| 意味 | 例文 |
fine-patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2994件
To macroscopically inspect a step structure such as a fine pattern, etc., so that its average information is provided with ease.例文帳に追加
微細なパターン等の段差構造をマクロ的に検査して、その平均的な情報を容易に得る。 - 特許庁
To provide a method and device for measuring a form which can measure a fine pattern accurately.例文帳に追加
微細なパターンを正確に測定することができる形状測定方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
To provide a fine machining device and a fine machining method allowing easy machining even to the interior of a closed region surrounded by a pattern of an insulator and free machining of a more complicated fine pattern in machining a machining pattern transformed into an insulator, on a conductive workpiece.例文帳に追加
導電性の被加工物に対し絶縁物に変成された加工パターンを加工するに際して、絶縁物によるパターンで囲まれた閉領域の内部に対しても容易に加工することが可能となり、より複雑で微細なパターンを自由に加工することができる微細加工装置および微細加工方法を提供する。 - 特許庁
To provide a fine pattern forming material in which an alloy layer provided for forming a fine pattern on the surface side of a substrate can be made of only one layer, and further, fine pattern holes can be surely formed at an extremely narrow period to several hundreds nm period, and to provide a stacked structure and a sputtering target.例文帳に追加
基板の表面側に微細パターンを形成するために設ける合金層を一層だけとすることができる上に、数百nm周期までの極めて狭い周期で微細パターン穴を確実に形成することができる微細パターン形成材料、および積層構造体、ならびにスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁
To provide a die machining method by which a fine pattern can be formed on the surface of a desired shape with high accuracy in an easy production process without limiting the size of the fine pattern while avoiding complexity of the die production process in a method of producing the die for molding a molded article having the fine pattern.例文帳に追加
微細パターンを有する成形品を成形するための金型の製造方法について、その製作工程の煩雑化を避け、微細パターンのサイズが制限されないで、所望形状の表面に微細パターンを容易な製作工程で高精度に形成できるように、金型加工方法を工夫すること。 - 特許庁
In the molding die for manufacturing the molded object with the fine uneven pattern formed on at least one surface by injection molding, the bottom surface part 15 of a recessed part 12 of the fine uneven pattern 10 of the movable half surface corresponding to the fine uneven pattern of the molded object, is laminar with pores.例文帳に追加
少なくとも1つの面に微細な凹凸によるパターンを有する成形品を射出成形により製造するための成形用金型において、前記成形品の微細な凹凸パターンに対応する可動金型面の微細な凹凸パターン10の凹部分12の底面部15が気孔を有する層となっている。 - 特許庁
To provide a resist pattern thickening material which efficiently thickens a resist pattern, while suppressing sublimation of low-molecular compounds, and which enables a fine resist pattern to be produced, with the fine resist pattern exceeding the exposure limit in a light source of an existing exposure device, to provide a semiconductor device manufactured that uses the resist pattern thickening material, and to provide a method for manufacturing the device.例文帳に追加
低分子化合物の昇華を抑制しつつ、レジストパターンを効率良く厚肉化して、既存の露光装置の光源における露光限界を超えた微細レジストパターンを製造することができるレジストパターン厚肉化材料、並びに、該レジストパターン厚肉化材料を用いて製造された半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition which can give a high-contrast pattern at a high sensitivity and is excellent in the resolution of a fine pattern and in adhesion.例文帳に追加
高感度で高コントラストのパターンを得られると同時に、微細パターンの解像性及び接着性に優れたポジ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁
Consequently, the mixture liquid is substituted to the rinse liquid adhering to the gap of a pattern even when a fine pattern FP is formed on the substrate surface Wf.例文帳に追加
これにより、基板表面Wfに微細パターンFPが形成されている場合であってもパターンの間隙に付着するリンス液が混合液に置換される。 - 特許庁
To provide a method of creating a mask pattern facilitating formation of a fine pattern with high accuracy in a lithographic process using a reflective optical system.例文帳に追加
反射型光学系を用いるリソグラフィ工程において微細なパターンを高精度に形成することができるマスクパターンデータの生成方法を提供する。 - 特許庁
