「heat treatment surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

In the producing method of the extra-low carbon steel with an RH degassing treatment, after completing decarburizing treatment with the RH degassing treatment, and in the case of executing heat-up process after executing decarburizing treatment, after completing the heat-up process, the fine powdery flux consisting essentially of CaO is blown onto the surface of the molten steel.例文帳に追加

ＲＨ脱ガス処理にて極低炭素鋼を溶製する方法であって、前記ＲＨ脱ガス処理で脱炭処理を終了した後、または脱炭処理後に昇熱工程が入る場合には昇熱工程を終了した後にCaOを主体とする微粉体のフラックスを溶鋼表面に吹き付けることを特徴とする高清浄度鋼の溶製方法である。 - 特許庁

In a manufacture of the cam-shaft having the groove 18, at first, a heat-quantity reducing member for reducing thermal-conduction to the axial center of the cam-shaft is formed and thereafter, after performing the heat-treatment on the groove surface under condition of forming the heat-quantity reducing member, the heat-quantity reducing member is removed.例文帳に追加

溝１８を有するカムシャフトの製造において、まず、カムシャフトの軸心方向への熱伝導を低減するための熱量低減部材を形成し、その後、熱量低減部材を形成した状態で、溝表面に熱処理を施した後、熱量低減部材を除去する。 - 特許庁

To provide a heat treatment apparatus and a heat treatment method of a continuously cast slab capable of maintaining the oxygen concentration at a low value in a tunnel-shaped chamber at low cost in the apparatus for continuously performing the heat treatment of the cast slab in the chamber, and preventing oxidation of the slab with its surface layer being continuously heated during the conveyance.例文帳に追加

トンネル型のチャンバー内で鋳片を連続的に熱処理する装置において、前記チャンバー内で低コストで酸素濃度を低濃度に維持可能とし、搬送中に連続的に表層を加熱された鋳片の酸化を防止する連続鋳造鋳片の熱処理装置または熱処理方法を提供する。 - 特許庁

The oxide film on the surface of the silicon wafer before heat treatment is removed by washing the surface of the silicon wafer with H (hydrofluoric acid) thereby replacing oxygen combined with Si on the surface of the silicon wafer by H(hydrogen).例文帳に追加

熱処理前のシリコンウェーハの表面を、ＨＦ（フッ酸）によって洗浄し、シリコンウェーハの表面のＳｉに結合している酸素をＨ（水素）と置換して、シリコンウェーハの表面の酸化膜を除去する。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical device substrate having a β-FeSi_2 layer on its surface includes implanting iron ions into a surface Si layer of an SOI substrate, and then applying a heat treatment to form a β-FeSi_2 layer on the surface.例文帳に追加

ＳＯＩ基板の表面Ｓｉ層に鉄イオンを注入し、その後熱処理することによって、表面にβ−ＦｅＳｉ_２層を形成させることを特徴とする、表面にβ−ＦｅＳｉ_２層を有する光デバイス基板の製造方法。 - 特許庁

The temperature rise restraining countermeasure is any or a combination of a wetting countermeasure of the ground surface by water supply, construction of water retentive pavement, pavement surface treatment by coating of a heat shielding material, water sprinkling to the ground surface and lightness difference imparting processing.例文帳に追加

また、前記温度上昇抑制対策は、給水による地表面の湿潤対策、保水性舗装の施工、遮熱材料の塗工による舗装表面処理、地表面への散水、明度差付与処理のいずれか又は組合せとする。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for a heat-resistant article which can provide a beautiful and strong coated surface by combining the formation of a satin finished surface having a fine unevenness by a sand-blasting process, and a baking finish.例文帳に追加

本発明は、サンドブラスト加工により微小凹凸をもった梨地面の形成と、焼付塗装との組合わせにより、美麗で強固な塗装面を具備できるようにした耐熱性物品の表面処理方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a coating agent easily applicable to the surface of a substrate by a worker and giving a coating film having transparent appearance and excellent hydrophilicity as well as water resistance without using heat- treatment, etc., and provide a coating agent effective for imparting a surface of a substrate with stain-proofness and antifogging property by hydrophilicizing the surface of the substrate with a simple procedure.例文帳に追加

