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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > heat treatment surfaceに関連した英語例文

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heat treatment surfaceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1539



例文

This heat conductive silicone composition blended with the heat conductive filler surface-treated with ≥2 kinds of treating agents having different molecular weights is provided by containing the heat conductive filler treated by the surface treatment by a method of first adding the surface-treating agent having a higher molecular weight and then adding the surface-treating agent having a lower molecular weight.例文帳に追加

分子量の異なる2種以上の処理剤により表面処理した熱伝導性充填剤が配合された熱伝導性シリコーン組成物であって、分子量の大きい処理剤を先に添加した後、分子量の小さい処理剤を後に添加する方法で表面処理を施した熱伝導性充填剤を含有する熱伝導性シリコーン組成物。 - 特許庁

The surface of the gallium nitride-based semiconductor layer 51 grows to represent semi-polarity but the surface is modified by heat treatment by irradiation of a nitrogen radical or gallium flux in a high vacuum.例文帳に追加

窒化ガリウム系半導体層51はその表面が半極性を示すように成長されるけれども、高真空中で窒素ラジカル又はガリウムフラックスを照射しながらの熱処理によりその表面が改質される。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for a steel material having excellent wear resistance and heat resistance by forming a nitrogen compound layer consisting mainly of a chromium nitride having high adhesion on the surface of the steel material.例文帳に追加

鋼材表面に密着性の高いクロム窒化物を主体とする窒素化合物層を形成させることによって、優れた耐摩耗性や耐熱性を有することになる鋼材の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

After one or more materials selected from cesium, potassium, rubidium, and these compounds is coated on a substrate surface, the surface treatment layer can be formed in a form of an oxide by heat-treating the substrate.例文帳に追加

表面処理層は、基板表面にセシウム、カリウム、ルビジウム、及びこれらの化合物から選択される一つ以上をコーティングした後、基板を熱処理して酸化物形態で形成できる。 - 特許庁

例文

Surface of a GaP substrate is converted to GaN by heat treatment and a GaN based semiconductor device is fabricated on the surface nitriding layer (GaN layer).例文帳に追加

GaP基板を用い、GaP基板を熱処理を行うことによって、表面をGaN半導体に変換し、表面窒化層(GaN層)上にGaN系半導体装置を作製する。 - 特許庁


例文

The heat treatment apparatus calculates emissivity of the surface of the semiconductor wafer based on an intensity of radiation light emitted from a black body isothermal with the measured rear face temperature and an intensity of radiation light actually emitted from the surface of the semiconductor wafer.例文帳に追加

その裏面温度と等温の黒体から放射される放射光の強度と、半導体ウェハーの表面から実際に放射される放射光の強度と、に基づいて半導体ウェハーの表面の放射率を算定する。 - 特許庁

The surface layer of the metallic material after forming is amorphized by cold working such as shot peening, and the resultant amorphized metallic material is subjected to low-temperature heat treatment to precipitate nanocrystals in the surface layer.例文帳に追加

成形加工後の金属材料の表面層をショットピーニングなどの冷間加工により、アモルファス化し、その後アモルファス化した金属材料を低温熱処理して表面層にナノ結晶を析出させる。 - 特許庁

After a Schottky electrode 14 is formed on the upper surface of the epitaxial layer 12 and an ohmic electrode 15 is formed on the rear surface of the silicon carbide substrate 11, heat treatment is performed at a temperature of 600°C or below.例文帳に追加

このエピタキシャル層12の上面上にショットキー電極14を、炭化珪素基板11の裏面上にオーミック電極15を形成した後、600℃以下の温度で熱処理を行なう。 - 特許庁

A wax layer comprising waxes is formed on the surface of the thermally expansible capsules by expanding the thermally expansible capsules by heat treatment and the effective surface area of waxes increases.例文帳に追加

熱処理によって熱膨張性カプセルが膨張することにより、熱膨張性カプセルの表面にワックス類からなるワックス層が形成され、ワックス類の有効表面積が増加する。 - 特許庁

