「heat treatment surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The fine particles of the fluorine-based resin melt and spread on the entire surface of the plated layer by heat treatment to eliminate surface irregularity.例文帳に追加

フッ素系樹脂微粒子は、加熱処理することにより溶解し、メッキ層の表面全体に広がって、ムラがなくなる。 - 特許庁

SURFACE COVERING MATERIAL, HEATER AND SUPERHEAT STEAM GENERATOR USING THIS SURFACE COVERING MATERIAL, AND HEAT TREATMENT DEVICE USING THE SUPERHEAT STEAM GENERATOR例文帳に追加

表面被覆材、並びにこの表面被覆材を用いたヒータ及び過熱蒸気発生装置、並びにこの過熱蒸気発生装置を用いた加熱処理装置 - 特許庁

To provide a vertical heat treatment apparatus allowing a support part for supporting a wafer holding part to be shared for a right side surface door and a left side surface door.例文帳に追加

右側面扉用と左側面扉用で、ウエハ保持部を支持するための支持部を共有することができる縦型熱処理装置を提供する。 - 特許庁

Adjustment of surface roughness and surface height of each slide part is done by heat treatment, metal plating, and thin film containing carbon.例文帳に追加

各摺動部の面粗さや表面高度の調整は、熱処理、金属めっき、炭素含有薄膜により実現される。 - 特許庁

The heat treatment tube is cleaned, by putting the substrate fitted with a polysilicon film, on the surface of which having nonetching property to the etchant of silicon the polysilicon film is stacked, into the heat treatment tube prior to heat treatment.例文帳に追加

シリコンのエッチング液に対して非エッチング性を有する基板の表面にポリシリコン膜を堆積したポリシリコン膜付き基板を熱処理チューブ内に投入して熱処理することにより、前記熱処理チューブを清浄化するようにした。 - 特許庁

To provide a heat treatment device of a steel material and a steel material manufacturing method in which the surface temperature and the internal temperature of the steel material are matched with the target values with excellent accuracy when performing the heat treatment by induction heating, and the heat treatment is performed so that the steel material has targeted characteristics.例文帳に追加

誘導加熱によって熱処理を行うに際し、鋼材の表面温度及び内部温度を精度よく目標に一致させ、鋼材が目的の性質をもつような熱処理を行うことができる鋼材の熱処理装置及びその熱処理装置を用いた鋼材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The heat treatment method includes a process where, in a sheet material in which an inorganic film is formed on the surface of a substrate made of a resin film, the inorganic film is subjected to heat treatment, and, for the heat treatment of the inorganic film, infrared rays with a wavelength hard to be absorbed by the substrate as compared with the inorganic film are used.例文帳に追加

本発明の熱処理方法は、樹脂フィルム製の基板の表面に無機膜が形成されたシート材に、無機膜に加熱処理を行う工程を有し、無機膜の加熱処理に、無機膜よりも基板の方が吸収されにくい波長の赤外線を用いる。 - 特許庁

This heat treatment method for an amorphous alloy strip for a resonator, is performed as the following, that is, the heat treatment to the amorphous alloy strip is performed in the magnetic field in the longitudinal direction of the amorphous alloy strip and successively, the heat treatment is performed in the fixed angle magnetic field to the amorphous alloy strip surface.例文帳に追加

アモルファス合金薄帯を、該アモルファス合金薄帯の長手方向の磁場中で熱処理し、次いでアモルファス合金薄帯面に対し所定の角度を有する磁場中で熱処理するレゾネータ用アモルファス合金薄帯の熱処理方法である。 - 特許庁

The substrate heat treatment apparatus includes a liquid heating medium 70 which is stored in a treatment container 60 for heat-treating a substrate G to be treated, and in contact with the entire bottom surface of the substrate G; and a heat source such as a heater 80 for controlling the temperature of the heating medium 70 to a predetermined treatment temperature.例文帳に追加