本発明は、施工者が既設の基材表面に簡便に施工ができ、塗膜は加熱処理等の操作を必要とせず、透明で親水性に優れ、かつ耐水性をも具えあわせたコーティング剤を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a surface-modified copper member comprises subjecting a surface of a substrate made of copper or a copper alloy to a heat-treatment in an atmosphere in which chemical species containing carbon and oxygen are fed to the surface, thereby forming an oxide layer containing Cu_2O.例文帳に追加

銅又は銅合金からなる基体の表面を炭素、酸素を含む化学種が当該表面に供給される雰囲気下で加熱処理することにより、Ｃｕ_２Ｏを含む酸化物層を形成する。 - 特許庁

The apparatus for heat treatment installs the substrate W on an installing surface 99 by approaching the lower surface of the substrate W and an installing surface 99 for installing the substrate W in a non-parallel state with each other.例文帳に追加

本発明に係る熱処理装置は、基板Ｗの下面と、基板Ｗを載置する載置面９９とを、互いに非平行な状態で近接させて、載置面９９上に基板Ｗを載置する。 - 特許庁

To provide wett waste treatment equipment capable of efficiently drying and processing the waste by providing a device, which contacts always closely to the inner surface of a cylinder and removes stuck matters on the inner surface to keep the efficiency on a heat transmitting surface.例文帳に追加

筒体の内壁面に常に密着して、筒体の内壁面に付着する残留物を取り除く装置を備え、伝熱面における伝熱効率を維持して、効率よく乾燥処理することができる含水廃棄物処理装置を提供する。 - 特許庁

The internal surface of the heat-treatment device is covered with an oxide passivated film, and, at the same time, the surface roughness Ra of the internal surface is adjusted to ≤1 μm in roughness of median value.例文帳に追加

加熱処理装置の内表面を酸化物不働態膜によって覆うと共に、当該内表面の表面粗さを中心平均粗さＲａで１μｍ以下にする。 - 特許庁

In the production method of a shaft 1 having a functional surface 10 as an inner ring orbital surface of a rolling bearing, as a heat treatment to the above surface 10, a high frequency induction hardening and a high frequency induction tempering are applied.例文帳に追加

転がり軸受の内輪軌道面として機能する面１０を有する軸１の製造方法において、前記面１０に対する熱処理として、高周波焼入れと高周波焼戻しを行う。 - 特許庁

SiH4 gas and Si2H6 gas are fed to the electrode to form the nuclei of grains on the exposed surface of the film 9, and after that, a heat treatment is performed on the surface of the film 9 to form an HSG-Si film 10 on the surface of the film 9.例文帳に追加

ＳｉＨ_4 ガスやＳｉ_2 Ｈ_6 ガスを供給して非晶質Ｓｉ膜９の露出面にグレインの核を形成した後、熱処理を行って、表面にＨＳＧ−Ｓｉ１０を形成する。 - 特許庁

Alternatively, a first coating layer (flexible layer) obtained by heat treatment of solution polyorganosilazane is formed on the rubber surface of the seal member, and a second coating layer (dense layer) obtained by heat treatment of solution including perhydro-polysilazane and polyorganosilazane is formed on the first coating layer.例文帳に追加

あるいは、シール部材のゴム表面に、ポリオルガノシラザンを含む溶液を熱処理して得られる第１のコーティング層（柔軟層）を形成し、さらにその上に、パーハイドロポリシラザン及びポリオルガノシラザンを含む溶液を熱処理して得られる第２のコーティング層（緻密層）を形成する。 - 特許庁

A heat curing treatment apparatus 200 carries out the heat curing treatment of a fiber reinforced resin layer by heating the whole of a fiber reinforced tank container 10 having a fiber-reinforced resin layer formed on the outer surface thereof by winding fibers impregnated with the thermosetting resin.例文帳に追加

熱硬化処理装置２００は、熱硬化性樹脂を含浸させた繊維を巻き付けることにより外表面に繊維強化樹脂層が形成された繊維強化タンク容器１０の全体を加熱して、繊維強化樹脂層の熱硬化処理を実行する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor optical device for reducing a harmful influence caused by heat treatment even if there is a process for performing heat treatment after forming a dielectric film on a surface of a semiconductor layer, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

