| 例文 |
interface developmentの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 125件
The interface is operated to guarantee that the components are properly developed, and properly operated by using a package assembly and the dependence decided as a portion of development.例文帳に追加
パッケージアセンブリおよび展開の一部として判定された依存関係を使用してインタフェースはコンポーネントが適切に展開され、適切に動作することを保証する。 - 特許庁
A command group of an imaging camera 1 is defined in an XML (Extensible Markup Language) used for a standard interface by utilizing an XML parser development tool that is distributed without charge.例文帳に追加
無料で配布されているXMLパーサ開発ツールを用いるなどして、撮像カメラ1の制御コマンド群を、標準インターフェースであるXMLで定義する。 - 特許庁
The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, and an interface block 13.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12およびインターフェースブロック13を備える。 - 特許庁
To provide an application development supporting device and method capable of generating a graphical user interface(GUI) application by freely changing and setting graphic expressions corresponding to equipment.例文帳に追加
機器に対応したグラフィック表現を自在に変更設定してGUIアプリケーションを生成することを可能としたアプリケーション開発支援装置および方法を提供する。 - 特許庁
The substrate treating device is mechanically divided into each processing block of an indexer block 1, a bake block 2, a resist coating block 3, a development processing block 4, an interface block 5, and an inspection block IB.例文帳に追加
基板処理装置は、インデクサブロック1、バークブロック2、レジスト塗布ブロック3、現像処理ブロック4、インターフェイスブロック5、検査ブロックIBに各処理ブロックに機械的に区分される。 - 特許庁
The display device comprises: a detection part which detects the development of the sub liquid crystal and switches the development to large screen display; or an operation button which switches normal display, the large screen display, and two-screen display; and a USB interface which connects a mouth or a keyboard.例文帳に追加
サブ液晶の展開を検出して大画面表示に切り換える検出部、あるいは、サブ液晶が展開された場合に、通常表示、大画面表示、2画面表示を切り換える操作ボタンや、マウスまたはキーボードを接続するUSBインタフェースを設ける。 - 特許庁
Only by changing the pattern of the interface 1200, the capacity of the memory being connected to the logic circuit 3000 can be easily changed, thus reducing the development period of a memory circuit/logic circuit integration system.例文帳に追加
インターフェース1200のパターン変更のみで、ロジック回路3000に接続するメモリの容量を容易に変更可能で、メモリ回路/ロジック回路集積システムの開発期間が短縮される。 - 特許庁
To provide a program producing apparatus, program producing method, program producing program and printer driver for facilitating development of a user interface corresponding to the type of a printer.例文帳に追加
プリンタの機種に対応したユーザインタフェースの開発を簡便化することのできるプログラム生成装置、プログラム生成方法、プログラム生成プログラム及びプリンタドライバの提供を目的とする。 - 特許庁
To inexpensively perform usability evaluation under circumstances close to a real operation in the early stage of development by merging the behavior of UI(user interface) software on the entity model of an appliance casing.例文帳に追加
機器筐体の実体モデルの上にUIソフトウェアの挙動を融合し、開発早期段階に、安価かつ実操作に近い状況下でユーザビリティ評価を行えるようにする。 - 特許庁
This user interface application development program has: a step for reading specification data for application development allowing association between a screen and/or a process, and an object inputting/outputting data; and a step for automatically interpreting the specification data including the association between the screen and/or the process, and the object, and creating the user interface application program.例文帳に追加
ユーザインタフェースアプリケーション開発プログラムにおいて、画面および/または処理とデータを入出力するオブジェクトとの間の関連付けを行うことが可能なアプリケーション開発用仕様書データを読み込むステップと、画面および/または処理とオブジェクトとの間の関連付けを含んで仕様書データを自動的に解釈し、ユーザインタフェースアプリケーションプログラムを生成するステップとを備える。 - 特許庁
To shorten test time of an address processing part in an interface circuit and to reduce a price by reducing the development cost of a semiconductor integrated circuit connecting an independent bus connected to a CPU to a time-division bus not connected to the CPU via the interface circuit.例文帳に追加
CPUに接続されている独立バスと、CPUに接続されていない時分割バスとをインタフェース回路を介して接続してなる半導体集積回路に関し、インタフェース回路のアドレス処理部の試験時間の短縮化と、開発費用の低減化による価格の低減化を図る。 - 特許庁
The inside of an interface station S3 located between a processing station S2, at which a development process is carried out and an exposure system S4 is cooled down to a temperature of 10 to 15°C at which a resolution reaction hardly proceeds, and a heating section 31 promoting a resolution reaction in resist is provided inside the interface station S3.例文帳に追加
