「electron beam processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

HIGH-SPEED PROCESSING METHOD USING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND OPTICAL CIRCUIT MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加

電子線描画を利用したパターンの高速加工方法及びそれを用いて作製した光回路 - 特許庁

METHOD FOR DETECTING END POINT OF MODIFICATION OF FILM, ITS END POINT DETECTING DEVICE AND ELECTRON BEAM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

膜改質の終点検出方法、その終点検出装置及び電子ビーム処理装置 - 特許庁

FOCUSED ION BEAM PROCESSING METHOD, AND PREPARATION METHOD OF TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE SAMPLE USING IT例文帳に追加

集束イオンビーム加工方法およびそれを用いた透過型電子顕微鏡試料の作製方法 - 特許庁

Reading/writing processing is executed by an electron beam emitted from the carbon nanotube 16.例文帳に追加

カーボン・ナノチューブ１６から放出された電子線により読出し／書込み処理が実行される。 - 特許庁

ELECTROSTATIC DEFLECTING SYSTEM, ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SUBSTRATE例文帳に追加

静電偏向器及び電子線照射装置及び基板処理装置及び基板処理方法及び基板の製造方法 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device capable of processing a work by an electron beam easily, excellently at low cost without enlarging the device.例文帳に追加

装置を大型化することなしに、低コストで電子線によるワークの処理を容易かつ良好に行うことができる電子線照射装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A supply carrier 12a, for supplying the irradiation part carrying device for electron beam irradiation processing with objects to be irradiated prior to electron beam irradiation, is constituted as follows.例文帳に追加

電子線照射処理を施すための照射部搬送装置に電子線照射前の被照射物２を供給する供給搬送装置１２ａを次のように構成した。 - 特許庁

A silicon substrate 101 is carried into the processing chamber of a predetermined electron beam exposure system and a desired region of a carbon nanotube 103 is irradiated with an electron beam 110.例文帳に追加

シリコン基板１０１を所定の電子線露光装置の処理室に搬入し、カーボンナノチューブ１０３の所望の領域に電子線１１０が照射された状態とする。 - 特許庁

To provide an electron source used for fusion in vacuum, welding, processing, and vapor deposition, capable of quickly changing a beam power of the electron gun.例文帳に追加

真空中での溶解、溶接、加工、および蒸着等に用いられる電子源において、電子銃のビームパワーを急速に変化させる。 - 特許庁

The processing progress is monitored by running the electron beam, and detecting secondary electrons generated from the object by a secondary electron detector to acquire an electron microscope image.例文帳に追加

また、電子ビームを走査させ、物体から発生した二次電子を二次電子検出器で検出し電子顕微鏡画像を取得して、加工の進行状況をモニタリングする。 - 特許庁

A coating pattern is printed on a substrate with the coating material and is cured by using an electron beam ('EB') processing.例文帳に追加

基体に被覆材で被覆模様を印刷し、そして電子ビーム（“ＥＢ”）加工処理を使用して硬化させる。 - 特許庁

The inside of the processing vessel 8 is irradiated with an electron beam through the bulkhead 10 from the electron beam generation part 9 while the inside of the processing vessel 8 connected to the electron beam generation part 9 through the bulkhead 10 is made an oxidation gas atmosphere, and the production adhered to the bulkhead 10 and the inside of the processing vessel 8 is effectively oxidized and removed.例文帳に追加

隔壁１０を介して電子線発生部９に接続された処理容器８内を酸化性ガス雰囲気にしつつ、電子線発生部９から隔壁１０を介して処理容器８内に電子線を照射し、隔壁１０及び処理容器８内に付着する生成物を効果的に酸化・除去する。 - 特許庁

To provide an electron beam drawing apparatus capable of processing a plurality of lots using a direct drawing system efficiently.例文帳に追加

直接描画方式で複数のロットを効率良く処理可能な電子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

The electron beam irradiation processing is performed while the core wire is electrically connected to the shaft 92.例文帳に追加

電子線照射処理は、当該芯線をシャフト９２に電気的に接続した状態のまま行われる。 - 特許庁

FOCUSED ION BEAM DEVICE FOR TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE SAMPLE PROCESSING EQUIPPED WITH WRITING FUNCTION BY CODING RELEVANT INFORMATION例文帳に追加

関連情報をコード化して書き込む機能を備えたＴＥＭ試料加工用集束イオンビーム装置 - 特許庁

SHAPE PROCESSING CONTROL TECHNOLOGY FOR LOCALLY REMOVING AND CUTTING CARBON NANO MATERIAL BY ELECTRON BEAM, AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

電子線によるカーボンナノ材料の局部除去及び切断による形状加工制御技術及び装置 - 特許庁

To provide an electron beam processing device capable of preventing deviation of an ion beam to the center, and of keeping a cooling effect of an acceleration grid.例文帳に追加