An inversion pattern (2nd inversion pattern) 23 is only formed of silicon rubber of, for example, approximately 10 mm in thickness and has many fine projections 25 formed on one surface.例文帳に追加
反転型(第2の反転型)23は、例えば厚さ10mm程度のシリコンゴムで形成されれば良く、一面に多数の微細な突起25が形成されている。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a fine pattern which has superior mold releasing properties, high pattern formation precision, and superior permanent film characteristics of surface hardness etc.例文帳に追加
モールド剥離性に優れ、かつ、パターン形成精度が高く表面硬度などの永久膜特性に優れた微細パターン製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a substrate, which prevents formation of a plated layer on a needless part, and can form a fine pattern, namely a clearer pattern of a circuit.例文帳に追加
無駄な部分のめっき層の形成を防止し、ファインパターン、即ちより鮮明な回路パターンの形成が可能な基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To form a fine pattern in simplified steps with superior shape accuracy and to produce an optical element using the pattern.例文帳に追加
簡略化された工程により優れた形状精度で微細パターンを形成可能なパターン形成方法およびこれを用いた光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To form a fine wall pattern which has deep black density, has no color-mixing and suppresses variation of a formed pattern associated with development conditions.例文帳に追加
高い黒色濃度を有すると共に、混色がなく、現像条件に伴なう形成パターンの変動を抑えて精細な壁パターンの形成を可能とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a photomask and a pattern by which line degeneration in a fine exposure pattern can be easily improved and reliability is improved, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加
容易に微細な露光パターンのライン縮退改善ができ、信頼性の向上するフォトマスク及びパターン作製方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a positive resist composition having improved exposure latitude and good sensitivity in the formation of a fine pattern and a pattern forming method using the same.例文帳に追加
微細パターンの形成に於いて、露光ラチチュードが改良され、感度も良好な、ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a technique to correct the distortion in the width direction of a printing pattern generated when a fine pattern thin film is formed by a letterpress printing method.例文帳に追加
微細パターン薄膜を凸版印刷法によって形成する際に発生する印刷パターンの幅方向の歪みを補正する技術を提供する。 - 特許庁
To form a fine pattern with a pitch a half of that of the smallest pattern possible in a lithography technology in a process for fabricating such as a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置等を製造する工程において、リソグラフィ技術により形成可能な最小パターンの1/2倍のピッチの微細パターンを形成する。 - 特許庁
To provide a photosensitive silver paste for forming a high precision and fine electrode pattern by solving the problems of conventional electrode pattern forming methods.例文帳に追加
従来の電極パターン作成法の問題点を解決して高精度な微細電極パターンを形成するための感光性銀ぺーストを提供することにある。 - 特許庁
To obtain a variable rectangular electron beam exposure apparatus capable of highly finely conducting exposure with respect to a predetermined fine line pattern having an arbitrary angle in the pattern region.例文帳に追加
任意角度をもった所定の細線パターンについて、そのパターン領域内を高精細に露光することのできる可変矩形型電子ビーム露光装置を得る。 - 特許庁
To provide a detector of projecting and recessed pattern capable of detecting a fine and dense projecting and recessed pattern with an image sensor of low resolution.例文帳に追加
低い解像度を有するイメージセンサであっても細かく密集した凹凸パターンを検知することができる凹凸パターン検知装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a forming method of a resist pattern by which a fine dimension pattern is formed with sufficient thickness, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
十分な厚みを有し、かつ微細寸法パターンが形成できるレジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern formation method capable forming a fine pattern by reducing the cost and time for forming.例文帳に追加
パターン形成において、低コスト化及び形成時間の短縮化を図るとともに、微細パターンの形成を可能としたパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a thin-film pattern which does not require an etching process and can facilitate forming a thin-film pattern with a fine evenness.例文帳に追加
エッチングプロセスが不要で、平坦性の良好な薄膜パターンを容易に形成することのできる薄膜パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁
Around the Genroku era, he began to produce Toran midare (a temper pattern) (涛瀾乱れ) influenced by Tsuda Echizen no kami (the governor of the Echizen Province) Sukehiro and Suguha (a temper pattern)(直刃) with nie (grainy martensite) and nioi (fine-grained martensite) like the style of Shinkai INOUE, and finally started carving by himself. 例文帳に追加
元禄頃から津田越前守助広に私淑した涛瀾乱れや沸匂深い井上真改風の直刃を焼き、自身彫りを見る。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
The pattern forming method includes applying and curing a composition for fine pattern formation, having a silazane bond on surfaces of patterns formed on a substrate.例文帳に追加
基板上に形成されたパターンの表面に、シラザン結合を有する微細パターン形成用組成物を塗布し、硬化させることを含む、パターン形成方法。 - 特許庁
To improve the manufacturing yield of a semiconductor device by preventing formation of an error pattern in a resist pattern by reducing fine residue on a semiconductor substrate.例文帳に追加
半導体基板上の微小残渣を低減して、レジストパターンにおける不正パターンの形成を防止し、半導体装置の製造歩留まりを向上させる。 - 特許庁
To provide a printed circuit board which can be made fine in pitch of a wiring pattern, without causing defects in the wiring pattern, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加
配線パターンの不良を生じることなく、配線パターンのファインピッチ化が可能な配線回路基板およびその製造方法を提供することである。 - 特許庁
To manufacture a master carrier having a pattern of soft magnetic layer accurately corresponding to the fine pattern on a substrate and to realize a magnetic transfer having a high transferring quality.例文帳に追加
基板の微細パターンに正確に対応した軟磁性層によるパターンを有するマスター担体を作成し、転写品質の高い磁気転写が行えるようにする。 - 特許庁
By using the reversed pattern to expose a positive resist, a photomask responding to a fine pattern can be produced in a short exposure time.例文帳に追加
この反転パターンを、ポジ型レジストを用いて露光することにより、微細なパターンに対応したフォトマスクを、短い露光時間で作成することができる。 - 特許庁
Edge detection is performed for a fine pattern exposed by a stepper and the profile of each individual pattern is detected on the surface and bottom surface of resist.例文帳に追加
ステッパにより露光した微細パターンに対しエッジ検出を行い、個々のパターンに対してレジスト表面及び底面におけるパターン形状を検出する。 - 特許庁
FORMING METHOD OF FINE PATTERN OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING SILICON GERMANIUM SACRIFICIAL LAYER AND FORMING METHOD OF SELF-ALIGNED CONTACT USING FORMING METHOD OF THE SAME PATTERN例文帳に追加
シリコンゲルマニウム犠牲層を用いた半導体素子の微細パターンの形成方法及びそのパターンの形成方法を用いた自己整列コンタクトの形成方法 - 特許庁
To form an upper layer silylation pattern of a fixed thickness without depending on the thickness of an upper layer resist film or a fine width of an upper layer silylation pattern.例文帳に追加
上層レジスト膜の膜厚、又は上層シリル化パターンの線幅に依存することなく、上層シリル化パターンを一定の膜厚で形成する。 - 特許庁
After the etching, the residual resist on the stamper is removed to obtain the stamper which has the fine pattern 4 and the additionally processed specific pattern 9 on the surface.例文帳に追加
エッチング後、スタンパ上の残留レジストを除去することにより微細パターン4と、追加工された所定パターン9を表面に備えるスタンパを得る。 - 特許庁
In this case, after the formation of the fine pattern, the base surface of the periphery of the pattern is chemically decorated with the hydrophilic molecular ink in an aqueous solution.例文帳に追加
その場合に、前記微細パターンの形成後に、水溶液中で微細パターンの周囲の基板面に前記親水性分子インクで化学修飾を行う。 - 特許庁
To provide a photosensitive silver paste for forming a high-precision fine electrode pattern by solving problems in a conventional electrode pattern forming method.例文帳に追加
従来の電極パターン作成法の問題点を解決して高精度な微細電極パターンを形成するための感光性銀ペーストを提供することにある。 - 特許庁
Since the pattern size control is effective to a fine pattern and both dose and the extent of shift are used as size control parameters, exposure with sufficient tolerance is enabled.例文帳に追加
微細なパターンに有効でかつ寸法制御パラメータとして照射量とシフト量の両方でできるので裕度のある露光が可能である。 - 特許庁
An inversion pattern (2nd inversion pattern) 23 is only formed of silicon rubber of, for example, approximately 10 mm in thickness and has many fine projections 25 formed on one surface.例文帳に追加
反転型(第2の反転型)23は、例えば厚さ10mm程度のシリコンゴムで形成されれば良く、一面に多数の微細な凸部が形成されている。 - 特許庁
