「hexafluoride」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In a first plasma etching process, just etching is carried out by a mixed gas of sulfur hexafluoride, chlorine, and methane bifluoride.例文帳に追加

第１プラズマエッチング工程では、六フッ素化硫黄と塩素と二フッ化メタンの混合ガスを用いてジャストエッチングを行なう。 - 特許庁

Tungsten hexafluoride gas and monosilane gas are first introduced in a vacuum chamber where the substrate is housed for a predetermined time.例文帳に追加

まず、基板が収容された真空チャンバ内に、六フッ化タングステンガスおよびモノシランガスをある時間にわたって導入する。 - 特許庁

EPOXY RESIN COMPOSITION FOR SULFUR HEXAFLUORIDE GAS INSULATED SWITCHING DEVICE, COATING AGENT AND GAS INSULATED SWITCHING DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

ＳＦ６ガス絶縁開閉装置用エポキシ樹脂組成物、コーティング剤およびこれを用いてなるガス絶縁開閉装置 - 特許庁

Mixed gas of oxygen containing hexafluoride propene of 15-25% is introduced into the chamber so that it may be made to plasma within the chamber.例文帳に追加

六フッ化プロペンを１５〜２５％含む酸素との混合ガスをチャンバー内に導入し、該チャンバー内でプラズマ化させる。 - 特許庁

The fine sphere comprising sulfur hexafluoride or the low molecular weight fluorinated hydrocarbon encapsulated in the protein shell is produced.例文帳に追加

プロテインシェル中にカプセル封入された６フッ化イオウまたはフッ素化された低分子炭化水素からなる微小球体を製造することによる。 - 特許庁

To provide a sulfur hexafluoride gas-recovering and regenerating apparatus capable of reliably recovering SF6 gas with high purity at high efficiency.例文帳に追加

純度の高いＳＦ_6ガスを効率良く確実に回収できる六弗化硫黄ガス回収再生装置を得る。 - 特許庁

The inlet hood 3 is provided with an inlet side supply pipe 5 for supplying gaseous uranium hexafluoride and water vapor into the kiln body 2.例文帳に追加

入口フード３には、気体状の六フッ化ウランおよび水蒸気をキルン本体２内に供給する入口側供給管５が設けられている。 - 特許庁

Hence, argon in the argon gas is combined with sulfur in the sulfur hexafluoride gas and thus sulfur is discharged outside the apparatus through the vacuum passage 6.例文帳に追加

すると、アルゴンガスのアルゴンが六フッ化イオウガス中のイオウと合体して、このイオウは真空通路６を介して装置外部へ排出される。 - 特許庁

An opening-closing valve 23 is opened and then a sulfur hexafluoride gas is supplied between an upper electrode 2 and the lower electrode 3 for plasmatization.例文帳に追加

また、開閉バルブ２３を開いて、上部電極２と下部電極３との間に六フッ化イオウガスを供給してプラズマ化する。 - 特許庁

To provide an industrially suitable cracking method capable of cracking sulfur hexafluoride under mild condition in a safe manner.例文帳に追加

本発明の課題は、温和な条件下、安全な方法で六フッ化硫黄を分解できる、工業的に好適な分解方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an arc-extinguishing apparatus for electric power switches having an arc-extinguishing performance without using a sulfur hexafluoride, and excellent in flame retardancy, tracking resistance and durability.例文帳に追加

６フッ化硫黄を用いずに消弧性能を有し、かつ難燃性、耐トラッキング性、耐久性に優れる電力開閉器用消弧体を提供する。 - 特許庁

Mixed gas of plutonium hexafluoride and uranium hexafluoride is generated (process 7), the mixed gas is reacted with water vapor to generate a mixture granule of uranium oxide and plutonium oxide (process 8) and fuel for the reactor is manufactured by using the granule (process 9).例文帳に追加

六フッ化プルトニウムと六フッ化ウランとの混合ガスを生成し（工程７）、その混合ガスを水蒸気と反応させてウラン酸化物及びプルトニウム酸化物の混合物顆粒を生成し（工程８）、この顆粒を用いて原子炉用燃料を製造する（工程９）。 - 特許庁

