「gas S」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a paramagnetic gas measuring device which has a large S/N ratio of a signal and is easy to produce.例文帳に追加

信号のＳ／Ｎが大きく、製作容易な常磁性ガスの測定装置を得る。 - 特許庁

The pedestrian protection device S has an airbag 17 which is inflatable by allowing an inflation gas to flow therein.例文帳に追加

歩行者保護装置Ｓは、膨張用ガスを流入させて膨張可能なエアバッグ１７を備える。 - 特許庁

A moisture supply device 21 to supply moisture to a gas line L of the fuel cell stack S is installed.例文帳に追加

燃料電池スタックＳのガスラインＬに水分を供給する水分供給装置２１を設ける。 - 特許庁

A spiral groove 4MD on the lower side biases the gas at the seal part S to the bearing chamber M side.例文帳に追加

他方、下方の螺旋溝４ＭＤはシール部Ｓのガスを軸受室Ｍ側に付勢する。 - 特許庁

The heated gas passes through contaminated soil S, and is sucked via the second pipe 4.例文帳に追加

そして、加熱されたガスが汚染土壌Ｓを通過して第二パイプ４から吸引される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for separating component(s) in a gas sample with a simple construction.例文帳に追加

簡易な装置構成で気体試料に含まれる成分の分離を行う方法および装置を提供する。 - 特許庁

The drain is aerated in the gas-liquid contact space S by sending air from an air-sending part 21.例文帳に追加

送気部２１から送気して，気液接触空間Ｓ内で排水に対して曝気する。 - 特許庁

The case 1 of the gas blast load break switch S comprises a case body 10, a front plate 11, and a back plate 12.例文帳に追加

ガス開閉器Ｓのケース１はケース本体１０と前板１１と後板１２を備えている。 - 特許庁

Accordingly, the smoke and a poisonous gas generated by the fire can be prevented from passing through the space S.例文帳に追加

よって、火災により発生した煙や有毒ガス等が前記隙間Ｓを通過することが防止される。 - 特許庁

Because production of oil and gas in North Sea is diminishing these days, however, the UK’s energy selfSelf- sufficiency sufficiency is expected to decline gradually.例文帳に追加

近年、石油・ガスの生産量は減少しており、今後は自給率の低下が予想される。 - 経済産業省

The countries obliged to reduce emissions under the Kyoto Protocol account for 30% of the world’s total greenhouse gas emissions.例文帳に追加

京都議定書で削減義務を負う国の割合は世界の温室効果ガス排出量の3割。 - 経済産業省

Ozone-containing gas Go is supplied from a gas supply source 5 to the ozone treating vessel 3 and part of the sludge S is oxidation decomposed.例文帳に追加

オゾン処理槽３には、ガス供給源５からオゾン含有ガスＧｏが供給され、汚泥Ｓの一部が酸化分解される。 - 特許庁

Then, the operator sets the gas flow rate f_a+d as the gas flow rate F for ion beam machining of a work piece S.例文帳に追加

そこでオペレータは、ガス流量ｆ_ａ＋ｄを被加工試料Ｓのイオンビーム加工時におけるガス流量Ｆとして設定する。 - 特許庁

Mixed gas G of an ozone gas with air through a pipe 15a and purified water S through a pipe 15d are respectively fed to a mixing part 27 inside a nozzle 7.例文帳に追加

オゾンガスと空気の混合気体Ｇを配管１５ａから、純水Ｓを配管１５ｄからそれぞれノズル７内の混合部２７に送り込む。 - 特許庁

To provide an electrode body capable of improving the S/N to detection object gas by suppressing the sensitivity to specific gas.例文帳に追加

特定のガスに対する感度を抑制して検出対象ガスに対するＳ／Ｎを向上することができる電極体を提供すること。 - 特許庁

A third guide wall 46 which guides a part of the air flow S to the gas channel 531 is provided at the third gas inflow port 43.例文帳に追加

第３気体流入口４３には、気流Ｓの一部を気体流路５３１へ案内する第３案内壁４６が設けられている。 - 特許庁

A second guide wall 45 which guides a part of the air flow S to the gas channel 531 is provided at the second gas inflow port 42.例文帳に追加

第２気体流入口４２には、気流Ｓの一部を気体流路５３１へ案内する第２案内壁４５が設けられている。 - 特許庁

A first guide wall 44 which guides a part of the air flow S to the gas channel 531 is formed at the first gas inflow port 41.例文帳に追加

第１気体流入口４１には、気流Ｓの一部を気体流路５３１へ案内する第１案内壁４４が設けられている。 - 特許庁

The purified water is made to be mist in the part 27 so that the ozone gas in the fed gas G can easily be dissolved in the water S.例文帳に追加

混合部２７では、送り込まれた混合気体Ｇのうち、オゾンガスが純水Ｓに溶解しやすいように、純水がミスト化される。 - 特許庁

To provide a gas treatment apparatus which prevents clogging of microorganism carrier, etc. and effectively removes a gas to be treated containing a S-containing compound.例文帳に追加

