「heat treatment surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

After executing a heat treatment on the BPSG film to fluidize it, the BPSG film is subjected to a CMP process to flatten the surface of the film.例文帳に追加

ＢＰＳＧ膜に流動化のための熱処理を施した後、ＢＰＳＧ膜にＣＭＰ処理を施してＢＰＳＧ膜の表面を平坦化する。 - 特許庁

At this time, a reactant with atmospheric gas at heat treatment is formed on the surface of the first high melting point metal layer 9.例文帳に追加

このとき、第１高融点金属の表面には熱処理時の雰囲気ガスとの反応物が形成される。 - 特許庁

The surface coated forming die provided with both of heat crack resistance and oxidizing resistance, is obtd. with the synergistic effect of the coating and the nitriding treatment.例文帳に追加

上記被覆と窒化処理の相乗効果により耐熱亀裂性と耐酸化性を兼ね備える表面被覆成形型が得られる。 - 特許庁

The heat treatment of the resin film adjusts surface roughness of the resin film to a proper size.例文帳に追加

樹脂膜を熱処理することにより、樹脂膜の表面粗さを適切な大きさに調整することができる。 - 特許庁

Raw material powder is filled into a silver pipe 1 in which CuO film 2 is formed on the inner surface, to which wire drawing process and heat treatment are applied.例文帳に追加

内面にＣｕＯ膜２を形成した銀パイプ１に超電導材の原料粉末３を充填し、これに伸線加工および熱処理を施す。 - 特許庁

After supporting a catalytic metal on a porous carrier, the specific surface area of the porous carrier is reduced at a reduction rate of 30 to 70% by subjecting the carrier to heat treatment under a non-oxidizing atmosphere.例文帳に追加

多孔質担体に触媒金属を担持した後に非酸化性雰囲気中にて熱処理し、比表面積を30〜70％の低減率で低下させる。 - 特許庁

To provide a heat treatment method and apparatus, which decreases a sheet resistance by raising a substrate surface at a higher temperature.例文帳に追加

基板表面をより高温に昇温してシート抵抗値を低下させることができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, an oxide film is prevented from being formed on the surface of the 1st conductive layer 32a through a heat treatment therefor.例文帳に追加

このため、その熱処理によって第１導電層３２ａの表面に酸化膜が形成されるのを防止できる。 - 特許庁

Next, the p-type impurity is implanted to the one side surface 10s of the semiconductor columns 10a to 10e under the same condition, and is followed by heat treatment.例文帳に追加

次に、半導体コラム１０ａ〜１０ｅの一方側の面１０ｓに同一条件でｐ型の不純物を注入して熱処理する。 - 特許庁

Before applying heat treatment to the molded stainless steel material, the painting surface is preferably applied with defatting or grit blasting.例文帳に追加

成形ステンレス鋼材を熱処理する前に、被塗装面に脱脂やグリットブラストなどを行なうが好ましい。 - 特許庁

Thus, radiation energy density on emissive surface can be decreased, the apparatus is miniaturized and waste heat treatment is easily realized.例文帳に追加

かかる構成により、放射面における輻射エネルギ密度を下げることができ、装置の小型化、廃熱処理を容易に実現することができる。 - 特許庁

W etc., contained in the SKH51 is diffused onto the surface side by performing a heat-treatment to the preform body 52 after applying.例文帳に追加

塗布後に予備成形体５２を熱処理すれば、ＳＫＨ５１に含まれるＷ等が表面側に拡散する。 - 特許庁

To provide a sheet glass for a plane surface display device which does not cause a breakage when a rapid heat treatment is conducted in a short time and provide its evaluation method.例文帳に追加

短時間での急速な熱処理の際に破壊を起こさない平面表示装置用板ガラス及びその評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-treatment technique with which the handling of a workpiece to be treated is easily performed and the discoloration on the workpiece surface does not occur.例文帳に追加

被処理ワークのハンドリングを容易に行え、かつ、ワーク表面に変色が生じない熱処理技術を提供する。 - 特許庁

After the rubbing treatment begins, the temperature rises by the frictional heat of the rubbing cloth 103 and the surface of the substrate 101.例文帳に追加

ラビング処理が開始されると、ラビング布１０３と基板１０１表面との摩擦による摩擦熱によって温度が上昇する。 - 特許庁

To obtain a surface reforming heat treatment device for metallic material with good operation efficiency and productivity.例文帳に追加

本発明の目的は操業効率や生産性のよい金属材料の表面改質熱処理装置を得るにある。 - 特許庁

The chill structure generated on the surface part of the formed product B is decomposed by applying heat treatment to the formed product B (second process S2).例文帳に追加