例文

To put it concretely, artificial aging treatment is performed for predetermined time to the inner peripheral surface of the developing sleeve 132 made of heat treated type aluminum or aluminum alloy, and the outer surface is kept cold in the meantime.例文帳に追加

具体的には、熱処理型のアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる現像スリーブ132の内周面に所定時間の間人工時効処理を施し、その間外表面は冷間に保つ。 - 特許庁

例文

The surface of the cylindrical capacity storage electrode 11 can be formed into bellows without performing high-temperature heat treatment, and the surface area is enlarged to increase the capacity of the capacitor.例文帳に追加

高温熱処理を行うことなく、円筒型の容量蓄積電極11表面をじゃばら形状とすることができ表面積を拡大して、キャパシタ容量を増大することができる。 - 特許庁

Through this heat treatment, the umbrella-shaped projections of the resin substrate 10 which are formed from the cut end surface 14 to the back surface side are made smooth.例文帳に追加

この熱処理加工により、切断端面14から裏面側に発生した樹脂基板10の傘状の突出は、その突出が滑らかになる形で解消した。 - 特許庁

Subsequently, heat treatment is performed in oxidizing atmosphere in order to oxidize the surface part of the fine silver particles 120 thus forming fine silver particles 130 having surface covered with a silver oxide 140.例文帳に追加

引き続き、酸化雰囲気中で熱処理を行なって、銀微粒子120の表面部分を酸化して、表面が酸化銀140で覆われた銀微粒子130を形成する。 - 特許庁

The instrument for transdermal treatment is stuck to the skin surface of a diseased part, and free electrons in the semiconductors are actively moved to generate heat by the temperature of the body surface and stimulation of external light.例文帳に追加

また、経皮治療用器具を患部の肌面に貼り人体表面温度や外部から光などの刺激により半導体内の自由電子が活発に移動し熱を発生するようにする。 - 特許庁

The stain resistant aluminum material is obtained by coating the surface of an aluminum substrate having a nonporous film on the surface with a titanium dioxide precursory solution, and performing heat treatment thereto to deposit a titanium dioxide thin film thereon.例文帳に追加

表面に無孔質皮膜を有するアルミニウム基体上に、二酸化チタン前駆体溶液を塗布し加熱処理して二酸化チタン薄膜を形成した防汚アルミニウム材。 - 特許庁

The shaft part 21 has a surface cured layer formed by applying heat treatment to a shaft material and the dynamic pressure grooves Aa are formed by applying form rolling to the surface cured layer.例文帳に追加

軸部21は、軸素材に熱処理を施すことで形成された表面硬化層を有し、動圧溝Aaを、表面硬化層に転造加工を施すことで形成した。 - 特許庁

To perform an inner surface treatment for enhancing the adhesiveness of the inner surface of a fluororesin thin-wall tube to be the outer layer material for heat fixing roller of copying machine, without creasing the tube.例文帳に追加

複写機の加熱定着ローラの外層材であるフッ素樹脂薄肉チューブ内面の接着性を高める内面処理を、チューブに折り目が付けることなく行う。 - 特許庁

The surface section 121 is formed by subjecting the surface of the magnetic material 120 to heat treatment selected from among a group composed of carburizing, vacuum hardening, bright quenching, weak carburizing, and carbonitriding.例文帳に追加

表面部121は、磁性材料120の表面を浸炭焼入れ、真空焼入れ、光輝焼入れ、弱浸炭焼入れおよび浸炭窒化焼入れからなる群より選ばれた少なくとも一種の熱処理をして形成される。 - 特許庁

To accurately detect streets of a wafer surface and cut along the streets, even if the wafer has been subjected to various doping or heat treatment, in street cutting by laser beam irradiation on the rear surface of the wafer.例文帳に追加

ウエーハ裏面へのレーザビーム照射によってストリート切断を行うにあたり、様々なドープあるいは熱処理されたウエーハであってもウエーハ表面のストリートを正確に検出して切断する。 - 特許庁

Then, the rear surface of the wafer is cut and singulated into chips 2b, and rear surface processing such as formation of rear electrodes 9a followed by heat treatment is executed without separating the chips 2b from the supporter 5.例文帳に追加

