「force microscope」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

In this tapping mode atomic force microscope (AFM) system 10, the probe 22 is excited at an excitation frequency other than the probe's first natural frequency to produce a response signal manifesting a grazing bifurcation between "non-collision" and "collision" states of the AFM system, so that an additional characteristic frequency component is generated in the "collision" state.例文帳に追加

タッピングモード原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）システム１０において、プローブ２２は、プローブの１次固有振動数以外の加振周波数にて励振され、ＡＦＭシステムの「非衝突」状態と「衝突」状態との間のグレイジング分岐を明示する応答信号を作り出し、その結果、付加的な特性周波数成分が「衝突」状態において創出される。 - 特許庁

The work function measuring instrument 100A is constituted so as to calculate the work function of the probe 2A of a conductive cantilever 1A from the known work function value of each region of a standard sample 3A calculated by photoelectron spectroscopy and the surface potential value of each region of the standard sample 3A measured by a scanning Kelvin force microscope having the conductive cantilever 1A.例文帳に追加

仕事関数測定装置１００Ａは、光電子分光法により求められた標準試料３Ａの各領域の既知の仕事関数値と、導電性カンチレバー１Ａを有する走査型ケルビンフォース顕微鏡により計測された標準試料３Ａの各領域の表面電位値とから、導電性カンチレバー１Ａの深針２Ａの仕事関数を算出する。 - 特許庁

In the easily lubricating polyamide laminate film comprising a film layer made of a binder resin and provided on at least one side surface of a polyester film, a mean value of a roughness according to an AFM(atomic force microscope) on an outer surface of the film layer is 3 to 20 nm and specks of roughness are 5 to 70%.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、バインダー樹脂からなる皮膜層を設けた積層フィルムであって、皮膜層の外表面のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）による粗さの平均値が３〜２０ｎｍで、且つ、粗さの斑が５％以上７０％以下であることを特徴とする易滑性積層フィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体。 - 特許庁

In the case of measuring the surface area of the cured product subjected to desmear processing in a measuring region having a size of 100 μm×100 μm by using an atomic force microscope when the cured product subjected to the desmear processing by using the thermosetting film is obtained, the surface area of the cured product subjected to the desmear processing in the measuring region is 20000 μm^2 or larger.例文帳に追加

上記熱硬化性フィルムを用いたデスミア処理された硬化物を得たときに、原子間力顕微鏡を用いて、１００μｍ×１００μｍの大きさの測定領域における上記デスミア処理された硬化物の表面積を測定した場合に、測定領域における上記デスミア処理された硬化物の表面積が２００００μｍ^２以上である。 - 特許庁

In the method, a pulse voltage VB is applied to a material 3 having a ferroelectric thin film 1 by a conductive needle 2 by using an atomic force microscope, the amplitude of the pulse voltage VB is changed by a voltage applying means when a film thickness change of the ferroelectric thin film 1 is measured, and also a detecting output is measured through a lock-in amplifier 4.例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いて導電性針２によって強誘電体薄膜１を有する試料３にパルス電圧Ｖ_B を印加し、強誘電体薄膜１の膜厚変化分を測定する際に、パルス電圧Ｖ_B の振幅を電圧印加手段によって変化させるとともに、検出出力をロックインアンプ４を通して測定する。 - 特許庁

The system comprises an optical tweezers unit 2 which holds a particle 20, a lens 10 and an actuator 16 which move the particle 20 toward the object 35, a tetrameric photodetector 15 which measures a force acting on the object 35 from the particle 20, and a confocal unit 3 and a microscope unit 4 which enlarge the object 35 to observe.例文帳に追加

微粒子２０を保持する光ピンセットユニット２と、微粒子２０を測定対象物の方へ移動させるレンズ１０およびアクチュエーター１６と、微粒子２０から測定対象物３５に作用する力を計測する４分割光検出器１５と、測定対象物３５を拡大して見ることが可能な共焦点ユニット３および顕微鏡ユニット４とを備えている。 - 特許庁

In the transparent conductive base material, where the base material, a reflection prevention film, and the transparent conductive film are laminated in this order, the reflection prevention film is made of aluminum-doped zinc oxide, and the average surface roughness (Ra) of the reflection prevention film by an atomic force microscope is 1.0 nm or smaller.例文帳に追加

基材、反射防止膜及び透明導電膜が、この順で積層されてなる透明導電性基材であって、前記反射防止膜がアルミドープ酸化亜鉛からなり、かつ原子間力顕微鏡による前記反射防止膜の平均面粗さ（Ｒａ）が１．０ｎｍ以下であることを特徴とする透明導電性基材。 - 特許庁

To provide a signal detection apparatus enabling simplification of a mechanism for detecting the displacement of a probe and simplification of the arrangement of a detection system even if a plurality of probes are in use, thus enabling a space saving, a scanning atomic force microscope constructed of the detection apparatus, and a signal detection method.例文帳に追加