In a process of forming a plurality of trenches in a semiconductor substrate, an etching gas containing oxygen and at least sulfur hexafluoride is used, where a flow rate of the oxygen is set at approximately 0.8 times or more and 2.0 times or less than a flow rate of the sulfur hexafluoride, or preferably nearly equal flow rate.例文帳に追加

複数のトレンチを半導体基板に形成する工程において、少なくとも六フッ化硫黄、及び、酸素を含むエッチングガスを用い、酸素の流量を六フッ化硫黄の流量の略０．８倍以上２．０倍以下とし、好ましくは略等しい流量とする。 - 特許庁

At the time of refining the tangsten hexafluoride containing at least an arsenic or an arsenic containing compound as an impurity by cooling deaeration or distillation, a fluoride gas is brought into contact with the tangsten hexafluoride, which is refined after making the impurity turn into arsenic pentafluoride and separating the impurity.例文帳に追加

少なくとも砒素あるいは砒素含有化合物を不純物として含む六フッ化タングステンを冷却脱気または蒸留で精製するに際し、該六フッ化タングステンとフッ素ガスと接触させ、該不純物を五フッ化砒素とした後、分離精製する。 - 特許庁

In addition, as a nonaqueous electrolyte the material is used wherein the lithium phosphate hexafluoride is added to a nonaqueous solvent mixing the ethylene carbonate and diethyl carbonate at a volume ratio of 30 to 70 so that a density of the lithium phosphate hexafluoride may be within a range of 1.5 to 2.0 mol/l.例文帳に追加

さらに、非水電解質として、エチレンカーボネートとジエチルカーボネートとを体積比３０：７０の割合で混合した非水溶媒に六フッ化リン酸リチウムを１．５ｍｏｌ／ｌ〜２．０ｍｏｌ／ｌの濃度になるように添加したものを用いる。 - 特許庁

Tungsten hexafluoride containing molybdenum hexafluoride as an impurity is brought into contact with a layer filled with metal or alloy containing at least one metal selected from molybdenum, tungsten, copper, nickel, iron, cobalt, zinc, titanium, aluminum, calcium and magnesium at 0-100°C.例文帳に追加

不純物として六フッ化モリブデンを含有する六フッ化タングステンを、モリブデン、タングステン、銅、ニッケル、鉄、コバルト、亜鉛、チタン、アルミニウム、カルシウム、及びマグネシウムのうち、少なくとも一つを含む金属または合金を充填した層に０〜１００℃の温度で接触させることを特徴とする高純度六フッ化タングステンの精製方法。 - 特許庁

This seal for semiconductor production unit is obtained by vulcanizing, in the presence of a polyol, a composition comprising (A) 100 pts.wt. of a vinylidene fluoride/propylene hexafluoride or/and vinylidene fluoride/ propylene hexafluoride/ethylene tetrafluoride, and (B) 30 to 100 pts.wt. of barium sulfate.例文帳に追加

上記課題は、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン共重合体、または、及び、フッ化ビニリデン−六フッ化プロピレン−四フッ化エチレン共重合体１００重量部に対して、硫酸バリウム３０〜１００重量部を配合してなる組成物をポリオール加硫した半導体製造装置用シールによって解決される。 - 特許庁

The nucleation layer can be deposited by using a first process gas which contains tungsten hexafluoride, silane, molecular hydrogen and argon and has a flow ratio of molecular hydrogen to argon of about 1.5:1 and also a partial pressure of tungsten hexafluoride of 0.5 Torr or below and allowing the first process gas to flow into the substrate processing chamber.例文帳に追加

核生成層は、六フッ化タングステン、シラン、分子水素およびアルゴンを含みアルゴンに対する分子水素の流量比が約１．５：１であり、また六フッ化タングステンの分圧が０．５トルに等しいかまったはそれ以下である第１の処理ガスを、前記基板処理チャンバ中へ流すことによって堆積される。 - 特許庁

Alternatively, the waste 1 is heated to a temperature range of 300°C-600°C by the heater 11 after the inside of the reactor 6 is brought into an atmosphere of inert gas 13 to decompose a complex of the uranium hexafluoride 3 and an alkali element or alkaline earth element, and the uranium hexafluoride 3 is selectively recovered using the adsorption recovery tower 4 or the deposit recovery tower 5.例文帳に追加