被処理基板Ｇを熱処理する処理容器６０内に収容され、被処理基板Ｇの下面全域に接触する液状の熱媒体７０と、熱媒体７０を所定の処理温度に温調する熱源例えばヒータ８０とを具備する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent that forms a coating film excellent in water and oil repellent properties, oil and fat removing performance, alkali resistance, and heat resistance, and having a low friction coefficient and a composition for the surface treatment agent, to provide products each having a coating film formed from the surface treatment agent or the composition for the surface treatment agent, and to provide a novel fluorine-containing ether compound useful as a surface treatment agent.例文帳に追加

撥水撥油性、油脂汚れの除去性、耐アルカリ性、耐熱性に優れ、低摩擦係数を有する塗膜を形成できる表面処理剤および表面処理剤用組成物；該表面処理剤または該表面処理剤用組成物から形成される塗膜を有する物品；および、表面処理剤として有用な新規な含フッ素エーテル化合物を提供する。 - 特許庁

The method includes a material preparing process I, a cold plastic working process II for performing plastic working for at least an outer peripheral surface of the material W, a heat treatment process III for performing heat treatment, an end face grinding process IV, and a peripheral surface grinding process V for grinding outer peripheral surface and inner peripheral surface of the material W after the end face grinding.例文帳に追加

この製造方法は、素材準備過程I と、この素材Ｗの少なくとも外周面を冷間で塑性加工する塑性加工過程IIと、熱処理する熱処理過程III と、端面研削過程IVと、この端面研削後の素材Ｗの外周面および内周面を研削する周面研削過程V とを含む。 - 特許庁

To provide a method for performing a surface-treatment for hardening a groove surface without reaching the heat in the surface-treatment of the groove in a cam-shaft to the neighborhood of an axial center in the cam-shaft or while restraining the fusion in the edge part of the groove in the upper surface-treatment.例文帳に追加

カムシャフトの溝の表面処理における熱をカムシャフトの軸心付近にまで到達させることなく、あるいは上面処理における溝エッジ部の溶融を抑えつつ、溝表面を硬化させる表面処理を行なう方法を提供する。 - 特許庁

In the tervalent chromate treatment method to be applied to the surface of the zinc coated or galvanized steel, the surface is previouosly subjected flash treatment by an alkali metal etc., then to first heat treatment and thereafter the surface is subjected to immersion into a tervalent chromate treating agent to form the chromate film, thence the surface is subjected rapid cooling after second heat treatment.例文帳に追加

亜鉛又は亜鉛系めっき鋼材の表面に施される３価クロメート処理方法であって、前記表面にアルカリ金属等によるフラッシュ処理を予め行った後、第１熱処理を行い、その後これに３価クロメート処理剤の浸漬をしてクロメート皮膜を形成させ、次いで第２熱処理をした後に急冷を行う。 - 特許庁

A first coating by first treatment selected from the group consisting of electroplating treatment, electroless plating treatment and heat treatment is applied to the surface of a base material, and a second coating by second treatment selected from the group consisting of vapor deposition treatment and ion beam treatment is applied to the surface of the first coating.例文帳に追加

電解メッキ処理、無電解メッキ処理、および熱処理からなるグループから選択される第１の処理による第１のコーティングを基材の表面に施し、前記第１のコーティングの上に、蒸着処理およびイオンビーム処理からなるグループから選択される第２の処理による第２のコーティングを施す。 - 特許庁

Furthermore, a surface treatment agent is sprayed on the surface of the ion-conductive glass powder to be heat-treated so that the surface of the ion-conductive glass powder is immobilized to have the hydrophilic treatment.例文帳に追加

更にイオン伝導性ガラス粉末の表面に表面処理剤を散布して熱処理することにより、イオン伝導性ガラス粉末の表面が固定化されて親水化処理される。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the steps of plating the surface of the copper alloy substrate with Ni and subsequently with Sn, and then subjecting the resultant substrate to reflow treatment or heat treatment; or the steps of plating the surface of the copper alloy substrate with Ni, and then hot-dip-plating the Ni-plated surface with Sn.例文帳に追加

銅合金基材の表面にＮｉめっき、続いてＳｎめっきした後、リフロー処理又は加熱処理を行うか、銅合金基材の表面にＮｉめっきした後、その上に溶融Ｓｎめっきを行うことにより製造する。 - 特許庁