微生物担体の目詰まり等を防止して、効率的に含硫黄原子化合物を含有する被処理ガスを除去するガス処理装置を提供すること。 - 特許庁

The heating furnace 1 also includes a purge gas introducing pipe 12 for passing an inert gas through a housing space S surrounded by the partition wall 4 and the core tube 2.例文帳に追加

また、隔壁４と炉心管２で囲まれる収納空間Ｓに不活性ガスを流す、パージガス導入管１２を有する。 - 特許庁

Nitrogen gas is fed to the container 11 also in feeding a discharge gas to the container 12, and the control is carried out so that PP follows PS.例文帳に追加

放電ガスを容器１２へ供給時も、窒素ガスを容器１１へ供給し、Ｐ_S にＰ_P が追従するように制御する。 - 特許庁

The cover gas including phloroketone is injected into a melting furnace main body 2 from a cover gas introducing part 3, and its injection speed is 20-100 m/s.例文帳に追加

フロロケトンを含むカバーガスを、カバーガス導入部３から溶解炉本体２内に噴射し、その噴射速度を２０〜１００ｍ／ｓとする。 - 特許庁

In this state, a heated gas is sent from a heated gas supplying member 14 through its one side to the treatment space S.例文帳に追加

この状態から加熱ガス供給部材１４から加熱されたガスを処理空間Ｓ内に一側から送り込む。 - 特許庁

The inside of the air bubble recovering part S is at constant positive pressure by Ar gas which is supplied from a gas supplying part 31.例文帳に追加

気泡回収部Ｓ内は、ガス供給部３１から供給されるＡｒガスによって、一定の正圧である。 - 特許庁

The airbag device S includes the airbag 23 and a gas supplier 14 to supply inflation gas to the airbag 23.例文帳に追加

エアバッグ装置Ｓは、エアバッグ２３と、エアバッグ２３に膨張用ガスを供給するガス供給器１４と、を備える。 - 特許庁

In the treatment chamber 20, a gas injection port 25b of a reactive gas introduction part 25 and an exhaust port 23 are provided at the positions confronted with the substrate S sandwiched.例文帳に追加

処理室２０には、反応性ガス導入部２５のガス噴出口２５ｂと排気口２３とを基板Ｓを挟んで対向する位置に設ける。 - 特許庁

To provide a method and an instrument for measuring nitrous oxide gas and an atmospheric gas component capable of detecting quickly those with high S/N ratio.例文帳に追加

Ｓ／Ｎ比が高く、且つ迅速な検出を可能とする亜酸化窒素ガス、及び大気ガス成分の測定方法及び装置の提供。 - 特許庁

The mixing flow rate of the gas for flow rate control is adjusted so that the flow rate of the treatment gas may be 0.1 to 0.5 m/s in jetting.例文帳に追加

吹き出し時の処理ガスの流速が０．１ｍ／ｓ〜０．５ｍ／ｓになるよう、流速調節用ガスの混入流量を調節する。 - 特許庁

The catching member 47 capable of catching the residue S contained in expansion gas is disposed around the gas discharge ports 19.例文帳に追加

ガス吐出口１９の周囲には、膨張用ガスに含まれた残渣Ｓを捕捉可能な捕捉部材４７が、配設される。 - 特許庁

In the process of performing the gas metal electric arc welding, the gas metal electric arc welding is performed by using a welding wire 8 as a negative electrode and the structure S as a positive electrode.例文帳に追加

ガスメタルアーク溶接を行う工程では、溶接用ワイヤ８を負極、構造物Ｓを正極としてガスメタルアーク溶接を行う。 - 特許庁

A gas injection passage 14 for injecting a gas into the gap S is arranged on a wall of the plasma generation chamber 2.例文帳に追加

プラズマ発生室２の壁に、間隙Ｓにガスを注入するガス注入通路１４が設けられる。 - 特許庁

Next, this source gas is made to flow into a treating space S and the film is formed by making the gas come into contact with the heated body.例文帳に追加

次に、この原料ガスを処理空間Ｓに流入させて、これを加熱された被処理体と接触させることにより成膜を行なう。 - 特許庁

The container 3 is light-transmissive, and has a gas inlet hole 13 and a gas exhaust hole 15 formed therein on a center axis line S so as to confront each other.例文帳に追加

ガス容器３は、光透過性を有しており、中心軸線Ｓ上に対向してガス導入孔１３とガス排出孔１５が形成される。 - 特許庁

A first plane of the whole of the supported area S is exposed to a gas passing through the in-single-cell fuel gas channel 30.例文帳に追加

水素透過性金属層部は、被支持領域Ｓ全体が、第１の面側において、単セル内燃料ガス流路３０を通過するガスに晒される。 - 特許庁

Therefore, measures to improve energy efficiency can cut the APEC region’s dependence on oil and gas as well as reduce greenhouse gas emissions from fossil fuels.例文帳に追加

