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force microscopeの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 376



例文

To prevent the action of excessive force to a sample and to enhance measuring accuracy in the observation of a surface shape and the measurement of adsorbing power by a scanning probe microscope.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡による表面形状観察及び吸着力測定において、試料に対する過剰な力の作用を防止すると共に測定精度を高める。 - 特許庁

To provide a microfabrication method that achieves high-accuracy processing even while giving lateral oscillation to a cantilever having a probe in a microfabrication device using an atomic force microscope.例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いた微細加工装置において、探針を有するカンチレバーに横振動を与えつつも、高精度な加工を可能とする微細加工方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a magnetic field measuring technology for accurately measuring a magnetic field waveform when a magnetic head writes a high-frequency signal by using a low-resonance-frequency probe in a magnetic force microscope.例文帳に追加

磁気力顕微鏡において、高周波信号を低共振周波数のプローブを用いて磁気ヘッドの書き込み時の磁界波形の計測を精度良く行う磁界計測技術を提供する。 - 特許庁

To speed up a probe microscope for detecting changes of resonance frequencies caused by a force generated when a vibrating probe is brought close to the surface of a sample and stabilize it by reducing noise.例文帳に追加

振動させたプローブを試料表面に近づけたときに生じる力による振動周波数の変化を検出するプローブ顕微鏡の高速化、ノイズ低減による安定化。 - 特許庁

例文

The depth distribution in the overetched portion of the glass is obtained with an atomic force microscope, and the film thickness to fill the defect is controlled according to the distribution to flatten the surface of the filled transparent film.例文帳に追加

原子間力顕微鏡でガラスのオーバーエッチ部の深さ分布を求め、その深さ分布に従って埋める膜厚を制御し埋めた透明膜表面が平坦になるようにする。 - 特許庁


例文

An atomic force microscope 100 comprises: a cantilever support 13 for supporting a cantilever 14; and a Z scanner 12 for driving the cantilever support 13 with a height direction as a driving direction.例文帳に追加

原子間力顕微鏡100は、カンチレバー14を支持するカンチレバー支持具13と、高さ方向を駆動方向としてカンチレバー支持具13を駆動するZスキャナ12とを備えている。 - 特許庁

A projection aligner 10 is provided with an atomic force microscope(AFM) for measuring a latent image formed on a wafer W with a surface-reaction type resist subjected to silylation as a photosensitive layer.例文帳に追加

露光装置10に、表面反応型のシリル化レジストを感光層としたウエハWに形成される潜像を計測するため、原子間力顕微鏡AFMを備える構成とした。 - 特許庁

To provide a cantilever control device preventing the stop of the self-oscillation of a cantilever and the contact of the probe of the cantilever with a measuring target in an atomic force microscope.例文帳に追加

原子間力顕微鏡において、カンチレバーの自励振動の停止を防止でき、カンチレバーの探針が測定対象物と接触することを防止できるカンチレバー制御装置の提供。 - 特許庁

A surface analysis method of an insulation material with an atomic force microscope includes performing AFM measurement by suppressing charging of the insulation material due to static electricity under high humidity environment.例文帳に追加

高湿度環境下で絶縁材料の静電気による帯電を抑制してAFM測定を行う原子間力顕微鏡による絶縁材料の表面分析方法である。 - 特許庁

例文

To provide an inexpensive stereoscopic microscope which is suitable for observation of a large specimen or the like, does not force an observer to take unnatural posture, and prevents the change of magnification in vertical and transmissive observation.例文帳に追加

観察者に無理な姿勢を強いることなく、大きな標本等の観察に適しており、落射及び透過観察時の倍率変化が生じず、かつ、安価な実体顕微鏡を提供する。 - 特許庁

例文

A size of a magnetic aggregate present in the magnetic layer is 0.5 μm or higher, and the number of magnetic aggregates having magnetic intensity larger by 20 times or more than an average value of magnetization disturbance obtained from a magnetic force image by a magnetic force microscope is 100/2000 μm^2.例文帳に追加

前記磁性層中に存在する磁気凝集体の大きさが0.5μm以上であり、かつ磁気力顕微鏡による磁気力像から得られた磁化乱れの平均値の20倍以上の磁気強度を有する前記磁気凝集体の個数が100個/2000μm^2以下である。 - 特許庁

The photosensitive resin composition has a sea-island structure comprising sea and island parts in which two phases different from each other in horizontal force are present in cross-section observation with a horizontal force microscope (LFM) and ≥60% of the island part has ≤4 μm2 average domain area.例文帳に追加

