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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > heat treatment surfaceに関連した英語例文

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heat treatment surfaceの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1539



例文

The surface temperature of the kept coating film is lowered from the heat treatment temperature to a temperature close to ordinary temperature by forced cooling in a cooling zone 56.例文帳に追加

そして、冷却ゾーン56で保温処理された塗布膜の膜面温度を熱処理温度から常温近くまで強制的に冷却する。 - 特許庁

An Au film is formed on one main surface of the n-type semiconductor substrate 51, and Au is diffused in the n-type semiconductor substrate 51 by a heat treatment.例文帳に追加

N型半導体基板51の一方の主面にAu膜を形成し、熱処理によってN型半導体基板51内にAuを拡散させる。 - 特許庁

Then heat treatment is conducted in order to improve the flatness and crystallization of the surface of the inner wall in the trench 10.例文帳に追加

その後、トレンチ10の内壁表面の平坦化及び結晶性向上のための熱処理を行う。 - 特許庁

To uniformly treat the surface of an object for ion implantation and to realize constant-temperature heat treatment control.例文帳に追加

被処理物のイオン注入の表面処理を均一になし得るとともに、定温加熱制御を実現する。 - 特許庁

例文

To provide a surface treatment method capable of easily increasing the fatigue strengths (compressive residual stresses) of the bottom and dedendum of a heat treated gear.例文帳に追加

熱処理済みの歯車の歯底及び歯元の疲労強度(圧縮残留応力)増大を容易に成し得る表面処理方法を提供する。 - 特許庁


例文

By heat-treating before the surface-treatment, the non-swelling synthetic mica powdery material having a very high water repellency and use feeling is obtained.例文帳に追加

表面処理の前に熱処理することにより、撥水性、使用感が非常に高い非膨潤性合成雲母粉体が得られる。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING SURFACE TEMPERATURE OF SEMICONDUCTOR WAFER IN HEAT TREATMENT FURNACE AND TEMPERATURE MONITORING WAFER USED THEREIN例文帳に追加

熱処理炉内の半導体ウェーハの表面温度測定方法およびこの方法に用いられる温度モニタウェーハ - 特許庁

A temperature compensating ring 11 compensates the temperature of a substrate W during heat treatment by surrounding the outer periphery of the main surface of the substrate W.例文帳に追加

温度補償リング11は、基板Wの主面の外周を囲むことにより、加熱処理中の基板Wの温度補償を行っている。 - 特許庁

Next, the other main surface of the n-type semiconductor substrate 51 and a second n-type semiconductor region 22 are superposed, and fixed by the heat treatment.例文帳に追加

次に、N型半導体基板51の他方の主面と、第2N型半導体領域22とを重ね、熱処理によって固着させる。 - 特許庁

例文

The silver oxide 140 is formed as the covering layer by conducting the heat treatment in the oxidation atmosphere and oxidizing the surface area of fine particle.例文帳に追加

酸化雰囲気中で熱処理をして、微粒子の表面部分を酸化して、被覆層としての酸化銀140を形成する。 - 特許庁

例文

(3) As soon as the surface is hydrogen-terminated and subjected to heat treatment at 700 to 800°C, the Schottly electrode is formed.例文帳に追加

(3)表面を水素終端処理し、温度700〜800℃の熱処理後直ちにショットキー電極を形成する - 特許庁

To provide a method for passivation treatment of a metal surface, having no effect on a corrosion-resistant and non-heat-resistant packing and excellent in workability.例文帳に追加

耐食性を有するが非耐熱性であるパッキンに影響を与えないで作業性に優れた金属表面の不動態化処理方法を提供する。 - 特許庁

A mask 15 made of an absorber is placed on the top main surface of the semiconductor device 1 to perform electron irradiation, and then a heat treatment is carried out.例文帳に追加

この半導体装置1の上主面上にアブゾーバからなるマスク15を載置して電子線照射を行い、その後、熱処理する。 - 特許庁

To provide a heat-conductive resin composition which does not precipitate even when using metal oxide particles not subjected to any surface treatment and has preferable dispersion stability.例文帳に追加

表面処理されていない金属酸化物粒子を用いても沈降せず、分散安定性が良好な熱伝導性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Since the silicon wafer can be supported surely at many points, slip occurring on the rear surface of the wafer can be reduced during heat treatment.例文帳に追加

その結果、シリコンウェーハを確実に多点支持でき、熱処理時にウェーハ裏面に生じるスリップを低減できる。 - 特許庁

This radiating base material warms a human body with the radiation heat from the side surface of the thickness of a projection by performing a foam urethane resin processing and a stereoscopic treatment.例文帳に追加

