receiving tank 1 connected to a developing apparatus 210 via a pipe L1.例文帳に追加

現像液供給装置１００は、現像処理装置２１０に配管Ｌ１を介して接続された受入槽１の後段に、調整槽５及び平準化槽６が連設されたものである。 - 特許庁

A developing stop processing tank 18 is provided between a developing processing tank 16 storing a developer 16A and a fixing tank 20 storing a fixing solution 20A along a carrying direction of a photosensitive web 12.例文帳に追加

感光ウエブ１２の搬送方向に沿って、現像液１６Ａが貯留された現像処理槽１６と、定着液２０Ａが貯留された定着槽２０との間に、現像停止処理槽１８を設ける。 - 特許庁

A conductive polymer is exposed to a wet developing solution, by using standard photolithography and the resists developing method and only conductive polymer wires are left on a substrate by removing part of the exposed conductive polymer region.例文帳に追加

標準のフォトリソグラフィおよびレジスト現像技法を使用して、導電ポリマーをウェット現像液に曝し、曝された導電ポリマー領域の一部を除去し、導電ポリマー線のみを基板の上部に残す。 - 特許庁