イオンビームの中央への偏りを防止するとともに、加速グリッドの冷却効果を維持できる電子ビーム加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of controllably reflecting electrons from an array of electron reflectors to make electron beam projection lithography possible at low cost because of maskless processing, and a device of a dynamic pattern generation machine for reflective electron beam lithography.例文帳に追加

マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device facilitating a repair for connecting a broken long processing object and an inspection inside the electron irradiation device.例文帳に追加

切れた長尺被処理物をつなぐ修理及び電子線照射装置内の点検を容易にする電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam processing machine that can make a pulse beam to high frequency and optionally control a maximum or minimum value of the pulse beam, thereby allowing high quality welding.例文帳に追加

パルスビームを高周波化できるとともに、パルスビームの最大値や最小値の値を任意にコントロールでき、品質の高い溶接を可能にする電子ビーム加工機を得ることである。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device and an electron beam irradiation processing apparatus provided with a collector electrode, which stably operate without adding special mechanisms.例文帳に追加

コレクター電極、これを備えた電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射処理装置において、特別な機構を付加することなく安定した動作を有する装置を提供する。 - 特許庁

The plasma processing system includes an electron source electrode, where direct current (DC) power is coupled to generate a ballistic electron beam in etching a substrate.例文帳に追加

基板のエッチング中に弾道電子ビームを生成するために、プラズマ処理システムは、直流（ＤＣ）電力が結合される電子源電極を含んでいる。 - 特許庁

COMPOSITE CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS, SAMPLE PROCESSING METHOD USING IT AND SAMPLE MANUFACTURING METHOD FOR TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

複合荷電粒子ビーム装置、それを用いた試料加工方法及び透過電子顕微鏡用試料作製方法 - 特許庁

To provide a target mark member, having micromarks used for focus adjustment or measurement of the shape of the beam, in an electron beam processing system.例文帳に追加

電子ビーム処理装置において電子ビームの焦点調整又はビーム形状の測定に用いられる、微細なマークを有するターゲットマーク部材を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation device capable of preventing a wire from being charged without using a special device, when applying crosslinking processing to a coating part of a wire by irradiating the wire with an electron beam.例文帳に追加

電子線を電線に照射して電線の被覆部に架橋処理を施す際に、特別な装置を用いることなく、電線の帯電を防止することができる電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device for processing and observing a sample by irradiating the sample with both an ion beam and an electron beam, which includes a common detector for both the ion beam and the electron beam, and in which the detector can be provided at a suitable position in accordance with details of processing on the sample and an observation technique.例文帳に追加

イオンビームと電子ビームの両方を試料へ照射して、試料の加工と観察を行う荷電粒子線装置において、イオンビームと電子ビームの両方に対して共通の検出器を有し、試料の加工内容や観察手法に応じて適した位置に検出器を設けることができる荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁

TEM SAMPLE WITH IDENTIFICATION FUNCTION, TEM SAMPLE-PROCESSING FOCUSED ION BEAM DEVICE AND TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

識別機能を備えたＴＥＭ試料及びＴＥＭ試料加工用集束イオンビーム装置並びに透過型電子顕微鏡 - 特許庁

To provide a data processing technology for eliminating unevenness that a pattern on a photomask has in electron beam exposure.例文帳に追加

電子線露光によりフォトマスク上のパターンに発生するムラを解消するデータ処理技術の提示を目的とする。 - 特許庁

To remove a product adhered to the bulkhead and the inside of a processing vessel connected to an electron beam generation part through the bulkhead.例文帳に追加

隔壁を介して電子線発生部に接続された処理容器内及び隔壁に付着する生成物を除去する。 - 特許庁

To reduce a bleeding of X-ray image due to scattering of electron beam by performing an acumination processing and restraining the amplification of noises.例文帳に追加

先鋭化処理を施し、かつノイズの増幅は抑え、電子線の散乱によるＸ線像の滲みを軽減する。 - 特許庁

APPARATUS WITH COAXIAL BARREL OF FOCUSED-ION BEAM AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, AND METHOD FOR IMAGE FORMING AND PROCESSING例文帳に追加

集束イオンビームと走査型電子顕微鏡との同軸鏡筒を備えた装置並びに像形成及び処理方法 - 特許庁

To provide an electron beam device, capable of maximally utilizing an advantage of using multi-beams by providing a specific signal processing circuit processing a detection signal, after detecting a secondary electron by a detector.例文帳に追加

二次電子を検出器で検出した後、その検出信号を処理する具体的な信号処理回路を提供し、マルチビームを使用する利点を最大限に活用し得る電子線装置を提供する。 - 特許庁