発泡ウレタン樹脂加工を行い立体的処理をしたことにより突起物の厚みの横面より輻射熱として人体を温める - 特許庁

To provide a group III nitride semiconductor substrate for acquiring intra-surface heat uniformity when the substrate is heated, and for assuring easier treatment of the substrate.例文帳に追加

基板加熱時の面内均熱性を確保でき、基板の取り扱いが容易であるIII族窒化物半導体基板を提供する。 - 特許庁

The micro-projections 14A, 13B having dot structures on the substrate surface 12a are formed in the GaN single crystal substrate 10 by the heat-treatment.例文帳に追加

このGaN単結晶基板10においては、熱処理によって基板表面12aにドット構造の微細突起14A,14Bが形成されている。 - 特許庁

To stably perform the polishing heat treatment of the surface of a cable.例文帳に追加

ケーブル表面の艶出し加熱処理を安定して行うことができる透明塩化ビニル被覆ケーブルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To sufficiently suppress metal contamination of a lower surface of a silicon substrate even when a heating temperature of a heat treatment apparatus is made high.例文帳に追加

熱処理装置における加熱温度を高くしても、シリコン基板下面の金属汚染を十分に抑制できるようにする。 - 特許庁

This heat insulation material subjected to water repellency providing treatment, consists of ceramic fiber 2 having a three-dimensional network structure and a coating film 3 of gold, platinum or yttria, formed on the surface of the ceramic fiber 2.例文帳に追加

撥水処理した断熱材は、三次元網目状繊維2の表面に金、白金またはイットリアの被膜3を設けて構成される。 - 特許庁

Supplying impurities continuously during heat treatment improves the impurity concentration close to the surface.例文帳に追加

熱処理中に継続的に不純物を供給することができるため表面付近の不純物濃度を高めることができる。 - 特許庁

To provide a precoated metal sheet which accelerates the surface densification of a fluoroplastic even by short time baking treatment and shows good heat-resistant non-tackiness.例文帳に追加

短時間の焼付け処理でもフッ素樹脂の表面濃化を促進させ、良好な耐熱非粘着性を呈するプレコート金属板を提供する。 - 特許庁

After the diffusion heat treatment step, the coated workpiece may be subjected to a surface finishing operation such as a peening operation.例文帳に追加

拡散熱処理工程の後で、1つまたは複数の被覆ワークピースは、ピーニング操作などの表面仕上げ操作に掛けることができる。 - 特許庁

To reduce metallic contaminant adhering to the surface of a wafer in a heat treatment system used for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造時に用いる熱処理装置において、ウエハ表面に付着する金属汚染物質を低減させること。 - 特許庁

After the deposition of the plating layer, heat treatment is performed at400°C in an oxidizing atmosphere to form the nitrogen-containing titanium oxide film on the outermost surface layer.例文帳に追加

めっき層形成後に酸化性雰囲気400℃以上の温度で熱処理し、最表層に窒素含有酸化チタン皮膜を形成した。 - 特許庁

The silver film or the silver image obtained by a heat treatment of silver oxide is pressed further to improve flatness of the surface thereof, and imparted with luster.例文帳に追加

酸化銀を加熱処理することによって得た銀膜もしくは銀画像をさらに加圧して、表面の平滑性を上げて、光沢を付与する。 - 特許庁

A layer hardened by heat treatment is formed on the surface layer portions of the step parts 10, 16 on both the outer peripheral side and the inner peripheral side.例文帳に追加

上記外周面側、内周面側両段差部10、16の表面層部分に熱処理硬化処理層を形成する。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus which can control the uniformity of temperatures on the surface of each substrate when heating the substrates mounted on a plurality of susceptors at a time.例文帳に追加

複数のサセプタに載置された基板を一度に加熱する際に,各基板の面内温度の均一性を制御できる熱処理装置を提供する。 - 特許庁

Moisture resistance of an electronic apparatus is employed by forming a layer of zinc oxide 7 forcibly on the surface at a solder joint by heat treatment.例文帳に追加

熱処理により、はんだ接合部の表面に酸化亜鉛7の層を強制的に形成し、電子機器の耐湿性を向上させる。 - 特許庁

To provide a surface coating material having excellent durability and carburization resistance and a roll for a heat treatment furnace having the excellent carburization resistance.例文帳に追加

耐久性、耐浸炭性に優れた表面被覆用材料、および耐浸炭性に優れる熱処理炉用ロールを提供する。 - 特許庁

To provide a metal surface treatment method where a diffusion layer having a sufficient thickness, and further imparting high heat resistance/high strength can be provided.例文帳に追加

十分な厚みを有し、しかも、高耐熱性・高強度を付与する拡散層を設けることが可能な金属表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To suppress growth of a natural oxide film to the back surface of a semiconductor substrate after a heat treatment for activating or diffusing impurities.例文帳に追加

