「flatting」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The grain growth in the case of a hot plastic deformation (hot flatting) can be suppressed because a crystal grain size is mode remarkably fine in a pulverizing process by adding phosphorus, and the thermoelectric material having the high figure of merit can be manufactured because a crystal orientation is enhanced.例文帳に追加

燐を添加することで、粉砕工程において結晶粒径が著しく微細化するため、熱間塑性変形（熱間展延）の際の粒成長を抑制でき、かつ結晶配向性を向上させるため、性能指数の高い熱電材料を作製できる。 - 特許庁

This flatting agent comprises a composite aqueous emulsion containing chitosan or its derivative obtained by continuously or intermittently adding an emulsion of a free-radically polymerizable monomer to a reaction system in the presence of chitosan or its derivative and polymerizing it.例文帳に追加

キトサン又はその誘導体の存在下でラジカル重合性単量体の乳化液を連続的又は断続的に反応系に添加して、重合することにより得られる、キトサン又はその誘導体を含有する複合水系エマルジョンからなる艶消し剤を用いる。 - 特許庁

To decrease dust adherence to surface of a polishing object, to reduce scratches, to simultaneously realize a flatting property, and to eliminate microscopic irregularity of a semiconductor wafer itself before uneven part machining, namely defects expressed as waviness or nanotopology, by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、即ちwavinessや、nanotopologyなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

The method includes manufacturing cooling sheets 6 by perforating multiple through-holes 4 in a continuous sheet material 1 including the adhesive water-retention gel layer 5 while continuously or intermittently moving the continuous sheet member 1 formed by elongating and flatting the adhesive water-retention gel layer 3 between the support sheet 2 and a release sheet 4.例文帳に追加

支持シート２と剥離シート４との間に粘着性保水ゲル層３を展延してなる連続シート部材１を、連続してまたは間欠的に移動させる間、粘着性保水ゲル層３を含む連続シート部材１に、多数の貫通孔５を穿設して冷却シート６を製造する方法である。 - 特許庁

To decrease dust adherence to a surface of a polishing object, to reduce scratches, to simultaneously realize a flatting property, and to eliminate microscopic irregurality of a semiconductor wafer itself before uneven part machining, namely defects expressed as waviness or nanotopology, by a simple polishing method.例文帳に追加

被研磨物表面へのダスト付着性を少なくし、スクラッチ傷の低減を果たし、更に平坦化特性をも両立させること、さらに、凹凸加工する前の半導体ウェハー自身の微細な凹凸、即ちwavinessや、nanotopologyなどと表現される欠陥を簡単な研磨方法で取り除くことをその課題とする。 - 特許庁

In this method for forming pearl gloss coating film, a color base coating film layer having an L value of 65-100 is formed on a substrate, then an interference clear coat layer containing a interference pigment is formed on the color base coating film layer, and further a feat top clear coat layer containing a flatting agent is formed.例文帳に追加

基材に、Ｌ値が６５〜１００のカラーベース塗膜層を形成した後、上記カラーベース塗膜層上に干渉性顔料を含有した干渉クリヤーコート層を形成し、さらにその上に艶消し剤を含む艶消しトップクリヤーコート層を形成する真珠光沢塗膜形成方法。 - 特許庁

The forming method of the nano structure using the polysilicon layer has a step of flatting the surface of the polysilicon layer, a step of subjecting the flattened polysilicon layer to an activating treatment and a step of subjecting the polysilicon layer to an anodic oxidation using a solution.例文帳に追加

本発明の多結晶シリコン層を用いたナノ構造体の形成方法は、多結晶シリコン層の表面を平坦化する工程と、平坦化された多結晶シリコン層の活性化処理する工程と、多結晶シリコン層に、溶液を用いた陽極酸化をする工程とを有する。 - 特許庁

To provide an analyzer for spraying process that can analyze flatting/solidification phenomena of spraying particles unable to easily analyze by conventional Euler method and can treat deforming behavior of multiphase material and also even pore forming process induced by incorporating surrounding gas phase that have been unanalyzable until now.例文帳に追加

従来のオイラー法では容易に解析できなかった溶射粒子の偏平・凝固現象を解析し、これまでに解析が不可能であった多相材料の変形挙動や、周囲のガス相の取り込みによる気孔の形成過程までを取り扱うことができる溶射プロセスの解析装置を提供する。 - 特許庁

To provide an object surface flatting device capable of arranging, in case that an object surface within a three-dimensional space is shown as a group of polygons, the polygons on a plane so that distortion can be minimized even if the object surface is not expansible.例文帳に追加

３次元空間内の物体表面が多角形の集合体として表されている場合に、物体表面が展開不可能な場合であっても、多角形を平面上でできるだけ歪みが小さくなるように並べることができる物体表面平坦化装置を提供する。 - 特許庁

The irregular surface structure including TFT's 12 and driving wires 14 is not reflected, namely, the flatted insulating layer 1 is formed so that an influence of the irregular surface structure is relieved, thereby sufficiently flatting the surface of the flatted insulating layer 15.例文帳に追加

ＴＦＴ１２および駆動配線１４を含んで構成された表面凹凸構造を反映せず、すなわち表面凹凸構造の影響を緩和するように平坦化絶縁層１５が形成されるため、その平坦化絶縁層１５の表面が十分に平坦化される。 - 特許庁

This polyethylene wax-based flatting material (composition) comprises an organic solvent, a polyethylene wax dispersed in the organic solvent and an ethylene-vinyl acetate copolymer resin dissolved in the organic solvent; wherein the amount of the ethylene-vinyl acetate copolymer resin is characterized by being 0.5-30 pts.wt based on 100 pts.wt. of the polyethylene wax.例文帳に追加