水平力顕微鏡(LFM)で断面観察した場合、水平力の異なる相が二相存在する、海部分と島部分とからなる海島構造であり、前記島部分の60%以上がドメイン平均面積を4μm^2以下とする感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The support device is positioned at the foot of the observer, and is constituted to shift the position of a mirror body 2 by converting operational force input in an operation input device which is operated by the foot of the observer into moving force for shifting the position of the mirror body 2 of a surgical microscope.例文帳に追加

観察者の足元に位置され、観察者自身の脚で、操作可能な操作入力装置で入力した操作力を、手術用顕微鏡の鏡体2の位置を変更する移動力に変換して鏡体2の位置を変えるようにした支持装置である。 - 特許庁

The object surface is observed by measuring a horizontal force relative to the object whose surface has a part having different hydrophobicity or hydrophilicity by using the scanning probe atomic force microscope having a probe of a cantilever type modified by an organic compound.例文帳に追加

表面に疎水性または親水性が異なる部分を有する対象物を有機化合物で修飾されたカンチレバータイプの探針を有する走査プローブ原子間力顕微鏡を用いて水平力を測定することで対象物の表面を観察する。 - 特許庁

The aluminum support shows a surface area ratio ΔS of not less than 5% calculated by formula (I) based on three-dimensional data measured using an interatomic force microscope (AFM) and not higher than 20% steepness a45.例文帳に追加

ここで、ΔS^5(0.02-0.2)は、原子間力顕微鏡を用いて得られる3次元データから、波長0.02〜0.2μmの成分を抽出して求めた値であり、ΔS^5は以下の式(I)より算出した値である。 - 特許庁

The manufacturing method for the extremely small optical waveguide is characterized by that the oxide film is formed by anodizing the surface of the metallic substrate by using a probe tip of an atomic force microscope, etc.例文帳に追加

また、本発明の極微小光導波路の製造方法は、金属基板表面を原子間力顕微鏡等の探針先端を用いて陽極酸化して酸化膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

A cantilever 4 having a lever 10 with diamond abrasive grains 5 at its end is strongly abutted against a single crystal silicon material 3 with use of such a mechanism of a frictional-force microscope as shown in Fig. 1.例文帳に追加

図1に示すような摩擦力顕微鏡の機構を用い、単結晶シリコン材料3に対して端部にダイヤモンド砥粒5を備えたレバー10を有するカンチレバー4を強く当接させる。 - 特許庁

The sample mount 2 of a scanning magnetic force microscope 1 is provided with a permanent magnet 11 and a moving means for moving the permanent magnet 11 in an approaching and separating direction relative to the sample placed on the sample mount 2.例文帳に追加

走査型磁気力顕微鏡1に、サンプル台2に永久磁石11およびサンプル台2に載置されるサンプルに対して永久磁石11を接離方向に移動する移動手段とを備える。 - 特許庁

To detect the information of a phase delay even if a plurality of kinds of polymers are in rubber states, when analyzing a composite material including the plurality of kinds of polymers by using an atomic force microscope.例文帳に追加

複数種類のポリマーを含む複合材料を、原子間力顕微鏡を用いて解析する際、複数種類のポリマーがゴム状態にある場合でも位相遅れの情報を検出する。 - 特許庁

The atomic force microscope 100 includes a cantilever 130 having a probe 142 at the tip, a support 110 supporting the cantilever 130, and a vibration generating part 120 giving vibration to the cantilever 130.例文帳に追加

原子間力顕微鏡100は、先端に探針142を有するカンチレバー130と、カンチレバー130を支持する支持部110と、カンチレバー130に振動を与える振動発生部120とを備えている。 - 特許庁

To provide a probe and a cantilever for realizing an AFM (Atomic Force Microscope) having high resolution, and a method for manufacturing the probe and the cantilever easily and surely.例文帳に追加

高い分解能を有するAFMを実現し得るプローブ及びカンチレバーと、それらプローブ及びカンチレバーを簡易且つ確実に製造することが可能な製造方法とを提供することを目的とする。 - 特許庁

DEPOSITION APPARATUS AND METHOD FOR CNT INCLUDING MAGNETIC BODY, CNT INCLUDING MAGNETIC BODY, MAGNETIC FORCE MICROSCOPE, SPIN TRANSISTOR, SPIN DIODE, SPIN FIELD-EFFECT TRANSISTOR, AND SPIN PIN-DIODE例文帳に追加

磁性体内包CNTの析出装置、磁性体内包CNTの析出方法、磁性体内包CNT、磁気力顕微鏡、スピン・トランジスタ、スピン・ダイオード、スピン電界効果トランジスタ、スピンpinダイオード - 特許庁