また、反応容器６内を不活性ガス１３雰囲気にしたうえ、廃棄物１をヒータ１１で、３００℃〜６００℃の温度範囲に加熱し、六フッ化ウラン３とアルカリ元素あるいはアルカリ土類の錯体を分解して、六フッ化ウラン３を吸着回収塔４及び析出回収塔５を用いて選択的に回収する。 - 特許庁

This method for treating exhaust gas, namely, bringing exhaust gas containing sulfur hexafluoride gas into contact with a treating agent to remove the sulfur hexafluoride gas from the exhaust gas comprises a preceding step to use catalyst-containing silicon oxide as the treating agent and produce silicon fluoride gas and sulfur oxide gas and a succeeding step to treat the gases produced at the preceding step by an alkali chemical-packed cylinder or a wet scrubber.例文帳に追加

六フッ化硫黄ガスを含む排ガスと処理剤とを接触させて当該排ガスから六フッ化硫黄ガスを除去する排ガスの処理方法において、前段で処理剤として触媒を含有した酸化珪素を用い、フッ化珪素ガスおよび酸化硫黄ガスを生成させ、後段で該生成ガスをアルカリ薬剤充填筒または湿式スクラバーで処理する。 - 特許庁

The waste 1 is heated to a temperature range of an ambient temperature to a temperature less than 300°C by a heater 11 after an inside of a reactor 6 is brought into an atmosphere of hydrogen fluoride gas 12 to generate uranium hexafluoride 3 from the uranium in the waste and the hydrogen fluoride gas 12, and the uranium hexafluoride 3 is selectively recovered using an adsorption recovery tower 4 or a deposit recovery tower 5.例文帳に追加

反応容器６内をフッ素化ガス１２雰囲気にしたうえ、廃棄物１をヒータ１１で常温〜３００℃未満の温度範囲に加熱し、廃棄物１中のウラン及びフッ素化ガス１２から六フッ化ウラン３を生成させて、六フッ化ウラン３を吸着回収塔４及び析出回収塔５を用いて選択的に回収する。 - 特許庁

To provide a method of charging a low temperature liquefied gas capable of charging a low temperature liquefied gas which is to be made highly pure, such as nitrogen tetrafluoride, nitrogen, oxygen, argon, sulfur hexafluoride, anhydrous hydrogen chloride, anhydrous hydrogen bromide, carbon tetrafluoride and ethane hexafluoride by a simple process in which the liquefied gas does not deteriorate and small energy is consumed.例文帳に追加

高純度が要求される三フッ化窒素、窒素、酸素、アルゴン、六フッ化硫黄、無水塩酸、無水臭化水素、四フッ化炭素及び六フッ化エタンなどの低温の液化ガスを、変質を起こすことなく、少ないエネルギーを用いて簡単な工程によって高圧ガス容器への充填可能な、低温液化ガスの充填方法の提供。 - 特許庁

(x)-2 Equipment for the production of uranium trioxide, uranium hexafluoride, uranium dioxide, uranium tetrafluoride, metallic uranium or uranium tetrachloride, falling under any of the following, or auxiliaries or components thereof 例文帳に追加

十の二　三酸化ウラン、六ふっ化ウラン、二酸化ウラン、四ふっ化ウラン、金属ウラン若しくは四塩化ウランの製造用の装置であって、次のいずれかに該当するもの若しくはその附属装置又はこれらの部分品 - 日本法令外国語訳データベースシステム

(d) Mass spectrometers possessing an ion source that ionizes by bombarding the materials under analysis with electrons, having an ionization chamber comprised of, lined or coated with materials corrosion-resistant against uranium hexafluoride 例文帳に追加

ニ　分析される物質に電子を衝突させてイオン化するイオン源を有するものであって、イオン化室が六ふっ化ウランに対して耐食性のある材料で構成され、裏打ちされ、又は被覆されたもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

Next, the shading film 15 on the photodiode is removed by reactive ion etching containing sulfur hexafluoride and chlorine but not containing oxygen.例文帳に追加

次に、フォトダイオード上の遮光膜１５を六弗化硫黄と塩素とを含み酸素を含まないエッチングガスを用いた反応性イオンエッチングにより除去する。 - 特許庁

The phosphate chemical conversion treatment solution of 2.5 to 3.5 pH containing phosphoric ions, chloric ions, nitric ions and bromic ions, and further containing zirconium hexafluoride ions of 200 to 800 ppm is prepared.例文帳に追加