半導体層の表面上に誘電体膜を形成した後に熱処理を行う工程を有する場合であっても、熱処理による悪影響を低減できる半導体光デバイスの製造方法および半導体光デバイスを提供すること。 - 特許庁

Consequently, the film thinning layer can be removed without any heat treatment, the removing operation for the stop layer is facilitated to increase the production efficiency of the substrate, and the stop layer can be polished without any defect due to heat treatment while holding the polishing amount uniformity in the wafer surface.例文帳に追加

これにより、熱処理を伴わない薄膜化ストップ層の除去が可能で、このストップ層の除去作業が容易化して基板の生産効率が高まり、熱処理による欠陥が発生せず、ウェーハ面内での研磨量均一性を保持してのストップ層の研磨が可能となる。 - 特許庁

To solve the following problem: when a magnetic recording medium is brought into uniform contact with a hot roll surface over a predetermined distance for heat treatment, a wrinkle and cupping are caused by rapid temperature change, since the magnetic recording medium is exposed to a room temperature after the heat treatment in the hot roll.例文帳に追加

磁気記録媒体をホットロール面に所定の距離にわたって均一に接触させて熱処理する場合において、ホットロールにおける熱処理が終了した後、磁気記録媒体は、常温にさらされるため、急激な温度変化によって、さらにしわが発生し、カッピングが生じる。 - 特許庁

As the filling material 78 is supported by the support 79, even when a process accompanied with heat treatment is performed after the oscillating board 48 is formed, shrinking deformation by the heat treatment as well as other deformation is hardly generated, and the smoothness and flatness of the surface of a silicon substrate 70 can be furthermore held.例文帳に追加

充填材７８は、支柱７９によって、支持されるので、振動板４８の形成後に熱処理を伴う工程が行われた場合であっても、その熱処理による縮み変形を起こしにくく、また、その他の変形を起こしにくくなり、シリコン基板７０の表面の平滑性や平坦性をより保てる。 - 特許庁

A stage B resin composition sheet having a heat resistant film substrate in it is used, which is obtained by making a thermosetting resin composition at least 180°C in glass transition temperature after curing adhere to the heat resistant film substrate subjected to surface treatment by plasma treatment.例文帳に追加

プラズマ処理により表面処理が施された耐熱フィルム基材に、硬化後のガラス転移温度が180℃以上である熱硬化性樹脂組成物を付着して得られる耐熱フィルム基材入りＢステージ樹脂組成物シートを使用する。 - 特許庁

To provide a rust-proof and corrosion-proof surface treatment method for an aluminum based metallic heat exchanger in which rust-proof and corrosion-proof effect for an aluminum based metal is enhanced at a low cost and rust-proof and corrosion-proof treatment can be performed uniformly even for a heat exchanger of intricate shape without impeding thermal conductivity.例文帳に追加

コストが低く、アルミニウム系金属に対する防錆・防食効果が高く、熱伝導性をできるだけ阻害しない、複雑な形状のものであっても均一な防錆・防食処理ができるアルミニウム系金属製熱交換器の防錆・防食表面処理法の提供。 - 特許庁

In the heat treatment apparatus 1, the light from the light irradiation unit 5 is measured by the calorimeter 24, so that the light irradiation energy in the chamber body 6 irradiated from the light irradiation unit 5 upon heat treatment can be measured to obtain the surface temperature of the substrate 9 by the computing unit 25.例文帳に追加

熱処理装置１では、光照射部５からの光がカロリーメータ２４によって計測されることにより、熱処理時に光照射部５から照射される光のチャンバ本体６の内部におけるエネルギーを計測することができ、演算部２５により基板９の表面温度が求められる。 - 特許庁

This method for manufacturing the optical substrate for display element consists of subjecting the surface having the transparent conductive film formed of the substrate with the transparent conductive film to irradiation with electron beams, or the irradiation with the electron beams and heat treatment, or the irradiation with the electron beams, the heat treatment and photoirradiation, or the irradiation with the electron beams and the photoirradiation.例文帳に追加