This invention relates to the heat-receiving member which receives the heat energy released from the heat source, and which comprises: a base containing aluminum or an aluminum alloy; and a surface layer formed by alumite treatment of the surface of the base.例文帳に追加

熱源から発せられる熱エネルギーを受け取る受熱部材であって、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる基材と、基材表面がアルマイト処理された表面層からなることを特徴とする受熱部材。 - 特許庁

On the surfaces of a heat exchanger plate 1a constituting the primary-side fluid flow passage 6 of a heat exchanger and another heat exchanger plate 1b constituting the secondary-side fluid passage 7 of the heat exchanger, hydrophilic surface treatment is applied.例文帳に追加

一次側流体流路６を構成する伝熱プレート１ａと二次側流体流路７を構成する伝熱プレート１ｂの表面に親水性の表面処理を施す。 - 特許庁

The setter for heat treatment of the glass substrate is formed of crystallized glass or a ceramic sintered body to place the glass substrate on a placing surface for heat treatment, wherein a heat resistant film is formed on the placing surface.例文帳に追加

ガラス基板熱処理用セッターは、結晶化ガラス又はセラミック焼結体からなり、ガラス基板を載置面に載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、載置面に耐熱膜が形成されてなることを特徴とする。 - 特許庁

The heat treatment tool to be used for heat treatment by horizontally supporting a wafer-like object to be heat-treated has a supporting part for supporting the rear side of the object to be heat-treated, and the supporting surface of the supporting part is formed like a projected curve.例文帳に追加

ウエーハ状の被処理体を水平に支持して熱処理する際に使用する熱処理用治具であって、前記被処理体の裏面側を支持する支持部を有し、該支持部の支持面が、凸曲面状に形成されていることを特徴とする熱処理用治具。 - 特許庁

In the ceramic fiber blocks 10 arranged inside a furnace shell 11 of a heat treatment furnace so as to be aligned to form the heat insulating wall 12 of the heat treatment furnace, inner wall faces 13 forming the furnace inner surface of the heat insulating wall 12 are coated with stainless protective plates 14.例文帳に追加

熱処理炉の炉殻１１内側に並べて配置され熱処理炉の断熱壁１２を形成するセラミックファイバーブロック１０であって、断熱壁１２の炉内側表面を形成する内壁面１３がステンレス製保護板１４でそれぞれ被覆されている。 - 特許庁

A heat treatment apparatus includes: a heat treatment chamber 104 of which the side surface an opening/closing shutter 110 for conveying the workpiece is formed on; an exhaust path 113 formed externally around the heat treatment chamber 104 including the opening/closing shutter 110; and an exhaust hole 101 through which the heat treatment chamber 104 is evacuated from the exhaust path 113 through the opening/closing shutter 110.例文帳に追加

その側面に被処理体搬送用の開閉シャッタ１１０が形成された加熱処理室１０４と，開閉シャッタ１１０を含む加熱処理室１０４の外周囲に形成された排気路１１３と，加熱処理室１０４内の排気を，開閉シャッタ１１０を介して排気路１１３から排気するための排気孔１０１と，を有する。 - 特許庁

To provide a supporting tool for heat treatment, a heat treatment apparatus, a heat treatment method, a method of manufacturing substrate, and a method of manufacturing semiconductor device for manufacturing high quality semiconductor device and substrate, by controlling the occurrence of slip dislocation fault of substrate caused during the heat treatment and the occurrence of damage at the rear surface of the substrate.例文帳に追加

本発明の目的は、熱処理中に発生する基板のスリップ転位欠陥、基板裏面傷の発生を抑制し、高品質な半導体装置（デバイス）や基板を製造することができる熱処理用支持具、熱処理装置、熱処理方法、基板の製造方法及び半導体装置の製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

In the copper heat transfer pipe, a Cu_2O film is formed on an outer surface of the copper heat transfer pipe by leaving 150 mg/m^2 of working oil on the outer surface of the copper heat transfer pipe after machining, and providing a temperature of the outer surface at ≥80°C and ≤250°C by carrying out flame treatment of the copper heat transfer pipe.例文帳に追加