次いで、この成形品Ｂの表層部に生成したチル組織を、該成形品Ｂに対して熱処理を施すことによって分解する（第２工程Ｓ２）。 - 特許庁

Further, the chemical properties of the surface of the compound oxide are changed by the heat treatment and this change is supposed to affect the interaction of the compound oxide with Rh.例文帳に追加

さらに熱処理によって複合酸化物表面の化学的性質が変化し、それがＲｈとの相互作用にも影響すると考えられる。 - 特許庁

To provide a substrate for a semiconductor device which has a heat insulating layer having low heat conductivity and superior surface smoothness and endures heat treatment in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加

熱伝導率が低くかつ表面の平滑性に優れた断熱層を備え、半導体素子作製の際の熱処理に耐え得る半導体素子用基板を提供する。 - 特許庁

To provide board heat treatment apparatus, capable of making temperature distribution of the upper surface of a heat plate uniform and improving response, when the temperature of the heat plate rises and falls.例文帳に追加

熱プレートの上面の温度分布を均一にできるとともに、熱プレートの昇降温時のレスポンスを向上させることもできる基板加熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat transfer tube for an absorber capable of exerting superior absorption heat transferring performance only by applying partial wettability improvement treatment to a tube outer surface, even with respect to the heat transfer tube having a smooth outer face.例文帳に追加

外面が平滑な伝熱管であっても、管外表面に対して、部分的に濡れ性向上処理を施すのみで、優れた吸収伝熱性能を発揮する吸収器用伝熱管を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat sealable film having a sufficient heat seal strength, and also excellent in low temperature impact resistance strength without having a melt adhesion of inner surface after its heat treatment.例文帳に追加

十分なるヒートシール強度を有し、しかも熱処理後も内面が融着することなく、耐低温衝撃強度に優れた熱融着性フィルムを提供する。 - 特許庁

In the conveying roller for a steel heat treatment furnace, an attachable/detachable heat-resistant steel-made sleeve for stopping propagation of heat crack is attached to an outer circumferential surface of a barrel portion of a hollow roller.例文帳に追加

着脱可能な耐熱鋼製のヒートクラック伝播停止用スリーブが、中空ロールの胴部外周面に装着されていることを特徴とする鋼材熱処理炉用搬送ロール。 - 特許庁

To provide a method of heat-treating a semiconductor wafer in which a slip of a wafer reverse surface caused in a heat treating stage is reduced and gettering effect to a thin-film device during a heat treatment can be generated.例文帳に追加

熱処理工程で発生するウェーハ裏面のスリップの低減が図れ、熱処理時の薄膜デバイスへのゲッタリング効果も発生可能な半導体ウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

Heat treatment of the powder compact formed by the powder with the heat-resistant precursive layer 4 can obtain the magnetic member with the heat-resistant coercive force layer 6 formed on the surface of an alloy particle 5.例文帳に追加

耐熱前駆層4を具える粉末で形成した粉末成形体を熱処理して、合金粒子5の表面に耐熱保磁力層6が形成された磁性部材が得られる。 - 特許庁

To provide a heat fusion weldable film which has a sufficient heat sealing strength and is excellent in low temperature impact resistance without fusion weld of an inner surface even after heat treatment.例文帳に追加

十分なるヒートシール強度を有し、しかも熱処理後も内面が融着することなく、耐低温衝撃強度に優れた熱融着性フィルムを提供する。 - 特許庁

The problem can be solved by the treatment method of the heat transfer member to form recesses 22 on the surface of the heat transfer member by anodically oxidizing the heat transfer member composed of metal.例文帳に追加

金属からなる伝熱部材を陽極酸化することにより、伝熱部材の前記表面に凹部２２を形成することを特徴とする伝熱部材の処理方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

Alternatively, the heat insulation unit has the quartz glass board structure in which two or more quartz glass boards are arranged at a predetermined face-to-face interval and the radiation heat insulation board which is mounted to the surface of side of its heat treatment material holding tool.例文帳に追加

又は遮熱ユニットは、２以上の石英ガラス板を所定面間隔で配列させてなる石英ガラス板構造体と、その被熱処理材保持具側表面に載置された上述の輻射熱遮熱板とを有する。 - 特許庁

The synthetic quartz glass is subjected to heat treatment accompanied by heat deformation in a heat resistant mold, thereafter, an additional process that the glass body is peeled all over the surface by ≥5 mm depth is applied.例文帳に追加