有機溶剤と、該有機溶剤に分散したポリエチレンワックスと、該有機溶剤に溶解したエチレン酢酸ビニル共重合樹脂とからなり、上記エチレン酢酸ビニル共重合樹脂は、上記ポリエチレンワックス１００重量部に対して０．５〜３０重量部であることを特徴とするポリエチレンワックス系艶消し材。 - 特許庁

The method includes a step of preparing a CCL (copper-clad laminate) substrate made of a reinforced base and copper foils stacked on both sides of the base, a step of flatting the surfaces of the copper foils of the CCL substrate, a step of forming dielectric layers on the copper foil surfaces flatted above, and a step of forming upper electrodes on the dielectric layers.例文帳に追加

補強基材及びその両面に積層された銅箔からなるＣＣＬ基板を用意するステップと、前記ＣＣＬ基板の銅箔表面を平坦化するステップと、前記平坦化された銅箔表面上に誘電層を形成するステップと、前記誘電層上に上部電極を形成するステップとを含む。 - 特許庁

A stage part 21 projected to an opposite direction to a glass substrate 12 is formed along a peripheral edge part of a magnetic recording layer 20 corresponding to a convex part of the irregular pattern, and the stage part 21 is removed by a process (non-magnetic material filling process, flatting process) after magnetic recording layer processing process, in the magnetic recording layer processing process.例文帳に追加

磁気記録層加工工程において、凹凸パターンの凸部に相当する磁気記録層２０の周縁部に沿って、ガラス基板１２と反対方向に突出する段部２１を形成するようにし、磁気記録層加工工程の後の工程（非磁性材充填工程、平坦化工程）により段部２１を除去する。 - 特許庁

To prevent enlarging and flatting of a shell and make discharge of residual water in the shell profitable, while enhancing a silencing effect by sufficiently long extending an outlet pipe, in the silencer for an engine provided with an inlet pipe connected to an exhaust pipe, an outlet pipe opened to the atmospheric air, and an expansion chamber connecting both these pipes, in the shell.例文帳に追加

シェル内に、排気管に連なるインレットパイプ、大気に開口するアウトレットパイプおよびそれら両パイプを連通する膨張室とを備えた、エンジンの消音器において、アウトレットパイプを充分長く延長して、消音効果を高めながら、シェルの大型化、偏平化を防止し、かつ、シェル内の残留水の排出を有利にする。 - 特許庁

The curable composition and sealing material composition comprise a resin containing <1.0 cross-linkable silyl group on the average in the molecule and other curable resins as a curing component and preferably further an additive such as a plasticizer, a weather resistance stabilizer, a cross- linking catalyst, a filler, a coupling agent, a thixotropic agent, a preservation stability improver and/or a flatting agent.例文帳に追加

分子内に平均１．０個未満の架橋性シリル基を含有する樹脂と、これ以外の硬化性樹脂とを硬化成分として含有し、好ましくは更に、可塑剤、耐候安定剤、架橋触媒、充填剤、カップリング剤、揺変剤、保存安定性改良剤及び／又はつや消し剤などの添加剤を含有する、硬化性組成物及びシーリング材組成物である。 - 特許庁

To uniformly make flatness in the total surface of a semiconductor substrate, and attain uniform polishing up to in the vicinity of a wafer edge, in a polishing device or a polishing pad for use in a mechanical flatting process smoothing by polishing a surface of an insulation layer or metal wiring formed on the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の上に形成された絶縁層または金属配線の表面を研磨により平滑にする機械的な平坦化工程で使用するための研磨装置または研磨パッドにおいて、半導体基板全面が均一に平坦化されまたウェーハエッジ近くまで均一な研磨が達成できる技術を提供するものである。 - 特許庁

A flattening conversion pattern, i.e. a pixel value pattern before encoding a flat region where all pixel values in a region are equalized after being encoded and decoded, is encoded by an irreversible encoding system, the decoded flat value is specified transparent on the decoder side, and a region rendered transparent after decoding is filled with a flatting conversion pattern before encoding.例文帳に追加

符号化し復号されたときの領域の画素値がすべて同じになる平坦領域の符号化前の画素値パターンである平坦化変換パターンを非可逆符号化方式で符号化し、復号後の前記平坦値をデコーダ側で透明に指定するとともに、復号後透明にしたい領域を符号化前に、前記平坦化変換パターンで埋める。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing mold release paper which is used for embossing, can prevent the flatting of its emboss-forming uneven surface, and can well maintain the embossed designs of treated sheet-like materials, even when repeatedly used to form the emboss patterns on the sheet-like materials, and also to provide a method for producing the same.例文帳に追加

エンボス加工用離型紙を用いてシート状材料にエンボス模様を施すにあたり、エンボス加工用離型紙を繰り返し使用した場合であっても当該エンボス加工用離型紙のエンボス形状の凹凸が平坦化されることを抑制することができ、エンボス模様が施されたシート状材料の意匠性を良好に保つことができるようなエンボス加工用離型紙の製造装置および製造方法を提供すること。 - 特許庁

The golf club is equipped with a head whose angle of looking over is adjusted by changing the density or the degree of flatting of the painting applied to a crown periphery at about 15 mm from the projection line of a wood golf club head viewed from a golfer when the golfer addresses with the golf club from the painting applied to a crown center inside the periphery in the same color.例文帳に追加

課題を解決する為の手段は、ゴルフクラブをアドレスしたときにゴルファーから見たウッド型ゴルフクラブヘッドの投影線から１５ｍｍ程度の範囲にあたるクラウン周辺部と、前記周辺部よりも内側のクラウン中央部に施す塗装を、同系色の場合は濃度やつや消しの度合いを変えることによって、ゴルフクラブヘッドの見越し角度を調整したゴルフクラブヘッドを装着したゴルフクラブである。 - 特許庁