The invention relates to a method for estimating physical strength of a film from the observation of the surface conditions of the film of an aqueous acrylic-modified polyurethane resin in air and in water by using atomic force microscope.例文帳に追加

原子間力顕微鏡を用いての水性アクリル変性ポリウレタン樹脂被膜の、空気中と水中の表面状態の観察から被膜の物理強度を予測する方法により解決する。 - 特許庁

(1) This composite yarn comprises the modified cross-section regenerated cellulose fibers having 1.1-10 degree of modified cross section of the fibers and 10-50 nm fiber surface roughness parameter Ra measured under an atomic force microscope.例文帳に追加

(1) 繊維の異型度が1.1〜10で、原子間力顕微鏡で測定した繊維表面粗度パラメーターRaが10〜50nmである異型断面再生セルロース繊維を含有する複合糸。 - 特許庁

To provide a surface observation method using a scanning probe atomic force microscope capable of observing various differences of the surface state, especially the difference of hydrophobicity or hydrophilicity of the surface.例文帳に追加

表面状態の種々の相違、特に表面の疎水性あるいは親水性の差を観察することができる走査プローブ原子間力顕微鏡を用いた表面の観察方法を提供する。 - 特許庁

The real-time rapid and accurate evaluation and measurement of the durability of the bacterial spore can be carried out by measuring the hardness of the spore by an interatomic force microscope or the like equipped with a cantilever.例文帳に追加

カンチレバーを装備する原子間力顕微鏡等により、芽胞の硬度を測定することにより、リアルタイムで迅速かつ正確な細菌芽胞の耐久性の評価・測定を行なうことができる。 - 特許庁

This magnetic field generating device 1 for the magnetic resonance force microscope 12 is provided with a solenoid coil 2 and a cylindrical magnetic substance 5 of high permeability translational along the center symmetry axis of the coil 2.例文帳に追加

磁気共鳴力顕微鏡12の磁場発生装置1はソレノイドコイル2とこのコイル2の中心対称軸に沿って並進運動可能な筒状高透磁率磁性体5とを備えている。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a pattern forming apparatus by which a pattern in a relatively wide region of a square millimeter or larger can be formed in a short time by electrochemical lithographic pattern forming method and the pattern can be formed without using an expensive apparatus such as an AFM (atomic force microscope) and an STM (scanning tunneling microscope).例文帳に追加

電気化学リソグラフィーによるパターン形成方法において、平方ミリメートル以上の比較的広い領域に渡るパターン形成を、短時間で行うことを可能とするとともに、AFM、STMなどの高価な装置を用いることなくパターンを形成し得るパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

The reference dimensions of the plurality of patterns may be obtained by measuring the plurality of patterns by an Atomic Force Microscope: AFM, or alternatively, may be obtained on the basis of sectional shapes or the like of the patterns obtained by applying simulation to semiconductor pattern design data.例文帳に追加

複数パターンの基準寸法は、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)によって、上記複数のパターンを測定することによって得るようにしても良いし、半導体パターンの設計データにシミュレーションを施すことによって得られるパターンの断面形状等に基づいて求めるようにしても良い。 - 特許庁

To provide a magnetic recording head measuring device realizing the measurement with high sensitivity and high resolution while having high frequency response in the system for measuring the magnetic force by generating the high frequency magnetic field from the recording head for the subject of measurement by utilizing a magnetic force microscope.例文帳に追加

磁気力顕微鏡を利用して、測定対象の記録ヘッドから高周波の磁界を発生させて磁気力を測定する方式において、高周波応答で、高感度かつ高分解能の測定を実現した磁気記録ヘッド測定装置を提供することにある。 - 特許庁

Otherwise, the foreign substance P is irradiated with an electron beam to deposit a solid material on the foreign substance P in a deposition gas atmosphere in which the solid material is generated by irradiation with the electron beam, and a force by the probe of an AFM (atomic force microscope) is applied to the solid material.例文帳に追加

又は、電子ビームが照射されることにより固体材料が生成されるデポジションガス雰囲気中において、異物Pに電子ビームを照射して異物P上に固体材料を堆積させ、この固体材料に対してAFMの探針により力を印加する。 - 特許庁

The deflection generating on a cantilever 41 is detected by an inter-atomic force between a probe 44 of the cantilever 41 and the air bearing surface 13 of the thin-film magnetic head Q in the manner of using an atomic force microscope(AFM) 4 provided with the cantilever 41 mounting a magnetic field generating element 45 thereon.例文帳に追加