リン酸イオン、塩素酸イオン、硝酸イオンおよび臭素酸イオンを含むｐＨ２．５〜３．５のリン酸塩化成処理液であって、さらに、６フッ化ジルコニウムイオンを２００〜８００ｐｐｍ含有するリン酸塩化成処理液を調製する。 - 特許庁

The nonaqueous electrolyte is prepared by dissolving LiPF_6 of 1 mol/liter and manganese phosphate hexafluoride into a mixture solvent of EC, DMC, and DEC.例文帳に追加

非水電解液は、ＥＣ、ＤＭＣ、ＤＥＣの混合溶媒中へ１モル／リットルのＬｉＰＦ_６及び６フッ化リン酸マンガンを溶解させて調製した。 - 特許庁

A nonaqueous electrolyte 5 uses a material with sodium phosphate hexafluoride as an electrolyte salt added to a nonaqueous mixture solvent containing ethylene carbonate and diethyl carbonate substances.例文帳に追加

また、非水電解質５としては、エチレンカーボネートとジエチルカーボネートとを混合した非水溶媒に、電解質塩としての六フッ化リン酸ナトリウムを添加したものを用いる。 - 特許庁

A nonaqueous electrolyte uses a material with potassium phosphate hexafluoride as an electrolyte salt added to a nonaqueous mixture solvent containing ethylene carbonate and diethyl carbonate substances.例文帳に追加

また、非水電解質としては、エチレンカーボネートとジエチルカーボネートとを混合した非水溶媒に、電解質塩としての六フッ化リン酸カリウムを添加したものを用いる。 - 特許庁

A combustion preventive gas such as sulfur hexafluoride and sulfur dioxide is fed to the surface of the molten metal of a calcium-containing magnesium alloy held in a prescribed holding furnace.例文帳に追加

所定の保持炉内で保持される、カルシウムを含有するマグネシウム合金の溶湯の表面に、六フッ化硫黄、二酸化硫黄などの防燃ガスを供給する。 - 特許庁

For the non-aqueous electrolyte, 1 mol/liter of lithium phosphate hexafluoride is dissolved into a mixed solvent wherein ethylene carbonate (EC), dimethyl carbonate (DMC), and diethyl carbonate (DEC) are mixed at a prescribed volume ratio.例文帳に追加

非水電解液には、炭酸エチレン（ＥＣ）、炭酸ジメチル（ＤＭＣ）及び炭酸ジエチル（ＤＥＣ）を所定の体積比で混合した混合溶媒中へ６フッ化リン酸リチウムを１モル／リットル溶解したものを用いた。 - 特許庁

In addition, a nonaqueous electrolyte uses a material with sodium phosphate hexafluoride as an electrolyte salt added to a nonaqueous mixture solvent consisting of ethylene carbonate and diethyl carbonate substances.例文帳に追加

さらに、非水電解質としては、エチレンカーボネートとジエチルカーボネートとを混合した非水溶媒に、電解質塩としての六フッ化リン酸ナトリウムを添加したものを用いる。 - 特許庁

The flattening process by plasma etching used in this method is preferably carried out by downstream plasma etching, and the gas used is preferably a gas containing sulfur hexafluoride and hydrogen gas.例文帳に追加

ここにおいて用いられるプラズマエッチングによる平坦化工程は、ダウンストリームプラズマエッチングであることが好ましく、また、使用されるガスとしては六弗化硫黄と水素ガスを含むものが好ましい。 - 特許庁

After the W(CO)6 precursor is thermally decomposed, an additional layer of tungsten can be optionally formed thereon from the thermal decomposition of tungsten hexafluoride (WF6).例文帳に追加

Ｗ（ＣＯ）_6の先駆物質が熱分解された後、タングステンヘキサフルオライド（ＷＦ_6）の熱分解からタングステンの追加の層をその上に任意に形成することができる。 - 特許庁

Thereafter, the plasma is extinguished and tungsten hexafluoride gas is introduced in addition to the ammonia gas to grow a nitirde tungsten thin film 24 on the surface of the substrate.例文帳に追加