そして、ウエハの裏面を研削して各チップ2bに個片化したあと、チップ2bを支持体5から分離せずに、裏面電極9a形成などの熱処理を伴う裏面加工を行う。 - 特許庁

Due to the heat treatment, Ti for composing the Ti layer 20 is thermally diffused to the surface of the Pt layer 30, namely, a surface where the PZT layer 35 is formed later.例文帳に追加

この熱処理によって,Ti層20を構成するTiがPt層30の表面,すなわち後にPZT層35が形成される面にまで熱拡散する。 - 特許庁

A surface treatment is performed to a surface of a heat radiation mechanism 2 of a bulb type LED luminaire by using a photocatalyst material such as titanium oxide which reacts with ultraviolet lays (400-250 nm).例文帳に追加

電球型LED照明器具の放熱機構2の表面に紫外光(400nm〜250nm)に反応する酸化チタンで代表される、光触媒材料の表面処理を行なう。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which has excellent Schottky characteristics by preventing surface deterioration of a surface of a nitride semiconductor due to natural oxidation and a heat treatment.例文帳に追加

窒化物半導体表面の自然酸化や熱処理による表面劣化を防止し、良好なショットキー特性を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide heat treatment equipment that not only carries out good impurity activation by allowing a substrate surface to be heated at higher temperature but also suppresses contamination of an inner wall surface of a chamber.例文帳に追加

基板表面をより高温に昇温して良好な不純物活性化を行うことができるとともに、チャンバーの内壁面の汚染を抑制することのできる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide sheet type heat treatment equipment activating the surface temperature of an SiC wafer at 1,600°C and being capable of temperature tuning in a wafer surface.例文帳に追加

SiCウエハの表面温度を1600℃にて活性化し、且つウエハ面内の温度チューニングを行う事が可能な枚葉型熱処理装置の提供を目的とする。 - 特許庁

A heat radiation suppressing unit 105 is arranged along a sidewall 101b to cover a part or substantially the whole surface of an external wall surface of each sidewall 101b of the treatment container 101.例文帳に追加

放熱抑制ユニット105は、処理容器101の各側壁101bの外壁面の一部分もしくは略全面を覆うように側壁101bに沿って配備されている。 - 特許庁

As a result, the simplification of a heating/temperature control mechanism, the simplification of surface treatment for the wetness control of a heating surface, etc. can be achieved and stable fluid moving operation or heat transfer acceleration effect can be more inexpensively realized.例文帳に追加

この結果、加熱・温度制御機構の簡略化、加熱面のぬれ性制御のための表面処理の簡略化などがはかれ、より安価に安定な流体移動操作や伝熱促進効果を実現できるものとなる。 - 特許庁

A fixture 21 having a projection strip 22 in a part of its inner peripheral surface is engaged with the outer peripheral surface of a raw part that does not undergo heat treatment of a cylindrical section 12 to be used as the caulked section.例文帳に追加

かしめ部とすべき円筒部12のうちで、熱処理を施していない生の部分の外周面に、その内周面の一部に突条22を設けた治具21を外嵌する。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus that suppress an adverse influence of gas supplied into a housing constituting a processing section on surface temperature of a substrate to be treated and makes uniform a temperature distribution on a surface of the substrate to be treated.例文帳に追加

処理部を構成する筐体内に供給される気体による被処理基板の表面温度への悪影響を抑制すると共に、被処理基板表面の温度分布の均一化を図れるようにした熱処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a surface protective film having adhesive properties with a high strength without applying adding an adhesive agent, having little change in adhesive strength after heat treatment, and excellent in antifouling property of the surface of a member.例文帳に追加

粘着剤を添加しなくても高強度の粘着性を有し、加熱処理後の接着強度の変化が少なく、部材表面の汚染性に優れる表面保護フィルムの提供。 - 特許庁

To enhance the design properties of treated wood by correcting the excessive browning of the surface of the treated wood possible to occur at the time of heat treatment of the wood with high pressure steam performed for the purpose of enhancing the dimensional stability and surface hardness of the wood.例文帳に追加