したがって、省エネ施策はAPEC 地域の石油、ガスへの依存と化石燃料からの温室効果ガスの排出を削減することができる。 - 経済産業省

The film deposition apparatus 10 includes a processing chamber 12 for housing a substrate S, a stage 14 for holding the substrate S, and a vapor deposition head 18c having a plurality of nozzles 16c for blowing gas G containing a vapor deposition material onto the substrate S.例文帳に追加

成膜装置１０は、基板Ｓを収容する処理チャンバ１２と、基板Ｓを保持するステージ１４と、蒸着材料を含むガスＧを基板Ｓに噴き付ける複数のノズル１６ｃを有する蒸着ヘッド１８ｃとを備える。 - 特許庁

This detector is provided with a detecting material S for receiving a sampling gas, and a measuring head 13 for detecting an optical concentration of the detecting material S, and the detecting material S is constituted by developing a hydrogen ion indicator and a humectant on a carrier.例文帳に追加

サンプリングガスを受ける検知材Ｓと、検知材Ｓの光学濃度を検出する測定ヘッド１３とを備え、検知材Ｓが、水素イオン指示薬及び保湿剤を担体に展開して構成されている。 - 特許庁

When streamer propagation velocity is represented by Vs and discharge occurrence frequency between the electrodes is represented by f, then the plasma waste gas treatment facility P is put into operation that satisfies the conditions of 5-1 (d/vs)≤τ≤5(d/vs) and f≤1 kpps.例文帳に追加

いま、ストリーマ放電進展速度をｖ_s、電極間における放電の発生頻度をｆとすると、このプラズマ排ガス処理設備Ｐは、５^-1（ｄ/ｖ_s）≦τ≦５（ｄ/ｖ_s）及びｆ≦１kppsなる条件を満たした状態で運用される。 - 特許庁

The tracer gas concentration in the gas led from the monitored space S to the gas detector 21 is measured while keeping the space S communicating with the open atmospheric region through the line 31, thereby stabilizing the detection of the tracer gas.例文帳に追加

ライン３１を介して監視空間Ｓを大気開放領域に連通させた状態を保ちながら、監視空間Ｓからガス検出器２１に導かれるガス中のトレーサガス濃度を測定することで、トレーサガスの検出が安定化する。 - 特許庁

In the refinement of the HIx phase using an oxygen-containing mixed gas as a stripping gas, oxygen in the mixed gas properly reacts with a by-product S or H_2S to form SO_2, so that a selection rate of SO_2 can be increased as compared with the conventional refinement using only the inert gas.例文帳に追加

ストリッピングガスとして酸素含有混合ガスを用いるHIx相の精製では、混合ガス中の酸素が適切に副生成物SあるいはH_2Sと反応し、SO_2を形成するので、これまでの不活性ガスのみを用いた精製と比べてSO_2の選択率を増大できる。 - 特許庁

A plurality of carrier gas inlets 44 and carrier gas outlets 45 are formed in a side-wall surface 43 for demarcating the internal space 42, with the gas inlets 44 positioned on one side A of a position with the specimen S disposed therein while the gas outlets 45 positioned on the other side B of the position with the specimen S disposed therein.例文帳に追加

内部空間４２を画定する側壁面４３には、試料Ｓが配置される位置に対して一方の側Ａに位置する複数のキャリアガス導入口４４、及び試料Ｓが配置される位置に対して他方の側Ｂに位置するキャリアガス導出口４５が形成されている。 - 特許庁

Moreover, a apparatus-wise gas charge calculating means 10 is provided to calculate the charge Us of the gas classified by the gas apparatuses from the state of using the gas discriminated by the processing means 6 or the quantity of the used gas calculated by the processing means 6 based on the knowledge for gas charge conversion to convert the charge Us of the gas classified by apparatuses.例文帳に追加

更に、機器別ガス料金Ｕ_S の換算を行うためのガス料金換算用知識に基づいて、処理手段６が判別したガス使用状態または処理手段６が算出したガス使用量からガス機器の機器別ガス料金Ｕ_S を算出する機器別ガス料金算出手段１０とを備える。 - 特許庁

The cleaning chamber 5 includes a heater 208 heating the susceptor S at a temperature higher than 400°C and etching gas supply means supplying an etching gas from above the susceptor S to remove the SiC film.例文帳に追加

クリーニング５室は、サセプタＳを４００℃以上の温度で加熱するヒータ２０８と、サセプタＳの上方からエッチングガスを供給してＳｉＣ膜を除去するエッチングガス供給手段とを備える。 - 特許庁

The supply of pure water W to the substrate S is stopped while a nitrogen gas G is ejected at the central section of the substrate S from a nitrogen-gas supply nozzle 11.例文帳に追加

基板Ｓへの純水Ｗの供給を停止すると共に、基板Ｓの中心部に窒素ガス供給ノズル１１から窒素ガスＧを噴出する。 - 特許庁