合成石英ガラス体に対して耐熱性の型枠を用いて加熱変形を伴う熱処理を施した後に、該合成石英ガラス体の表面から深さ５ｍｍ以上の領域を全表面にわたって取り除く工程を含むようにした。 - 特許庁

A fluorine-based polymetric solid electrolyte membrane has a porous aromatic series polyamide film that is subjected to at least one type of surface treatment selected from corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, and plasma treatment; and heat-treated at 120°C or higher.例文帳に追加

コロナ放電処理、紫外線照射処理、プラズマ処理から選ばれた少なくとも１種類以上の表面処理が施された多孔性芳香族ポリアミドフィルムを有し、かつ、１２０℃以上の熱処理が施されたことを特徴とするフッ素系高分子固体電解質膜。 - 特許庁

The reduction of temperature difference between the substrate to be subjected to the treatment and the treatment board reduces the change rate of thermal expansion of the substrate when it is applied heat from the treatment board and also reduces separation of films deposited on the substrate mounting surface of the treatment board.例文帳に追加

被処理基板と処理台の温度が小さくなると、例えば基板が処理台からの熱を受けて熱膨張しても、その変化の度合いが小さくなり、処理台の基板搭載面に堆積した膜の剥がれを少なくすることが可能となる。 - 特許庁

In the DLC(diamond-like carbon) film deposition method for depositing a DLC film on the surface of a substrate, solution heat treatment is applied to the substrate and then aging treatment and DLC coating treatment are simultaneously carried out by a combined simultaneous treatment process.例文帳に追加

基材の表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）皮膜を形成するＤＬＣ成膜方法において、基材を溶体化処理し、その後時効処理とＤＬＣコーティング処理とを複合同時処理プロセスにより同時に行うことを特徴とするＤＬＣ成膜方法。 - 特許庁

A method for producing a release treatment layer comprises coating a prescribed surface of a base material with the release treatment agent, and then subjecting the polyhydric alcohol and the polymer having the maleic anhydride skeleton to esterification reaction by heat treatment, so that the release treatment layer of a gel-like film comprising a crosslinked polymer is formed.例文帳に追加

この剥離処理剤を基材の所定面に塗工した後、加熱処理すると、前記多価アルコールと無水マレイン酸骨格を有する高分子とがエステル化反応して架橋ポリマーからなるゲル状薄膜の剥離処理層が形成される。 - 特許庁

The smoothing heat treatment method for a polyimide resin film formed by an electrodeposition coating method is provided with a smoothing heat treatment stage where a polyimide resin film formed by an electrodeposition coating method is heat-treated at a temperature in the vicinity of the boiling point of amines to attain the smoothing of its surface.例文帳に追加

電着塗装法で形成したポリイミド樹脂被膜を、アミン類の沸点付近の温度での熱処理を行い、表面の平滑化を図る平滑化熱処理工程を備えることを特徴とした電着塗装法で形成したポリイミド樹脂被膜の平滑化熱処理方法等を採用する。 - 特許庁

The production process of a silicon single crystal wafer comprises a first heat treatment process performing heat treatment on a silicon wafer obtained by processing a single crystal grown by Czochralski method, and a step for polishing the heat treated wafer surface until a device active layer becomes a predetermined thickness.例文帳に追加

チョクラルスキー法によって育成された単結晶から加工されたシリコンウェーハに熱処理を施す第１熱処理工程と、熱処理が施されたウェーハ表面を、所定厚さのデバイス活性層を残すように研磨する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a double sided laminated polyester film which minimizes rise of film haze due to insufficient heat resistance of a coating film in a hot atmosphere in a heat treatment step, e.g., in heat treatment at 180°C for 1 h, and which shows good lubricity of a film surface.例文帳に追加

加熱処理工程において、例えば、１８０℃で１時間熱処理する等、高温雰囲気下における塗布膜の耐熱性不足によるフィルムヘーズの上昇が極力小さく、フィルム表面の滑り性が良好である両面積層ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a heat treatment device and a method for heat-treating a plane work as an object of treatment such as a semiconductor wafer, an LCD(liquid crystal display) or the like, where all the surface of the plane work can be quickly heat-treated at a uniform temperature.例文帳に追加

本発明は半導体ウエハ、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等の面状の被処理体を熱処理するための熱処理装置及び熱処理方法に関し、面状の被処理体の全面を均一な温度で急速に加熱処理することを課題とする。 - 特許庁

To provide a heat treatment device and a method for heat treating a plane work as an object of treatment such as a semiconductor wafer, an LCD(liquid crystal display) or the like, where all the surface of the work can be quickly heat treated at a uniform temperature.例文帳に追加