不純物を活性化又は拡散させる熱処理後の半導体基板の裏面への自然酸化膜の成長を抑制する。 - 特許庁

For the peeled surface protective film 25, a material for preventing mutual diffusion between the film and the piezoelectric thin film 10 in the following heat treatment is used.例文帳に追加

剥離面保護膜25は、次の熱処理で圧電薄膜10との相互拡散を防ぐ材料を用いる。 - 特許庁

In the method for blacken a member, the surface of the member is heat-treated while carbon emission medium is simultaneously fed inside a treatment chamber (1).例文帳に追加

処理室の内部で同時に炭素放出媒質を供給しながら部材の表面に熱処理を施す。 - 特許庁

To provide a treatment method capable of forming fine unevenness on a surface of a heat transfer member even it has the complicated shape.例文帳に追加

複雑な形状の伝熱部材であっても表面に微小な凹凸を形成することのできる処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A TiSi layer 8 is formed on the gate electrode and the surface of both the impurity layers through sputtering-heat-treatment of Ti.例文帳に追加

次にTiをスパッタ熱処理しゲート電極と両不純物層表面にTiSi層8を形成する。 - 特許庁

Further, the heat-treatment is applied to the raceway surface 13 of the inner-shaft 3 while cooling the flange 19 of the inner-shaft 3 by bringing the flange into contact with the water 27.例文帳に追加

また内軸3の軌道面13を、前記内軸3のフランジ19を水27と接触させて冷却しながら熱処理する。 - 特許庁

To provide a temperature detector, capable of keeping fluctuation in the surface temperature of a heat-treatment roller to be within ±0.1°C.例文帳に追加

熱処理ローラの表面温度の変動を±0.1℃以内とすることのできる温度検出装置を提供すること。 - 特許庁

Also, a groove portion 25 is formed so as to communicate with an exhaust port 21 for exhausting a gas in the micro-space ms, on the upper surface of the heat treatment plate 1.例文帳に追加

また、熱処理プレート1の上面には、微小空間msの気体を排出する排出孔21に連通して溝部25が形成されている。 - 特許庁

Before a CMP processing process, a substrate defect present on a surface of an SiC substrate 1 is exposed by executing a heat treatment process.例文帳に追加

CMP加工工程に先立ち、熱処理工程を行うことでSiC基板1の表面に存在する基板欠陥を顕在化させる。 - 特許庁

This method for producing the Takoyaki comprises applying a starch-containing dispersion onto the surface of a shape-retainable semi-baked Takoyaki followed by making a heat treatment.例文帳に追加

保形性を有する半焼成たこ焼きの表面に、澱粉含有分散液を付着させた後加熱処理する、たこ焼きの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for compounding, with high productivity, a composite including a poorly-adhesive material with keeping heat resistance and without performing a surface treatment.例文帳に追加

難接着性素材を含む複合体を耐熱性を保ったまま表面処理無しに生産性良く複合する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a connecting component metal material having good surface properties after heat treatment and hardly producing whiskers, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

加熱処理後の表面性状が良好で、ウィスカが発生しにくい接続部品用金属材料およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet-feeding heat treatment apparatus wherein the quality of an object to treat is improved by uniformly cooling the surface of the object.例文帳に追加

被処理物の面内温度を均一に冷却することによって、被処理物の品質を向上することができる枚葉式熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide equipment and a method for heat treating a substrate in which a surface temperature in a treatment chamber can be prevented suitably from lowering.例文帳に追加

プロセスチャンバ内表面の低温化をより好適に防止できる基板熱処理装置および基板熱処理製造方法を提供する - 特許庁

A Triballoy (R) coating film is formed on a shroud contact surface 3 of a turbine moving blade 1 by mans of HVOF, and is subjected to diffusion heat treatment.例文帳に追加

タービン動翼1のシュラウドコンタクト面3に対してHVOFによりトリバロイコーティング皮膜を形成し、拡散熱処理を施す。 - 特許庁

To provide a surface treatment material for a heat exchanger capable of satisfying both of hydrophilic and color preserving properties in one-layered film configuration.例文帳に追加

1層の皮膜構成で、親水性と耐色落性の両方の特性を満足する熱交換器用表面処理材を提供する。 - 特許庁

In a deposit amount detector 103, the deposit amount of the coating is detected which is formed on a surface of the metal plate 18 after heat treatment.例文帳に追加

付着量検出装置103では、熱処理後の金属板18の表面に形成される皮膜の付着量が検出される。 - 特許庁

例文

The transfer sheet has at least a transfer layer, which can form a porous surface-roughened layer on a temporary support through heat treatment.例文帳に追加

仮支持体上に、熱処理により多孔質の表面粗化層を形成し得る転写層を少なくとも有することを特徴とする転写シートである。 - 特許庁

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