磁界発生素子45を取り付けたカンチレバー41を有する原子間力顕微鏡(AFM)4を用い、カンチレバー41の探針44と薄膜磁気ヘッドQの空気ベアリング面13の間の原子間力によって、カンチレバー41に生じる撓みを検知する。 - 特許庁

The ferroelectric capacitor includes a first ferroelectric layer in which a ferroelectric is sandwiched between a pair of electrodes and the ferroelectric has a surface roughness (RMS), measured by an atomic force microscope, of not lower than 10 nm; and a second ferroelectric layer which is formed on the first ferroelectric layer and has a surface roughness (RMS), measured by the atomic force microscope, of not higher than 5 nm.例文帳に追加

一対の電極間に強誘電体を挟持させてなり、該強誘電体が、原子間力顕微鏡で測定した表面粗さ(RMS)が10nm以上である第1強誘電体層と、該第1強誘電体層上に形成され、原子間力顕微鏡で測定した表面粗さ(RMS)が5nm以下である第2強誘電体層とを有する強誘電体キャパシタである。 - 特許庁

The plated material for the terminal or the connector has the Au plating layer formed on the surface of a base material composed of the stainless steel thin plate, wherein the arithmetic surface roughness (Ra) of the plating layer measured by an atomic force microscope is 3.0 nm or less.例文帳に追加

ステンレス鋼薄板からなる基材の表面に、原子間力顕微鏡により測定した算術表面粗さ(Ra)が3.0nm以下であるAuめっき層を形成してなる端子又はコネクタ用めっき材である。 - 特許庁

To provide an atomic force microscope constituted so as to measure the relative displacement of an article to be inspected and a cantilever and capable of measuring the displacement of the cantilever, even if the article to be inspected is not placed on the stage.例文帳に追加

被検物とカンチレバーとの相対変位を計測する原子間力顕微鏡において、ステージ上に被検物が載置されていなくてもカンチレバーの変位を計測可能な原子間力顕微鏡を提供する。 - 特許庁

Herewith, a CdTe-system semiconductor substrate will be realized in which a projection with a height of ≥5 nm is not observed within the visual field of 10 μm×10 μm when the surface of the substrate is observed by an atomic force microscope.例文帳に追加

これにより、原子間力顕微鏡で基板表面を観察したときに10μm×10μmの視野範囲内に高さ5nm以上の突起が観察されないCdTe系半導体基板が実現される。 - 特許庁

A photomask 11 is immersed in cooling water 14 and modified by removal using a probe of an atomic force microscope, whereby adhesion by frictional heat is prevented and it is made easy to remove chips by wet cleaning.例文帳に追加

フォトマスク11を冷却水14中に浸して原子間力顕微鏡の探針を用いて除去修正を行うことで、摩擦熱による付着を防ぎ、削り屑もウェット洗浄で除去しやすくするものである。 - 特許庁

A transparent conductive oxide layer 19 is set as an anode, and a probe 21 of an atomic force microscope is placed with a predetermined interval from a surface of the transparent conductive oxide layer 19, which is set as a cathode.例文帳に追加

透明導電性酸化物層19を陽極とし、透明導電性酸化物層19の表面から所定の間隔を隔てて原子間力顕微鏡の探針21を設置しこれを陰極とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which no correction scum of a residual defect is left when the residual defect of a halftone phase shift mask is removed by using an AFM (atomic force microscope) correcting device.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの残留欠陥をAFM型修正機を用いて除去する際、残留欠陥の修正カスを残さないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this microscopic observation method of metallic soap particles in grease, the grease is sandwiched between the two transparent plates with a force having prescribed strength and observed by an optical microscope having differential interference or polarization function.例文帳に追加

グリース中の金属石鹸粒子の顕微鏡観察方法において、グリースを透明な2枚の板の間に所定の強度の力で挟み、微分干渉もしくは偏光機能を有した光学顕微鏡で観察する。 - 特許庁

For example, an interaction between the surface of the ion exchanger and a cantilever that is a probe of an atomic force microscope is measured, and the charge state of the ion exchanger is checked, thereby evaluating the capability of the ion exchanger.例文帳に追加

例えば、原子間力顕微鏡の探針であるカンチレバーとイオン交換体の表面との相互作用を測定し、イオン交換体の電荷の状態を調べることにより、イオン交換体の性能評価を行う。 - 特許庁

This method is applied for the scanning type probe microscope provided with a measuring part for measuring atomic force or the like as to the sample surface by scanning a sample 12 using a probe 25, a fine motion mechanism 24 for moving the probe finely, a prove approaching mechanism 11 for changing a space between the probe and the sample, the optical microscope 22, and a focusing driving mechanism 21.例文帳に追加