加工後の伝熱銅管の外表面に残存する加工油を１５０ｍｇ／ｍ^2 以下とし、該伝熱銅管を火炎処理して外表面の温度を８０℃以上２５０℃未満とすることにより伝熱銅管の外表面にＣｕ_2 Ｏ皮膜を形成する。 - 特許庁

To manufacture a vertical boat for heat treatment which can avoid generation of a surface defect called a slip in heat treatment steps of semiconductor substrate (silicon wafer) oxidization, CVD, annealing, etc.例文帳に追加

半導体基板（シリコンウェーハ）の酸化、CVD、アニール等の熱処理工程のいてスリップと呼ばれる表面欠陥の発生のない縦型熱処理用ボートを作成する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method to manufacture a high quality semiconductor device or substrate by controlling generation of substrate rear surface scars, and substrate slip dislocation defects generated during heat treatment.例文帳に追加

熱処理中に発生する基板のスリップ転位欠陥、基板裏面傷の発生を抑制し、高品質な半導体装置（デバイス）や基板を製造することができる熱処理方法を提供する。 - 特許庁

A compensating value of the setting temperature of each heat treatment plate region is calculated from the estimated normal temperature within the wafer surface and the falling degree of temperature of the heat treatment region.例文帳に追加

そして、その推定したウェハ面内の定常温度と熱板領域の温度降下量から、各熱板領域の設定温度の補正値を算出する。 - 特許庁

To suppress the dispersion of intra-surface temperature distribution of a silicon carbide semiconductor substrate at the time of heat treatment for the silicon carbide semiconductor substrate by using a heat treatment device provided with a hot wall.例文帳に追加

ホットウォールを備える熱処理装置を用いた炭化珪素半導体基板の熱処理の際、半導体基板の面内温度分布のばらつきを抑制することを目的とする。 - 特許庁

To provide a temperature measuring substrate for a substrate heat treatment furnace capable of measuring accurately a temperature distribution when performing heat treatment of an actual substrate without projection of a hot contact part from the substrate surface even if the substrate is thinned.例文帳に追加

基板が薄肉化しても基板表面から温接点部が突出することなく、実基板を熱処理する際の温度分布を正確に測定できるようにした基板熱処理炉用の測温基板を提供する。 - 特許庁

The dot structures in the GaN single crystal substrate 10 can be formed by a simple heat-treatment alone, which does not necessarily need a particular surface heat-treatment process or many steps.例文帳に追加

すなわち、このＧａＮ単結晶基板１４は、簡便な熱処理のみでドット構造が形成され、特別な表面処理や多くの工程を必ずしも必要とはしないため、ドット構造を容易に形成することができる。 - 特許庁

To provide a heat treatment method and a heat treatment device capable of improving heating efficiency of a substrate surface by flash light irradiation of each time when the flash light irradiation is performed for two or more times.例文帳に追加

複数回のフラッシュ光照射を行ったときの各回のフラッシュ光照射による基板表面の加熱効率を向上させることができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer heat-treating method suppressing oxidization of a wafer surface and generation of hazes while suppressing an increase in treatment time and preventing the wafer and a heat treatment member from being damaged.例文帳に追加

処理時間の増加を抑制し、ウエハ及び熱処理部材の破損を防止しつつ、ウエハ表面の酸化を抑制し、ヘイズの発生を抑制したシリコンウエハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method and a heat treatment apparatus capable of removing a peripheral edge of a resist film formed on a substrate surface in a short time.例文帳に追加

基板表面に形成されたレジスト膜の周縁部を短時間にて除去可能にすることができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a method for cleaning the surface of a compound semiconductor capable of realizing a heat treatment at the optimum temperature enabling removal of an oxide film without dissociation of constituting atoms from a substrate in the process of removing the oxide film by the heat treatment.例文帳に追加

熱処理による酸化膜除去工程において，構成原子の基板解離がなく酸化膜除去ができる最適温度での熱処理が実現できる化合物半導体の表面清浄化方法を得る。 - 特許庁

To provide a heat treatment device for a substrate, which can evenly treat the substrate over the whole surface by reducing the temperature difference between a temperature compensating ring and the substrate at the time of heat treatment.例文帳に追加