寸法安定性と表面硬さの向上と表面硬さ目的に行う木材の高圧水蒸気による熱処理時に生じがちな表面の過度の茶系色化を矯正して、処理済み木材の意匠性を向上させる。 - 特許庁

The metal mold for heat treatment 11 includes a mold body section 21 having an outer peripheral surface 21a which can abut on the inner peripheral surface 12a of the intermediate base material 12 of a bearing race.例文帳に追加

軸受軌道輪の中間素材12の内周面12aに当接可能な外周面21aを有する型本体部21を備えた熱処理用金型11である。 - 特許庁

SURFACE TREATMENT METHOD FOR MAKING BASE HYDROPHOBIC, BASE WITH HYDROPHOBIC SURFACE, SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL FOR HEAT DEVELOPMENT AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

支持体の疎水性化表面処理方法、疎水性化表面を有する支持体、熱現像用ハロゲン化銀写真感光材料及び熱現像用ハロゲン化銀写真感光材料の製造方法 - 特許庁

To provide a surface treating agent for surface treatment of a metallic material which does not contain chromium and imparts painting adhesion during processing, corrosion resistance, coin scratching resistance, and heat resistance to the material.例文帳に追加

クロムを含有せず、加工時塗装密着性、耐食性、耐コインスクラッチ性及び耐熱性を付与する金属材料表面処理用の表面処理剤の提供。 - 特許庁

To provide a die-casting die in which cracks and peeling of a coating layer are hard to occur in the surface due to molten metal to be cast and which has excellent heat checking resistance, and to provide a surface treatment method therefor.例文帳に追加

鋳造すべき溶融金属によって表面にクラックやコーティング層の剥離が生じにくく、耐ヒートチェック性に優れたダイカスト金型、およびその表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a selective absorbing surface of a solar heat collector, which gives little load to the environment and forms a selective absorbing surface having adequate characteristics on stainless steel in a short period of treatment time.例文帳に追加

環境負荷が小さく、短時間の処理で特性の良好な選択吸収面をステンレス鋼に形成できる太陽熱利用集熱器の選択吸収面の形成方法を提供する。 - 特許庁

The image printing surface 3a of the form 3 is printed with a name of a person in charge who checks the baggage, check numbers, etc., in an image printing section 4 and a thermosensitive type tacky adhesive surface 3b is subjected to a heat treatment by prescribed heating patterns.例文帳に追加

用紙3の印字面3aに印字部4で手荷物預かりを受け付ける担当者名や預かり番号等を印字すると共に、感熱型粘着面3bに対して所定の加熱パターンによる加熱処理を施す。 - 特許庁

This supporting member 146 is provided in the manner that the member more separately provided to the external side from the center C of the lower surface of the substrate W is projected higher from the upper surface of the heat treatment plate 141.例文帳に追加

各支持部材146は,基板Wの下面中央部Cから外側に離隔したものほど,熱処理板141の上面から高く突出するように備えた。 - 特許庁

To obtain an adhesive composition for surface protective film having a moderate peel strength and causing a slight change with time without fouling the adherend surface during peeling and further, without causing a blistering or a tunneling phenomenon during heat treatment.例文帳に追加

適度な剥離強度と経時的変化が少なく、剥離時に被着体表面を汚染しない、加えて、加熱処理時のフクレやトンネリング現象のない表面保護フィルム用粘着剤組成物の提供。 - 特許庁

The hub ring 2 is formed of carbon steel, and a hardening layer 20 with heat treatment is provided at a portion on the surface of the hub ring 2 ranging from at least a raceway surface 2a to the flange base.例文帳に追加

ハブ輪2は炭素鋼製とし、ハブ輪2の表面部における少なくとも軌道面2aからフランジ根元部にわたる部分に熱処理による硬化層20を設ける。 - 特許庁

This heat treatment device has the following structure: an airtight vessel with the saturated steam of the heating medium contained therein is formed long sideways, and the heating surface representing the outside surface of the airtight vessel is turned downward and located above the heating medium level inside a boiler.例文帳に追加