この後プラズマを消滅させ、アンモニアガスに加えて六フッ化タングステンガスを導入し基板表面に窒化タングステン薄膜２４を成長する。 - 特許庁

To provide a waveguide type irreversible element which can be used in a waveguide circuit transmitting high power without using sulfur hexafluoride gas (SF_6).例文帳に追加

六フッ化硫黄ガス（ＳＦ_６）を使用することなく、大電力を伝送する導波管回路に用いることができる導波管型非可逆素子を提供する。 - 特許庁

The bulk deposit layer can be deposited in such a way that it covers the above nucleation layer by allowing a second process gas containing tungsten hexafluoride and reductant to flow into the substrate processing chamber.例文帳に追加

バルク堆積層はその後、六フッ化タングステンおよび還元剤を含む第２の処理ガスを基板処理チャンバ内へ流すことによって、核生成層を覆って堆積される。 - 特許庁

The coating 22C contains hexafluoride di-lithium zirconate, and is formed by a dipping treatment or a coating treatment using solution containing the same.例文帳に追加

この被膜２２Ｃは、六フッ化ジルコニウム酸二リチウムを含んでおり、それを含む溶液を用いた浸積処理あるいは塗布処理などにより形成されたものである。 - 特許庁

For the nonaqueous electrolyte, lithium phosphate hexafluoride as the electrolyte, is dissolved in an organic solvent containing diethylcarbonate of which, volume ratio is more than 25%.例文帳に追加

非水電解液はジエチルカーボネートを体積比で２５％以上とした有機溶媒に６フッ化リン酸リチウムが電解質として溶解されている。 - 特許庁

In a second etching process, a mixed gas of the sulfur hexafluoride, chlorine, and methane bifluoride is used, and at the same time, overetching is conducted by low substrate bias power.例文帳に追加

第２プラズマエッチング工程では、六フッ素化硫黄と塩素と二フッ化メタンの混合ガスを用い、かつ、低い基板バイアス電力によりオーバーエッチングを行なう。 - 特許庁

Furthermore, the heating temperature is preferably lower than the eutectic temperature of the magnesium alloy and the powder metal, in order to efficiently accelerate the solid diffusion, and sulfur hexafluoride gas is preferably used for the atmospheric gas in heating.例文帳に追加

さらに、固体拡散を効率的に促進するために、加熱温度はマグネシウム合金と粉末金属との共晶温度未満の温度であることが好ましく、加熱時の雰囲気ガスは、六弗化硫黄ガスを使用することが望ましい。 - 特許庁

The inlet side supply pipe 5 has a double pipe structure having an inner pipe for supplying the uranium hexafluoride and an outer pipe for supplying the water vapor, and the water vapor is supplied as spiral flow into the kiln body 2.例文帳に追加

入口側供給管５は、六フッ化ウランを供給する内管と水蒸気を供給する外管との二重管構造であり、水蒸気は、旋回流としてキルン本体２内に供給される。 - 特許庁

Or the recovering equipment has a gas compressor 18 for compressing the gaseous mixture composed of the gaseous sulfur hexafluoride and the incompressible gas, a buffer tank 26 or reservoir tank 27 for housing the compressed gaseous mixture and the gas separator 14.例文帳に追加

あるいは六弗化硫黄ガスと非凝縮性ガスとの混合ガスを圧縮するガス圧縮機１８、圧縮された混合ガスを収容するバッファタンク２６またはリザーバタンク２７、およびガス分離装置１４を備えた回収装置。 - 特許庁

In a third plasma etching process, a mixed gas of the sulfur hexafluoride and chlorine is used, and at the same time, the substrate bias power is set to 0 W for conducting overetching.例文帳に追加

第３プラズマエッチング工程では、六フッ素化硫黄と塩素の混合ガスを用い、かつ、基板バイアス電力を０ｗとして、オーバーエッチングを行なう。 - 特許庁

To provide a method for producing a commercially suitable fluorinated organic compound, which produces a fluorinated organic compound by using sulfur hexafluoride stable in the air under a mild condition by a safe method.例文帳に追加

本発明の課題は、和な条件下、大気中で安定な六フッ化硫黄を使用して、安全な方法でフッ素化有機化合物を製造できる、工業的に好適なフッ素化有機化合物の製造方法を提供することにある。 - 特許庁