「fine-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a forming method of a pattern capable of forming a high precision fine pattern by reducing the side etch, when wet etching is used, and to provide a droplet discharging head.例文帳に追加

ウエットエッチングを用いた際のサイドエッチを低減することにより精度の高い微細なパターンを形成できる、パターンの形成方法、及び液滴吐出ヘッドを提供する。 - 特許庁

To form a pattern with resolution exceeding that of a conventional exposure apparatus, in a method for forming fine pattern of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の微細パターンを形成する方法であって、現状露光設備における解像度能力を上回って、より微細なパターンの形成が可能となるようにする。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive pattern which forms the fine conductive pattern having superior productivity and ample electrical conductivity.例文帳に追加

本発明の課題は、生産性に優れ、かつ十分な導電性を有する微細な導電性パタンの形成が可能な導電性パタンの形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern and a droplet discharge apparatus in which the fine pattern comprising droplets is easily formed by miniaturizing a discharge port for discharging the droplets.例文帳に追加

液滴を吐出する吐出口の微細化を容易にして、液滴からなるパターンの微細化を容易にさせたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a bank structure for forming a fine pattern in a thin line shape precisely and stably; and to provide a pattern formation method, an electro-optical device, and electronic equipment.例文帳に追加

細い線状の微細パターンを、精度よく安定して形成することができるバンク構造体、パターン形成方法、及び電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a meander line antenna the conductor pattern of which is formed in a meandered manner and the rough adjustment and the fine adjustment of which can be attained on the basis of a basic pattern in order to obtain a desired characteristic.例文帳に追加

導体パターンをメアンダ状に形成したメアンダラインアンテナに関し、所望の特性が得られるように、基本パターンを基に粗調整と微調整とを可能とする。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method for forming a fine resist pattern having high aspect ratio shape by using non-chemical amplification type resist which can be easily treated.例文帳に追加

取り扱いが容易な非化学増幅型レジストを使用して、微細で、かつ高アスペクト比の形状のレジストパターンを形成し得るレジストパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a black curable composition for wafer level lens capable of forming a cured film having excellent light shieldability and excellent in co-formability of both a large pattern and a fine pattern.例文帳に追加

遮光性に優れた硬化膜を形成でき、大パターン及び微細パターンの両者の同時形成に優れたウエハレベルレンズ用黒色硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern of a metallic film (mold) for conveniently manufacturing a metal work product or fine parts, and to provide a method of forming the pattern of a metallic film (mold).例文帳に追加

本発明の目的は、簡便に、金属加工品、微細部品を製造するための金属膜（金型）のパターンおよびその形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a high-speed patterning method using electron beam lithography that reduces time for forming a total pattern including a ultra-fine circuit pattern with a high dimensional accuracy.例文帳に追加

高寸法精度で超微細な回路パターンを含んだトータルパターンの形成時間を短縮させる電子線描画を利用したパターンの高速加工方法を提供する。 - 特許庁

To enable a highly accurate and high quality defect correction of an isolated fine pattern and an OPC pattern which is hardly observed by an ion beam defect correcting device because of charge-up.例文帳に追加

チャージアップのためにイオンビーム欠陥修正装置で観察しにくい微細化な孤立したパターンやOPCパターンの高精度かつ高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

To improve the recognition precision of nonparametric pattern recognition by forming a fine recognition boundary while suppressing memory capacity for storing a reference pattern.例文帳に追加

参照パターンを記憶するためのメモリ容量を抑制しつつ、きめ細かく識別境界を形成し、もってノンパラメトリックなパターン識別をおこなう場合の認識精度を上げること。 - 特許庁

To provide a flexible wiring board which can make a wiring pattern fine-pitched, to improve the mechanical strength of the wiring pattern, and to prevent disconnection or peeling.例文帳に追加

配線パターンのファインピッチ化が可能であると共に、配線パターンの機械的強度を向上させ、断線、または剥離の発生を防止できるフレキシブル配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which facilitates formation of minute ejection ports that eject liquid droplets, and formation of a fine pattern composed of liquid droplets, and to provide a liquid droplet ejector.例文帳に追加

液滴を吐出する吐出口の微細化を容易にして、液滴からなるパターンの微細化を容易にさせたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide an electric charge donor which enables a pattern in microstructure to be formed on a semiconductor surface through a simple process and a fine pattern forming body.例文帳に追加