加熱処理時における温度補償リングと基板との温度偏差を低減し、基板全面にわたり均一な処理を行える基板熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-treatment apparatus for cylindrical metallic member, with which heat-treatment having little residual strain and high productivity can be carried out to the inner peripheral surface of the cylindrical metallic member.例文帳に追加

筒形金属部材の内周面に対して残留歪みが少なく生産性の高い熱処理が可能な筒形金属部材用熱処理装置を提案する。 - 特許庁

To provide a vertical wafer boat for a vertical heat treatment device capable of performing heat treatment to a wafer with high uniformity in a surface, forming a film and reducing the particles attached to the wafer.例文帳に追加

高いウエハ面内均一性で熱処理を施し、また成膜でき、しかも、ウエハ上に付着するパーティクルを低減させる構成の縦型熱処理装置用の縦型ウエハボートを提供する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method for a steel material, which makes a surface temperature and an inner temperature of the steel material in exact agreement with the target and performs such heat treatment as to impart the steel material an objective property, and to provide a program therefor.例文帳に追加

鋼材の表面温度、内部温度を精度よく目標に一致させ、鋼材が目的の性質をもつような熱処理を行うことができる鋼材の熱処理方法及びそのプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a steel sheet for heat treatment in which the amount of scale formed on the surface layer of a member after heat treatment or hot press forming is reduced, to provide a cold-rolled steel sheet, and to provide its production method.例文帳に追加

熱処理後、あるいは熱間プレス成形後の部材の表層に生成するスケール量が少なくなる熱処理用鋼板、冷間圧延鋼板とその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat treatment method for a steel material, which makes a surface temperature and an interior temperature of the steel material in exact agreement with the target and performs such heat treatment as to impart the steel material an objective property, and to provide a program therefor.例文帳に追加

鋼材の表面温度、内部温度を精度よく目標に一致させ、鋼材が目的の性質をもつような熱処理を行うことができる鋼材の熱処理方法及びそのプログラムを提供する。 - 特許庁

To solve the problem that a conventional heat treatment technique needs to coat the surface of a boron phosphide layer with a silicon nitride protective layer so as to obtain a low-resistance boron phosphide semiconductor layer, and further needs heat treatment for a long time.例文帳に追加

従来の熱処理技術では、低抵抗のリン化硼素半導体層を得るために、リン化硼素層の表面に窒化珪素の保護膜を被着させる必要がある上に、長時間に亘る熱処理が要求される問題点を解決する。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus and a heat treatment method capable of heating a film formed on the front surface of a substrate, regardless of the kind of the film, to a fixed processing temperature.例文帳に追加

基板の表面に形成された膜の種類にかかわらず、当該膜を一定の処理温度に加熱することができる熱処理装置および熱処理方法を提供する。 - 特許庁

Cementation heat treatment is applied to a retainer matrix material 7 comprising carbon steel or cemented steel and the hard film having higher hardness than a cementation cured layer is formed on the outer front surface at a lower temperature than the temperature corresponding to annealing temperature of the cementation heat treatment.例文帳に追加

炭素鋼もしくは浸炭鋼からなる保持器母材７に浸炭熱処理を施し、浸炭熱処理の焼戻し温度に相当する温度より低い温度下で、最表面に浸炭硬化層よりも高硬度の硬質膜を形成する。 - 特許庁

At least one surface comprises a group of fine regions which are subjected to a discrete or continuous spot heat treatment and a remaining region which is not subjected to the spot heat treatment.例文帳に追加

少なくとも一方の表面が、離散的または連続的なスポット熱処理を受けた一群の微小領域と、スポット熱処理を受けていない残りの領域と、からなる。 - 特許庁

To perform heat treatment favorably for a long period by removing an oxide film on the surface of a silicon wafer, thereby making a quartz tube less easily blurred even if heat treatment is repeated.例文帳に追加

シリコンウェーハの表面の酸化膜を除去して熱処理を繰り返しても石英チューブに曇りを生じにくくして長期にわたって熱処理を良好に行うことを可能にする。 - 特許庁