透明導電膜付き基板の透明導電膜形成面に、電子線照射、または電子線照射及び熱処理、または電子線照射及び熱処理及び光照射、または電子線照射及び光照射することを特徴とする表示素子用光学基板の製造方法。 - 特許庁

To provide heat treatment device for a semiconductor wafer, which is capable of applying predetermined heat treatment on all semiconductor wafers under a condition that the uniformity in the surface of the semiconductor wafer and uniformity among semiconductor wafers are high, in a device constituted so as to be capable of treating integrally a plurality of semiconductor wafers.例文帳に追加

複数の半導体ウエハを一括して処理可能に構成されたものにおいて、すべての半導体ウエハについて、所定の熱処理を、半導体ウエハの面内での均一性、および、半導体ウエハ間での均一性が高い状態で、行うことのできる半導体ウエハ加熱処理装置を提供すること。 - 特許庁

After forming a film composed of a rare earth metal fluoride or alkali earth metal fluoride on a surface of an iron powder or an alloy powder with iron as a main composition, preparatory heat treatment is carried out before compression forming, then, compression forming and straightening heat treatment are performed to manufacture the dust core.例文帳に追加

鉄粉末または鉄を主成分とする合金粉末の表面に希土類金属フッ化物またはアルカリ土類金属フッ化物よりなる皮膜を形成したのち、圧縮成形を行う前に予備熱処理を行い、その後、圧縮成形と歪取り熱処理を行って圧粉磁心を製造する。 - 特許庁

To provide a polyester film suppressing deposition of an oligomer and generation of crystallized white powder on the film surface even when a sterilization treatment by a dry heat or a wet heat treatment is carried out during use as a packaging material and having an excellent appearance and designability as the packaging material.例文帳に追加

包装材料として用いる場合に、乾熱や湿熱処理による殺菌処理を行ってもフィルム表面へのオリゴマーの析出、結晶化した白粉の発生を抑制し、包装材料としての外観、意匠性に優れるポリエステルフィルムを提供することを課題とする。 - 特許庁

A silicon substrate for epitaxial growth is subjected to RTA (rapid heating-rapid cooling heat treatment) at 1,200 to 1,350°C for 1 to 120 s and further subjected to heat treatment at 900 to 1,050°C for 2 to 20 h, and thereafter an epitaxial layer is formed on the surface of the silicon wafer mentioned above.例文帳に追加

エピタキシャル成長用のシリコン基板に対し、１２００℃〜１３５０℃の温度で１〜１２０秒のＲＴＡ（急速加熱・急速冷却熱処理）を行い、さらに９００℃〜１０５０℃の温度で２〜２０時間の熱処理を行った後、前記シリコンウェーハの表面にエピタキシャル層を形成するようにした。 - 特許庁

A high-temperature oxidation heat treatment is carried out while a first mask 40 is formed at the surface of a thin oxide film 20, the first mask 40 is removed while a thick oxide film is formed in an area where the thin oxide film 20 is not present, and a second heat treatment is carried out again in an oxide atmosphere.例文帳に追加

薄い酸化膜２０の表面部分に第一のマスク４０を形成した状態で高温酸化熱処理を加え、薄い酸化膜２０のない領域に厚い酸化膜を形成した状態で第一のマスク４０を除去し、再度酸素雰囲気中で第二の熱処理を行う。 - 特許庁

The bobbin 1 for plastic optical fiber heat treatment is a bobbin for plastic optical fiber heat treatment and characterized by having a cylindrical body portion 2 and arranging a foamed sheet containing of polyolefin resin of 0.01 to 0.2 g/cm^3 in apparent density on the outer peripheral surface of the body portion.例文帳に追加

本発明のプラスチック光ファイバ熱処理用ボビン１は、プラスチック光ファイバ熱処理用ボビンであって、円筒状の胴部２を備え、胴部外周面に、見かけ密度０．０１〜０．２ｇ/ｃｍ^3のポリオレフィン樹脂を含む発泡シート６が配置されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a heat exchanger capable of unifying the chemical without dispersion by excluding the residual liquid on a lower face while securing the attachment of the chemical on an upper face, lowering the concentration of the chemical and remarkably reducing the cost in a hydrophilic treatment of a heat exchanger.例文帳に追加