本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, comprising forming a fine pattern by a sidewall transfer process, in which the upper portion of the pattern is prevented from having a bilaterally asymmetric shape.例文帳に追加

側壁転写プロセスによる微細パターンの形成において、パターン上部の形状が左右非対称になることを防止することが出来る製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent surface smoothness, high resolution to form a fine pattern, and a superior recovery rate and giving a pattern such as a photospacer.例文帳に追加

表面平滑性に優れ、微細なパターンまで解像可能で、更に、回復率に優れ、フォトスペーサーのようなパターンを形成しうる感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide an element formation method and interconnection formation method, which allows easy and accurate positioning, even if the pattern is a fine pattern or has high aspect ratio.例文帳に追加

微細なパターンやアスペクト比の高いパターンであっても、簡便かつ高精度に位置合わせを行うことが可能な素子形成方法および配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern in which a fine hole or trench pattern is formed through a smaller number of stages than an LELE process without using photolithography technique twice.例文帳に追加

ＬＥＬＥプロセスよりも少ない工程数で、フォトリソグラフィ技術を２度使用することなく、微細なホール又はトレンチパターンを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resin composition for forming a fine pattern which can attain smooth and further stable contraction of a resist pattern by heat treatment, and easy removal thereof by a subsequent alkali aqueous solution treatment.例文帳に追加

熱処理により、レジストパターンを円滑により安定して収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。 - 特許庁

To provide a simulation apparatus for simulating the change of signal characteristics in a wiring pattern under the consideration of the influence of a fine pattern lack without requiring huge amount of computational complexity.例文帳に追加

膨大な計算量を必要とせず、微小なパターン抜けの影響を考慮して、配線パターンでの信号特性の変化をシミュレートするシミュレーション装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for simply and inexpensively manufacturing a polymer sheet having an irregular pattern by reducing a required energy when forming a fine pattern on a polymer surface.例文帳に追加

ポリマー表面に微細パターンを形成する際に必要なエネルギーを少なくし、凹凸パターンを有するポリマーシートをより簡単に低コストで作製する方法を提供する。 - 特許庁

The tatami mat and the straw mat used as the surface of the tatami mat printed with the pattern and design may be obtained by printing the treated surface with the continuous fine and clear pattern and design using the finish ink.例文帳に追加

絵柄図柄を印刷した畳および畳表は、下地処理した面に仕上げインキを用いて連続した繊細鮮明な絵柄図柄を印刷したものでもよい。 - 特許庁

To provide a photomask and a method for forming a resist pattern by which a fine pattern can be more stably formed, and to provide a method for manufacturing a master information carrier.例文帳に追加

微細なパターンを、より安定に形成することを可能にできるフォトマスクとレジストパターンの形成方法及びマスター情報担体の製造方法を提供する。 - 特許庁

An Ni master 12 having a fine uneven pattern on a surface includes a release layer 14 containing a fluorine compound on the surface along the uneven pattern.例文帳に追加

微細な凹凸パターンを表面に有するＮｉ原盤１２において、凹凸パターンに沿って上記表面に、フッ素化合物を含有した離型層１４を備える。 - 特許庁

By the printing, the fine pattern is added to an originally existing dot pattern on the electronic processing paper and an information input by the electronic pen is made impossible in principle.例文帳に追加

この印刷で、電子処理ペーパ上の本来存在するドットパターンにさらに微細パターンを追加し、電子ペンによる情報入力を原理的に不可能とする。 - 特許庁

In addition, the rugged pattern can also be defined as a second pattern to become fine as a pitch to form the projected part is set apart from the center side by defining height of the project part as fixed.例文帳に追加

なお、凹凸パターンを、凸部の高さを一定として凸部を形成するピッチが中心側から離れるにつれて細かくなる第２のパターンとしてもよい。 - 特許庁

To provide a method which can form a conductive joining material for joining a wiring pattern and an electronic component together on a base body as a fine joining pattern.例文帳に追加

配線パターンと電子部品とを接合するための導電性接合材料を基体上に微細な接合パターンとして形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly practical pattern forming method for forming a fine pattern simply and efficiently, and applicable to a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であるとともに、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed wiring board capable of correctly (highly precisely and unfailingly) forming a conductor pattern including a very fine wiring pattern etc.; and to provide a method for manufacturing the printed wiring board.例文帳に追加