To realize an inexpensive compact electron beam irradiation having a heightened processing capacity and exerting no biological influence or no optical influence on the inside of an irradiation object, by irradiating a purified electron beam having reduced X-rays included in the electron beam to the irradiation object, in a system for irradiating a low-energy electron beam from the whole periphery of an irradiation object passage.例文帳に追加

解決しようとする課題は、被照射体通路の全周囲から低エネルギー電子線を照射する方式であって、電子線に含有されるＸ線を減少させた純化した電子線を被照射体に照射して、被照射体の内部に生物学的影響や光学的な影響を与えない、安価で処理能力を高めたコンパクトな電子線照射を実現することである。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device and a sample manufacturing method capable of concurrently performing a thin film processing with high accuracy by irradiating ion beam on a sample and an STEM observation with high resolution by irradiating electron beam with high throughput almost without moving the sample.例文帳に追加

試料のイオンビーム照射による高精度の薄膜加工と電子ビーム照射による高分解能のＳＴＥＭ観察の両者を、ほぼ試料を動かすことなく、高スループットで実施する。 - 特許庁

To provide an electron beam curable releasing sheet for processing with good heat resistance and a required stable surface gloss.例文帳に追加

耐熱性が良好で、かつ所望の安定した表面光沢を有する電子線硬化型工程用剥離シートを提供する。 - 特許庁

SAMPLE STAGE FOR FOCUSED ION BEAM PROCESSING DEVICE, AND METHOD FOR MAKING TRANSMISSION TYPE ELECTRON MICROSCOPE PLANE-OBSERVED SEMICONDUCTOR THIN SAMPLE例文帳に追加

集束イオンビーム加工装置の試料ステージと透過型電子顕微鏡平面観察用半導体薄片試料の作製方法 - 特許庁

The metal surface is directly phase-transformed into a modified layer containing more ceramic particles with the ion beam implantation, or high-speed electron beam irradiation as the pretreatment, and the plasma processing as the main processing.例文帳に追加

イオンビーム注入、或いは、高速電子線照射を前処理とし、プラズマプロセッシングを主加工として、金属直面を直接的にセラミックス粒子を多く含む改質層に相変態させる加工法。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation processing device allowing accurate measurement of the quantity of electron beam emitted from an electron beam tube by reducing generation of the abnormal plasma inside a chamber due to introduction of a power supply line, which is used for supplying electric power to a power driving part such as a heater, into the chamber.例文帳に追加

ヒータ等の電力駆動部に電力を供給するための電力供給線をチャンバー内に導入したことによって生ずるチャンバー内の異常プラズマの発生を抑制し、電子線管から出射される電子線量を正確に測定することを可能にした電子線照射処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology capable of reducing a data quantity drawn data and processing data at a high speed by efficiently generating drawing data of an electron beam lithography apparatus.例文帳に追加

電子線描画装置の描画データ作成を効率的に行うことにより、データ量の削減、データ処理の高速化を図る。 - 特許庁

ELECTRON DETECTING DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE, AND PROCESSING, OBSERVATION, INSPECTION METHODS FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT DEVICE例文帳に追加

電子検出装置，荷電粒子ビーム装置，半導体集積回路装置、および半導体集積回路装置の加工，観察，検査方法 - 特許庁

To apply thin film processing by the other pre-processing method on a sample processed by a focused ion beam processing method or the like, and to observe and analyze it as it is by an electron microscope.例文帳に追加

本発明の目的は、集束イオンビーム加工法などにより加工した試料をさらに他の前処理法で薄膜加工し、そのまま電子顕微鏡により観察および分析することにある。 - 特許庁

Further, the surface of the resist agent 12 is irradiated with an electron beam to raise the glass transition temperature of an upper-layer part and then baking processing is carried out.例文帳に追加

更に、レジストパターン１２ａの表面に電子ビームを照射し、上層部のガラス転移温度を上昇させたあとベーク処理を行う。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation equipment which is small and simple and uses small amount of inert gas and has a short cycle time of processing irradiated matter.例文帳に追加

小型で簡素かつ不活性ガスの使用量が少なく、被照射物処理のサイクルタイムが短い電子線照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography device compatible with high position precision required in mask drawing processing for DE/DP.例文帳に追加

ＤＥ／ＤＰ用マスク描画処理において要求される高い位置精度に対応可能な電子ビーム描画装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an electron beam irradiation system and an electron beam irradiation method which can perform such a reforming processing as bridging by efficiently irradiating organic materials with electron beam and prevent integrity harming of such system as irradiation room by suppressing dissolution products, and prevent quality degradation because of stagnation of dissolution products inside the irradiation target.例文帳に追加

有機材料に効率的に電子線照射を行って架橋等の改質処理が行えるとともに分解生成物を抑制して照射室等システムの健全性阻害を防止し、被照射物の内部に分解生成物が留まり品質劣化が生じることも防止できる電子線照射システム及び電子線照射方法。 - 特許庁