プローブ変位検出のための機構を簡単化することができ、また複数のプローブを用いる場合においても検出系の構成を簡便化することができ、省スペース化を図ることが可能な信号検出装置、該信号検出装置によって構成した走査型原子間力顕微鏡、および信号検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method to easily measure phase difference by using a scanning atomic force microscope(AFM) without peeling a resist 1 during manufacturing a Levenson type phase shift mask, and to provide a method for manufacturing phase shift mask such that the manufacture process of a Levenson phase shift mask can be significantly reduced by using the above method for measuring the phase difference.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスクの製造途中にレジスト１を剥離せずに、走査型原子間力顕微鏡(AFM)を用いて簡便に位相差を測定する方法を提供し、この位相差測定方法を用いてレベンソン位相シフトマスクの製造プロセスを大幅に短縮することが可能になる位相シフトマスク製造方法を提供する。 - 特許庁

An atomic force microscope 3 is prepared, and a cantilever 4 having the head on which a probe 6 is formed is mounted on a substrate 4a to form a cantilever combination 8, and an oscillation member 7 is driven to oscillate with a characteristic frequency of the cantilever 4, and a voltage corresponding to the frequency change Δf of the oscillation frequency from the characteristic frequency is detected by a frequency change detector 19.例文帳に追加

原子間力顕微鏡３を準備し、探針６が先端に形成されたカンチレバー４を基体４ａに、取付けてカンチレバー組合せ体８を構成し、振動部材７を駆動してカンチレバー４の固有振動数で発振し、振動周波数の固有振動数からの周波数変化Δｆに対応する電圧を周波数変化検出器１９によって検出する。 - 特許庁

In this extremely fine magnetic recording medium and its manufacturing method, non-oxidized regions enclosed by oxidized regions and oxidized regions enclosed by non-oxidized regions are arranged as an array by applying oxidation processing to the surface of a substrate which consists of magnetic material whose magnetic property is changed by oxidation by using an atomic force microscope under a wet atmosphere, and 1-bit information is made recordable in each region.例文帳に追加

酸化により磁気特性の変化する磁性材料からなる表面に対して、湿潤雰囲気下で原子間力顕微鏡を用いて酸化処理を施すことにより、酸化領域に囲まれた未酸化領域又は未酸化領域に囲まれた酸化領域をアレイ状に配し、前記各領域に１ｂｉｔの情報を記録可能とした、極微細な磁気記録媒体およびその製造方法。 - 特許庁

A surface area ratio ▵S^50 obtained from three-dimension data obtained by 512×512 point-measuring the 50 μm SQUARE of a surface by using an atomic force microscope and a steepness degree (a)45^50(0.2-2)例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いて、表面の５０μｍ□を５１２×５１２点測定して求められる３次元データより得られる表面積比ΔＳ^５０と、同じく表面の５０μｍ□を５１２×５１２点測定して求められる３次元データより波長０．２μｍ以上２μｍ以下の成分を抽出して得られる急峻度ａ４５^５０（０．２−２） とが、次の関係式［１］を満たすことを特徴とする平版印刷版用支持体。 - 特許庁

To provide a near-field light detection method and a device therefor having excellent spatial resolution and detection sensitivity of a near field, measuring a space distribution of near-field light by examining an electric potential distribution of surface plasmon excited by the near-field light by a Kelvin force microscope having spatial resolution of an atom to a nanometer order.例文帳に追加

本発明は、原子〜ナノメートルの空間分解能を持つケルビンフォース顕微鏡により、このこの近接場光により励起される表面プラズモンの電位分布を調べることにより、近接場光の空間分布を計測するものであり、空間分解能と近接場の検出感度に優れる近接場光検出方法およびその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The microorganisms of plural specimens can be simply and rapidly detected without requiring work force for a visual measurement and a fluorescence microscope which has the problem of difference between measurers by combining a filtration film for capturing microbes, a device such as a microtiter plate and a device for reading a signal by converting the signal to an electric signal.例文帳に追加

細菌を捕捉するろ過膜と、マイクロタイタープレートのようなデバイスとシグナルを電気信号に換えて読み取る装置を組み合わせることにより、目視計測による労力や測定者間の誤差に問題のある蛍光顕微鏡を必要とせず、同時に複数の検体について簡易かつ迅速に微生物を検出する。 - 特許庁

A standard sample 1 for an electric force microscope has known values of potential and shape and includes a substrate 2 made from a dielectric and a conductive electrode pattern 4 formed on the substrate 2, the electrode pattern 4 having a potential pattern whose potential distribution is known and a space pattern whose shape is known.例文帳に追加

電気力顕微鏡用標準試料１は、電位及び形状について既知の値を備える構成として、誘電体からなる基板２と、基板２上に形成される導電性の電極パターン４とを備え、電極パターン４は電位分布を既知とする電位パターン及び形状を既知とする空間パターンとを備える。 - 特許庁