極めて微細な配線パターン等を含む導体パターンを精確に（高精度かつ確実に）形成することができるプリント配線板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To accurately form a light-shielding pattern on the lower surface of a lens sheet, by uniformly and stably forming the fine pattern of an adhesive part and a non-adhesive part on a photosensitive adhesive layer.例文帳に追加

感光性粘着層に粘着部と非粘着部の微細パターンを均一かつ安定に形成して、レンズシート下面に遮光パターンを高精度に形成する。 - 特許庁

To form a fine pattern with high precision on a magnetic recording medium in a technology to form a magnetic pattern on a magnetic recording medium by locally heating and applying magnetic field from the outside.例文帳に追加

局所加熱と外部磁界印加を組み合せて磁気記録媒体に磁化パターンを形成する技術において、微細な磁化パターンを効率よく更に精度よく形成する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-sensitive composition developable with an aqueous alkali developing solution without swelling a fine pattern and excellent also in shelf stability and to provide a pattern forming method using the composition and a method for producing a semiconductor device using the composition.例文帳に追加

水性アルカリ現像液で微細パタンが膨潤することなく現像でき、かつ保存安定性にも優れた感放射線組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a density irregularity removal device capable of removing density irregularities without damaging the tone of a fine part provided in a pattern on an image in the image provided with a building material pattern.例文帳に追加

建材柄を有する画像において、画像上の柄の持つ細部の調子を損なうことなく濃度ムラを除去することが可能な濃度ムラ除去装置を提供する。 - 特許庁

To form an isolated line pattern with high controllability by using a multiple resist layer having a two-layer structure with a LOF (lift-off) layer left in the lower part of the resist in the method for forming a fine resist pattern.例文帳に追加

微細レジストパターンの形成方法に関し、ＬＯＦ層をレジスト下部に残した２層構造の積層レジスト層を用いて、孤立ラインパターンを制御性良く形成する。 - 特許庁

To provide a material pattern formation method by an ink-jet method for giving a rectangular material pattern with good control performance of fine line width.例文帳に追加

本発明の目的は、微細な線幅制御性の良い矩形な材料パターンが得られるインクジェット方式による材料パターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin-film pattern having a fine pattern width with high accuracy without depending on the resolution limit of an aligner.例文帳に追加

露光装置の解像限界に依存せずに、微小なパターン幅を有する薄膜パターンを高精度に形成することが可能な薄膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mold for imprinting which can smoothly proceed dry etching to a hard mask layer and forms a fine pattern with high pattern accuracy.例文帳に追加

ハードマスク層に対するドライエッチングの進行をスムーズに行うことができ、高いパターン精度で微細パターンを形成するインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for stably forming a fine pattern having a large aspect ratio, and an impregnation device for use in the method.例文帳に追加

本発明は、アスペクト比の大きな微細パターンを安定して形成できるパターン形成方法と、その方法に使用される含浸装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, capable of suppressing development defects by using a defect removing agent in formation of a fine resist pattern by liquid immersion exposure or the like.例文帳に追加

液浸露光法等により微細なレジストパターンを形成する際に、欠陥除去剤を用いることによって、現像欠陥を抑制できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern correction method capable of easily correcting a fine pattern of ≤10 μm without damaging a substrate even when ruggedness exists on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板表面に凹凸がある場合でも、基板を損傷することなく１０μｍ以下の微細なパターンを容易に修正することが可能なパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming body that is efficiently manufactured by forming a highly fine pattern, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、高精細なパターンを形成することが可能であり、また効率よく製造可能なパターン形成体、およびその製造方法を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a thin-film pattern substrate where a thin linear fine film pattern is precisely and stably formed, a manufacturing method for a device, an electo-optical device, and electronic equipment.例文帳に追加

細い線状の微細な膜パターンが精度良く安定して形成された膜パターン基板、デバイスの製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern film formation method capable of forming a thin film by a vacuum film deposition method having high accuracy and highly fine pattern with high productivity and low cost.例文帳に追加

高精度かつ高精細なパターンを有する真空成膜法による薄膜を、高い生産性かつ低コストで形成することができるパターン膜形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the fine pattern of the semiconductor device using a double exposure patterning process capable of forming a secondary photoresist pattern by simple exposure without using an exposure mask is disclosed.例文帳に追加

露光マスクなしに単純露光により２次フォトレジストパターンを形成可能な二重露光パターニング工程を用いた半導体素子の微細パターン形成方法が開示される。 - 特許庁