熱媒の飽和蒸気の密閉容器を横長に形成して、その密閉容器の外側面の加熱面を下方に向け、また前記加熱面をボイラ内における熱媒液面より上方位置に配設する。 - 特許庁

In a process for forming a film on the surface of a wafer W by heat treatment, the surface of the wafer W is irradiated with laser light generated from a light source 206 and depolarized through a depolarizer 210.例文帳に追加

熱処理によるウェハW表面への成膜工程において、光源206の発生したレーザ光をデポーラライザ210により無偏光化してウェハW表面に照射する。 - 特許庁

After metallic superfine particle solution 26 in which metallic superfine particle 22 is dispersed in prescribed solvent 24 is brought into contact with a sliding surface 28a of a sliding member 28, the sliding surface 28a is coated with metallic film 30 obtained by drying and heat treatment.例文帳に追加

金属超微粒子22を所定の溶媒24に分散した超微粒子溶液26を摺動部材28の摺動面28aに接触後、乾燥し熱処理して得た金属皮膜30で摺動面28aを被覆した。 - 特許庁

In an axial direction region L, the hardened layer S is formed in a region having predetermined depth h0 from an outer peripheral surface 1g, and a region from the hardened layer S to an inner peripheral surface 1i is an unhardened layer S0 which is not hardened by heat treatment.例文帳に追加

軸方向域Lにおいて、硬化層Sは、外周表面1gから所定深さh0の領域に形成され、硬化層Sから内周表面1iに至る領域は熱処理により硬化していない未硬化層S0になっている。 - 特許庁

The element is obtained by: forming a foundation film on a substrate; conducting the heat treatment to the foundation film at not less than 400°C; reducing surface roughness by having ion beams irradiated on the surface of the foundation film; and forming the ferromagnetic layer and the magnetic layer.例文帳に追加

この素子は、基板上に下地膜を形成し、この下地膜を400℃以上で熱処理し、この下地膜の表面にイオンビームを照射して表面粗さを低減し、強磁性層および磁性層を形成して得ることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor wafer, in which a wafer reduced in roughness due to a surface reforming heat treatment and having less sticking of foreign matter and less surface layer defects is obtained.例文帳に追加

表面改質熱処理によるラフネスを低減でき、異物の付着や表層欠陥が少ないウェーハが得られる製造方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the surface of the cylindrical capacitor storage electrode 25 is bellow-shaped without high-temperature heat treatment so that the surface area is enlarged to increase capacitance.例文帳に追加

高温熱処理を行うことなく、円筒型の容量蓄積電極25表面をじゃばら形状とすることができ表面積を拡大して、キャパシタ容量を増大することができる。 - 特許庁

This Ni plated steel sheet can be produced by forming the Fe-Ni diffusion layer which has numerous concaves of crack state on the surface by performing a heat treatment after plating Ni of 1 to 9 g/m2 on a surface of one side of the steel sheet.例文帳に追加

このNiメッキ鋼板は、鋼板の一方の面に1〜9g/m^2 のNiメッキを施した後、熱処理を行うことで表面に亀裂上の凹みを多数有するFe−Ni拡散層を形成することにより製造できる。 - 特許庁

A surface treatment means 3 to surface-treat the work W successively extruded from the guide pipe 6 such as outside diameter polishing, etc., after thermally heat treated thereby.例文帳に追加

これらにより熱処理されて案内管6から順次排出されるワークWに、外径研磨等の表面加工を行う表面加工手段3を設ける。 - 特許庁

例文

The heat-treatment apparatus 100 for the work is equipped with a heating means 102 for heating the work 200 from its reverse surface side, and a partition wall member 103 which extends beyond the top surface side of the work 200 and surrounds the work 200 in the circumferential direction.例文帳に追加

ワーク200をその裏面側から加熱する加熱手段102と、ワーク200の表面側を超えて延在し、ワーク200を周方向に囲繞する隔壁部材103と、を備えたワークの熱処理装置100である。 - 特許庁

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