この焦点合せ方法は、探針25で試料12を走査して試料表面に関する原子間力等を測定する測定部と、探針を微動させる微動機構24と、探針と試料の間隔を探針接近機構11と、光学顕微鏡22と、その焦点合せ用駆動機構21を備える走査型プローブ顕微鏡に適用される。 - 特許庁

To provide an atomic force microscope capable of correcting sequentially a relative displacement between a cantilever used in measurement and a measuring object not affected by thermal expansion or contraction of an instrument or the measuring object, and by instrument vibration or the like caused by floor vibration.例文帳に追加

測定に用いるカンチレバーと被測定物間の相対変位を逐次補正して、装置や被測定物の熱膨張や収縮、床振動による装置振動等の影響を受けない原子間力顕微鏡を提供する。 - 特許庁

Otherwise, the transparent film is deposited to be higher than the normal glass surface, and the portion higher than the glass surface is scraped off by a mechanical process by an atomic force microscope with a fixed height so as to flatten the surface of the filled transparent film.例文帳に追加

透明膜が正常なガラス面よりも高くなるように埋め、ガラス面よりも高い部分を高さを固定した原子間力顕微鏡による機械的な加工で削り取り埋めた透明膜表面が平坦になるようにする。 - 特許庁

These generation parts are scanned by a probe 212 of the magnetic force microscope to measure the intensity of the generated magnetic fields, thereby calculating, from measurement results, measurement distances corresponding to the sizes of the respective generation parts in the scanning direction.例文帳に追加

これらの磁界発生部上を磁気力顕微鏡のプローブ212によりスキャンして、発生する磁界強度を測定し、測定結果からスキャン方向におけるそれぞれの磁界発生部のサイズに対応する測定距離を算出する。 - 特許庁

Next, the scanning Kelvin force microscope having the conductive cantilever 1A wherein the work function A of the probe 2A is concretely calculated is used to measure the surface potential (y) of an unknown sample different from the standard sample 3A.例文帳に追加

次に、深針2Aの仕事関数Aが具体的に算出された導電性カンチレバー1Aを有する走査型ケルビンフォース顕微鏡を用いて、標準試料3Aとは異なる未知試料の表面電位yを測定する。 - 特許庁

This new topograph measuring method and its device are characterized by detecting the electrostatic force working between the cantilever and the sample, and feeding back a cantilever bias potential at which the electrostatic force becomes minimum to the cantilever, in the noncontact type atomic force microscope for scanning the sample surface by the cantilever to execute measurement, while maintaining an attraction gradient between the cantilever and the sample constant.例文帳に追加

本発明による新トポグラフ測定方法およびその装置は、カンチレバーと試料間の引力勾配を一定に維持しながらカンチレバーで試料表面を走査することにより計測する非接触型原子間力顕微鏡において、カンチレバーと試料間に作用する静電気力を検出し、該静電気力が最小となるカンチレバーバイアス電位をカンチレバーにフィードバックすることを特徴とする。 - 特許庁

This scanning type probe microscope is provided with a cantilever 21 having a probe 20 opposed to a sample 12, a measuring part (optical lever type optical microscope and feedback servo control loop) for measuring interatomic force or the like generated between the probe and the sample when the probe scans a surface of the sample, and a moving mechanism for varying relatively positions of the probe and the sample to conduct a scanning operation.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡は、試料12に対向する探針20を有するカンチレバー21、探針が試料の表面を走査するとき探針と試料の間で生じる原子間力等を測定する測定部(光てこ式光学顕微鏡やフィードバックサーボ制御ループ)、探針と試料の位置を相対的に変化させ走査動作を行わせる移動機構を備える。 - 特許庁

To provide a contact type atomic force microscope capable of rapidly obtaining a stable image of surface shape of a specimen in a state of an atmospheric pressure not in environmental control when the surface shape is measured by a contact mode having high sensitivity for irregularities.例文帳に追加

環境制御がされていない大気圧の状態にある試料の表面形状を、凹凸に対する感度の高いコンタクトモードによって測定するとき、吸着力の影響を回避して安定した表面形状像を迅速に得る。 - 特許庁

例文

The computing unit 8 analyzes an image imaged by a microscope 6, it finds the peripheral length and the area on the projection image of each spherical particle 22, and a surface index S_i which affects the acoustic radiating force of each particle is computed by using them.例文帳に追加

さらに、演算装置8は、マイクロスコープ6で撮像された画像を解析し、球形状の各粒子22の投影像の周長や面積を求め、これらを用いて個々の粒子の音響放射力に影響を与える表面指数S_iを演算する。 - 特許庁




  
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