本発明は半導体ウエハ、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）等の面状の被処理体を熱処理するための熱処理装置及び熱処理方法に関し、面状の被処理体の全面を均一な温度で急速に加熱処理することを課題とする。 - 特許庁

A manufacturing method of the heat- resistant film includes processes of far-infrared ray treatment of the heat- resistant film at an atmospheric temperature of 450°C-550°C and/or plasma treatment of the surface of the heat-resistant film.例文帳に追加

４５０℃〜５５０℃の雰囲気温度で、耐熱性フィルムを遠赤外線処理する工程、または／および、窒素ガスを含む雰囲気下で、耐熱性フィルムの表面をプラズマ処理する工程を包含する、上記耐熱性接着フィルムの製造方法もまた提供される。 - 特許庁

To provide a metal heater with wire winding, suitably used for a heating means of a heat treatment furnace applying heat treatment to a base plate of a solar cell, of which, a heater element wire is hardly broken, having large heating surface area, and larger heat valve than that of conventional products.例文帳に追加

太陽電池基板等を熱処理するための熱処理炉の加熱手段として好適に使用できる金属ヒーターであって、ヒーター表面積が大きく、発熱量を従来より大きくできるとともに、ヒーター素線が容易に断線しない長寿命なものを提供する。 - 特許庁

A method for producing the hydrophilic member includes applying a hydrophilic composition containing at least one hydrophilic polymer onto the base including metal or resin, performing heat treatment to the base with the hydrophilic composition in a coil shape or roll shape, and setting the surface roughness Ra of the hydrophilic coating after the heat treatment to 80-150% to the surface roughness Ra of the hydrophilic coating before the heat treatment.例文帳に追加

金属又は樹脂を含む基材上に、少なくとも一種の親水性ポリマーを含有する親水性組成物を塗布し、該親水性組成物を塗布した基材をコイル状又はロール状にして、加熱処理を行い、該加熱処理後の親水性塗膜の表面粗さＲａを、該加熱処理前の親水性塗膜の表面粗さＲａに対して８０％〜１５０％とすることを特徴とする親水性部材の製造方法。 - 特許庁

To provide a horizontal heat treatment furnace which can avoid deterioration of a surface roughness (haze) or generation of metal pollution, even when a silicon mirror surface wafer is subjected to argon annealing at a high temperature in the horizontal furnace, and also to provide a method for manufacturing an annealed wafer which has an excellent quality by performing heat treatment by using the novel horizontal heat treatment furnace.例文帳に追加

シリコン鏡面ウェーハを横型炉で高温でアルゴンアニールしても表面粗さ（ヘイズ）を悪化させたり、金属汚染を発生させることのない横型熱処理炉を提供し、かつこの新規な横型熱処理炉を用いて熱処理を行うことによって優れた品質を有するアニールウェーハを製造することのできるアニールウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The heat transfer pipe for a heat exchanger of which the wettability with liquid is improved by forming an oxide coating on a surface of the heat transfer pipe for the heat exchanger by heat treatment, is stored by packing it in an aluminum foil or a laminated foil of the aluminum foil and a resin film.例文帳に追加

加熱処理により熱交換器用伝熱管の表面に酸化被膜を形成するなどして、液体との濡れ性を向上させた熱交換器用伝熱管を、アルミニウム箔またはアルミニウム箔と樹脂フィルムとのラミネート箔により包装して保管を行う。 - 特許庁

A bi-functional or higher radical polymerizable monomer is applied onto the surface of a rubber molded product, and subjected to heat treatment, and then, a mixture of a siloxane compound having a (meth)acryloyl group and a radical initiator is applied onto the treated surface, and subjected to heat treatment.例文帳に追加

ゴム成形体の表面に二官能性以上のラジカル重合性モノマーを塗布して加熱処理した後、その処理表面に（メタ）アクリロイル基を有するシロキサン化合物及びラジカル開始剤の混合物を塗布し、これを加熱処理するようにしたことを特徴とする。 - 特許庁

One surface or both surfaces of the plastic substrate are subjected to the irradiation with electron beams and/or the irradiation with the electron beams and heat treatment and/or the irradiation with the electron beams, the heat treatment and photoirradiation and/or the irradiation with the electron beams and the photoirradiation, thereby, the surface hardness of the plastic substrate is made higher.例文帳に追加

プラスチック基板の一方面、あるいは両面に電子線照射／または電子線照射及び熱処理／または電子線照射及び熱処理及び光照射／または電子線照射及び光照射することによりプラスチック基板の表面硬度を大きくする。 - 特許庁