熱交換器の親水性処理において、薬液の上面付着量を確保しつつ、下面の残留液を排除することでバラツキを無くし均一化し、薬液の濃度を下げることが可能となり、大幅なコストダウンを図れる熱交換器の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal filler which can be subjected to fusion joining in a reflow heat treatment condition of normal lead-free solder, is excellent in heat resistance after the fusion joining, and gives excellent joining strength at room temperature, even when an organic film treatment in the Cu surface of a substrate is performed.例文帳に追加

基板のＣｕ表面に有機皮膜処理がなされている場合であっても、通常の鉛フリーはんだのリフロー熱処理条件で溶融接合でき、接合後は耐熱性に優れ、かつ室温で良好な接合強度を与える金属フィラーを提供する。 - 特許庁

In a scratch test, crackings are not caused from scratched marks 210, 212 with respect to a test piece 200 of the Ni-P-B plating layer free from heat treatment, but the crackings 220, 222 are caused in a state of being extended from the scratched marks 214, 216 on a surface of a test piece 202 on which heat treatment is performed.例文帳に追加

スクラッチ試験で、Ｎｉ−Ｐ−Ｂメッキ層に熱処理を施さないテストピース２００には、表面の掻き疵２１０，２１２からクラックは発生しなかったが、熱処理を施したテストピース２０２には、表面に掻き疵２１４，２１６から延び出す状態でクラック２２０，２２２が発生した。 - 特許庁

The method of manufacturing the ultraviolet sensor comprises the steps of: producing an gallium oxide single crystal substrate (S1); forming an ohmic electrode on a rear face of the gallium oxide single crystal substrate (S2); performing heat treatment (S3); furthermore forming a Schottky electrode on a front surface of the gallium oxide single crystal substrate (S4); and performing heat treatment (S6).例文帳に追加

酸化ガリウム単結晶基板を作製し（Ｓ１）、酸化ガリウム単結晶基板の裏面上にオーミック電極を形成した後（Ｓ２）、熱処理を施し（Ｓ３）、さらに、酸化ガリウム単結晶基板の表面上にショットキー電極を形成して（Ｓ４）、熱処理を施す（Ｓ６）。 - 特許庁

To manufacture an SOI (silicon on insulator) wafer excellent in the uniformity of a film thickness of an embedded oxide film by controlling deterioration in the surface distribution of the embedded oxide film caused by unevenness such as a heat treatment temperature or the like when heat treatment reducing the thickness of the embedded oxide film is conducted within a predetermined range.例文帳に追加

埋め込み酸化膜の厚さを減ずる熱処理を行った際に熱処理温度等の不均一性が原因となって発生する埋め込み酸化膜の面内分布の悪化を所定の範囲内に制御し、埋め込み酸化膜の膜厚均一性に優れたＳＯＩウェーハを製造することを目的とする。 - 特許庁

A light projecting section 26 for projecting temperature measuring laser light in parallel with the surface of a substrate W in a heat treatment furnace 10 and closely thereto is disposed on the periphery of the heat treatment furnace 10 and a light receiving section 28 is disposed oppositely thereto.例文帳に追加

熱処理炉１０の周辺部に、熱処理炉１０内の基板Ｗの表面に接近して基板表面と平行に測温用レーザ光を投射する投光部２６を配設し、投光部２６と対向するように受光部２８を配設する。 - 特許庁

To provide such a technology that can apply flash irradiation in a state where the temperature gradient of substrate surface is relieved, in a heat treatment apparatus and a heat treatment method by which an air current is formed around the substrate and assist heating and flash irradiation are applied to the substrate.例文帳に追加

基板の周辺に気流を形成しつつ、当該基板に対してアシスト加熱および閃光照射を行う熱処理装置または熱処理方法において、基板表面の温度勾配を緩和した状態で閃光照射を行うことができる技術を提供する。 - 特許庁

Next, the photosensitive resin film 21 subjected to pattern exposure is subjected to a heat treatment to diffuse the unreacted photocrosslinkable monomer, thereby forming a photosensitive resin layer 22 containing the unreacted photocrosslinkable monomer and having a rugged surface 2c (a heat treatment process (c)).例文帳に追加