On a substrate, solution containing fine particles is ejected with an action force by mechanical displacement to form a rectangular pattern or to form an electrode pattern by combining the rectangular patterns wherein the corner part of the pattern is covered with a dot pattern.例文帳に追加
基板上において、機械的変位による作用力で微粒子含有溶液を噴射させて、矩形パターンもしくは矩形パターンの組み合わせにより構成される電極パターンのコーナー部をドットパターンにより被覆するように打ち込む。 - 特許庁
To provide a method of forming a circuit pattern which manufactures a fine circuit pattern with few blots efficiently at low cost without short circuit, and to provide the circuit pattern formed by that, and, further, to provide a laminate having such a circuit pattern.例文帳に追加
短絡が無く、滲みの少ない微細な回路パターンを効率的且つ安価に製造する回路パターン形成方法、並びにそれにより形成された回路パターン、さらに、このような回路パターンを有する積層体を提供する。 - 特許庁
To provide a metal pattern forming method that forms a metal pattern by electroless plating technique, the method forming a pattern excellent in adhesion to a substrate and excellent in a fine line drawing property, and to provided the metal pattern formed by using the method.例文帳に追加
無電解めっき技術で金属パターンを形成する方法において基板との密着性が優れ、且つ細線描画性の優れた金属パターン形成方法とそれを用いて形成された金属パターンを提供することである。 - 特許庁
A resist pattern which is larger than the desired resist pattern by a prescribed size is formed on a substrate and corroded by exposure to an atmosphere of gaseous ozone in such a way that the resist pattern is made smaller by the prescribed size to obtain the desired fine resist pattern.例文帳に追加
基板上に所望レジストパターンよりも所定寸法だけ大きなレジストパターンを形成し、レジストパターンが所定寸法だけ小さくなるようにオゾンガス雰囲気に曝して侵食させ、もって所望の微細なレジストパターンを得る。 - 特許庁
To provide a pattern forming method with which a fine pattern can be formed with high definition, productivity upon pattern formation can be improved, and a prescribed pattern can be formed in a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加
微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a method for forming a precise and fine film pattern, the film pattern obtained by the film pattern forming method, a wiring structure that includes the film pattern, and a semiconductor device that includes the wiring structure.例文帳に追加
精密で微細な膜パターンを得ることができる膜パターンの形成方法、該膜パターンの形成方法により得られた膜パターン、該膜パターンを含む配線構造体、ならびに該配線構造体を含む半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method for forming a fine pattern with high precision, while improving the productivity of the pattern formation and for forming a predetermined pattern on a photosensitive composition with high resolution.例文帳に追加
微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a circuit board establishing interlayer connection using a conductive protrusion in which a fine circuit pattern can be formed and both a thick film circuit pattern and a fine circuit pattern can be formed on the same substrate.例文帳に追加
導電性突起を用いて層間接続を行う回路基板において、微細回路パターンの形成、さらには厚膜回路パターンおよび微細回路パターンの両者を同一基板上に形成することができる回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a forming method for a fine pattern with which a pattern with high precision can be obtained by applying a liquid material which is excellently released from a mold material to an in-printing lithography method, and a manufacturing method for a polarized light separating element using the same forming method for the fine pattern.例文帳に追加
型材との離型性に優れた液体材料をインプリンティングリソグラフィー法に適用することにより、高精度のパターンが得られる微細パターンの形成方法、及び該微細パターンの形成方法を用いた偏光分離素子の製造方法を提供する - 特許庁
Then, in the formation of the mask pattern 4, fine particles having a nanosize particle diameter are scattered for distributing uniformly, and the particle diameter of the fine particle, a distribution state, or the like is adjusted in relation to the shape of the mask pattern 4.例文帳に追加
そして、そのマスクパターン4の形成に際して、粒径がナノサイズの微粒子を散布して一様に分布させるとともに、マスクパターン4の形状十の関係でその微粒子の粒径や分布状況等を調整する。 - 特許庁
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