The present invention relates to a film thickness evaluation method for measuring the distribution of film thickness of an insulation thin film by using an atomic force microscope which applies a variable DC voltage between a sample and a probe held by a cantilever.例文帳に追加

試料と、カンチレバーに保持された探針との間に可変直流電圧を印加する原子間力顕微鏡を用いて、絶縁性薄膜の膜厚分布を測定する膜厚評価方法で、試料の測定領域に電圧を変化させて印加するとともに、発生電流および絶縁破壊電圧を測定し、前記測定領域のうち任意の１点の膜厚を基準値として、各測定点の絶縁破壊電圧および（１）式の関係に基づいて、前記測定領域内の相対膜厚の分布を求めることとする。 - 特許庁

The black defect correction technique of the mask comprises recognizing the position of a black defect section of the mask by an atomic force microscope (AFM), moving the probe of the AFM upward of the black defect position, and removing the black defect by electrochemical reaction in the state of interposing an electrolyte between the probe and the black defect section as both electrodes and further comprises confirming the removal of the black defect by the AFM.例文帳に追加

本発明のマスク黒欠陥修正手法は、原子間力顕微鏡によってマスクの黒欠陥部位置を把握し、前記黒欠陥位置上方に前記原子間力顕微鏡の探針を移動させ、前記探針と前記マスク黒欠陥部を両電極とし電解液を介在させた状態で電気化学的反応により前記黒欠陥を除去するものであって、更に前記原子間力顕微鏡によって前記黒欠陥の除去を確認するものである。 - 特許庁

In the atomic force microscope, the cantilever control device 1 is constituted of: the cantilever 10 having the probe 12; an actuator 20 for causing the self-oscillation of the cantilever 10; an oscillation speed detector 30 for detecting the oscillation speed of the cantilever 10; a displacement calculator 32 for calculating the oscillation displacement of the cantilever 10 and a controller 40 for forming a signal for driving the actuator 20.例文帳に追加

原子間力顕微鏡において、探針１２を有するカンチレバー１０と、カンチレバー１０を自励振動させるアクチュエータ２０と、カンチレバー１０の振動速度を検出する振動速度検出器３０と、カンチレバー１０の振動変位を算出する変位算出器３２と、アクチュエータ２０を駆動するための信号を生成する制御器４０とから、カンチレバー制御装置１を構成し、フィードバック制御信号Ｓを（Ｋ−Ｇ・ｘ^2）・ｄｘ／ｄｔとする。 - 特許庁

wt. by size-exclusion chromatography is about 200 to about 300 kDa; (b) spherical particles having diameters of about 10 to about 20 nm by atomic force microscope observation are contained; (c) a detectable GM1 ganglioside is not contained; and (d) apoptosis-like cell death is induced to cultured cells.例文帳に追加

ＧＭ１ガングリオシドの存在下でインビトロで形成される可溶性毒性アミロイドβアセンブリーであって、（ａ）サイズ排除クロマトグラフィによる見かけの分子量が約２００〜約３００kDaであること；（ｂ）原子力間顕微鏡観察による直径が約１０〜約２０nmである球状粒子を含むこと；（ｃ）検出可能なＧＭ１ガングリオシドを含まないこと；及び（ｄ）培養細胞に対してアポトーシス様細胞死を誘導すること、を特徴とするアセンブリー。 - 特許庁

Reflectance and adhesion with a sealing material are improved by making surface roughness Ra in measurement by a stylus surface roughness meter to be 0.010 μm or above and surface roughness Sa in measurement by an atomic force microscope to be 50 nm or below in the LED component material.例文帳に追加

金属基材上の、少なくとも片面もしくは両面に、一部もしくは全面に、電析によりめっき皮膜を析出させた後に、前記めっき皮膜の表面平滑化を加工して得られる、ＬＥＤ用部品材料において、針式表面粗さ計による測定での表面粗さＲａを０．０１０μｍ以上であり、かつ原子間力顕微鏡による測定で表面粗さＳａが５０ｎｍ以下であることで、反射率と封止材との密着性を向上させたことを特徴とするＬＥＤ用部品材料。 - 特許庁

To detect, in a method detecting particles containing infinitesimal fission materials contained in a collected swipe sample by the fission track method, the particles containing the fission materials in a short time and easily by eliminating sophisticated measuring techniques using special apparatus such as an atomic force microscope and eliminating effects in which the shape of the core of a fission track depends on the surface shape of the particles.例文帳に追加

採取したスワイプ試料中に含まれる極微量核分裂性物質を含む粒子をフィッショントラック法によって検出する手法において、原子間力顕微鏡のような特殊な装置を用いた高度な測定技術を必要とせず、また、フィッショントラックのコアの形状が粒子の表面形状に依存する影響をなくして、短時間で容易に核分裂性物質を含む粒子を濃縮度別に検出する。 - 特許庁