次に、パターン露光が施された感光性樹脂膜２１に熱処理を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを拡散させ、未反応の光架橋性モノマーを含有し凹凸面２ｃを有する感光性樹脂層２２を形成する（熱処理工程(ｃ)）。 - 特許庁

Supporting members 11 for supporting the substrate W, and a first sealing member 15 for sealing the side of a first space ms1 to be formed between the substrate W to be supported and the heat treatment plate 1, are provided on the top surface of the heat treatment plate 1.例文帳に追加

熱処理プレート１の上面には、基板Ｗを支持する支持部材１１と、支持される基板Ｗと熱処理プレート１との間に形成される第１空間ｍｓ１の側方を閉塞する第１シール部１５が設けられている。 - 特許庁

The method for manufacturing pencil leads by kneading at least an organic binder and a filler to be used as the major materials, extruding the kneaded product into a small-gage wire, and then subjecting the small-gage wire to heat treatment up to the firing temperature comprises attaching an organic powder on the surface of the small-gage wire before the above heat treatment.例文帳に追加

少なくとも有機結合材と体質材とを主材として使用し、混練、細線状に押出成形後、焼成温度まで熱処理を施してなる鉛筆芯の製造方法において、前記熱処理前の細線状物表面に有機粉体を付着させておくことを特徴とする鉛筆芯の製造方法。 - 特許庁

A surface of the heat exchanger on which flux brazing is performed by a Nocolok brazing method, is treated with a lithium treatment liquid of less than pH 7 including lithium, and then zirconium chemical conversion treatment is performed with a zirconium chemical conversion treatment liquid of pH 3-5 including zirconium.例文帳に追加

ノコロックろう付け法によりフラックスろう付けした熱交換器を、リチウムを含有するｐＨ７未満のリチウム処理液で表面処理した後、ジルコニウムを含有するｐＨ３〜５のジルコニウム化成処理液でジルコニウム化成処理する熱交換器の防錆処理方法である。 - 特許庁

A surface of the heat exchanger on which flux brazing is performed by a Nocolok brazing method, is treated with a lithium treatment liquid of pH 7 or more including lithium, and then zirconium chemical conversion treatment is performed with a zirconium chemical conversion treatment liquid of pH 3-5 including zirconium.例文帳に追加

ノコロックろう付け法によりフラックスろう付けした熱交換器を、リチウムを含有するｐＨ７以上のリチウム処理液で表面処理した後、ジルコニウムを含有するｐＨ３〜５のジルコニウム化成処理液でジルコニウム化成処理する熱交換器の防錆処理方法である。 - 特許庁

To provide an electrolytic treatment method by which uniform electrolytic treatment in a substrate surface is achieved by keeping the temperature of an electrolytic solution at a predetermined value, even when a high-resistance porous body is used, this porous body generates heat in accordance with the progress of electrolytic treatment such as electroplating, and the temperature of the electrolytic solution rises.例文帳に追加

たとえ高抵抗の多孔質体を使用することで、電解めっき等の電解処理に伴って、多孔質体が発熱して電解液が上昇したとしても、電解液の液温を所定の値に維持することで、基板面内に均一な電解処理方法を提供する。 - 特許庁

To perform treatment with high uniformity in a plane and between substrates when heat treatment, such as film deposition, to the substrates in a reaction tube is performed by reducing pressure and then supplying treatment gas into the vertical reaction tube having an upper end surface curved outward.例文帳に追加

減圧した後、上端面が外側に湾曲している縦型の反応管内に処理ガスを供給して、反応管内の基板に対して例えば成膜処理などの熱処理を行うにあたり、面内及び基板間において均一性高く処理を行うこと。 - 特許庁

To provide a device for easily eliminating the reaction product of treatment gas adhering to the inner wall surface of the outlet of a heat-treating device, that performing the film formation treatment of a body to be treated with alcoxysilane as the treatment gas.例文帳に追加

アルコキシシランを処理ガスとして用い、被処理体の成膜処理を行う熱処理装置において、当該熱処理装置の排気ポート内壁面に付着する処理ガスの反応生成物を、ＨＦガスにより容易に除去できる装置を提供すること。 - 特許庁