現像処理等を行う処理ステ−ションS2と露光装置S4との間のインターフェイスステーションS3内をレジストの解像反応の進行を抑える程度の温度例えば10〜15℃程度に冷却すると共に、ここにレジストの解像反応を促進させる加熱部31を設ける。 - 特許庁
The model automatic generation section is replaced with a model automatic generation section only for by development object system, has an interface which acquires an entry between the model creation section, and performs automatic generation of a new model to the source model by the automatic generation section only for the development object system.例文帳に追加
モデル自動生成部は、開発対象システム別の専用のモデル自動生成部に取り替え、モデル作成部との間でエントリを取得するインタフェースを備え、開発対象システム専用のモデル自動生成部によって元モデルに対して新たなモデルの自動生成を行う。 - 特許庁
The substrate processing equipment 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a drying processing block 13 and an interface block 14.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、乾燥処理ブロック13およびインターフェースブロック14を備える。 - 特許庁
Therefore, it is possible to enable hardware configurations or software control function have generality not by using any exclusive interface, and to improve productivity in the development, update or the like of software or hardware.例文帳に追加
専用インタフェースを使わないので、ハードウェア構成やソフトウェア制御機能に汎用性を持たせることができ、ソフトウェアやハードウェアの開発や更新などの生産性を向上させることができる。 - 特許庁
Since a receiving unit 2 of existing design is employed and only the apparatus body 1 and an interface section (between the apparatus body 1 and the receiving unit 2) are required to be developed, development cost can be reduced.例文帳に追加
受信ユニット2は既設計品を用い、機器本体1とインターフェース部(機器本体1と受信ユニット2とのインターフェース部)のみを開発すればよいため、開発コストを低減することができる。 - 特許庁
The substrate processing apparatus 500 is juxtaposed with an indexer block 10, a treatment block 11 for resist films, a cleaning/drying treatment block 12, a development processing block 13, and an interface block 14 in this order.例文帳に追加
基板処理装置500においては、インデクサブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、洗浄/乾燥処理ブロック12、現像処理ブロック13およびインターフェースブロック14が、この順で並設される。 - 特許庁
The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a cleaning block 13, and an interface block 14.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、洗浄処理ブロック13およびインターフェースブロック14を備える。 - 特許庁
To provide a user interface device, a software part management method, and a software part management program, capable of improving software quality and development efficiency by promoting the efficiency of generation of widgets.例文帳に追加
ウィジェットの生成を効率化させソフトウェア品質を向上させ、かつ開発効率を向上させるユーザインターフェース装置、ソフトウェア部品管理方法、及びソフトウェア部品管理プログラムを提供する。 - 特許庁
The purpose of the X Consortium was to foster the development, evolution, and maintenance of the X Window System, a comprehensive set of vendor-neutral, system-architectureneutral, network-transparent windowing and user interface standards.例文帳に追加
X コンソーシアムの目的は、ベンダ中立、システムアーキテクチャ中立、ネットワーク透過のウィンドウ操作とユーザインタフェース標準の包括的な集合体である X ウィンドウシステムの開発、発展、保全を推進することである。 - XFree86
To provide a control device, a control method and a computer program, by which, in an intermediate layer between an application program and a platform program, an intermediate processing unit is made into two layers, located respectively at an interface side of the application program and an interface side of the platform program, and the processes at the two respective layers are generalized for effective development.例文帳に追加
アプリケーションプログラムとプラットフォームプログラムとの間の中間層にて、アプリケーションプログラムのインタフェース側、及びプラットフォームプログラムのインタフェース側に中間処理部を2層化し、且つ2層夫々における処理を汎用化することで開発を効率化することができる制御装置、制御方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁
The model base development assisting block comprises: a simulation stipulation information holding part having information stipulating input and output signals/information for simulation; and a driver interface part for accessing a library provided with the device driver compatible with a CPU loaded on the controller model 53, to be used for an interface to the device driver compatible with a required CPU in the library.例文帳に追加
シミュレーション時の入出力信号・情報を規定した情報を備えるシミュレーション時規定情報保持部と、前記コントローラモデル53に搭載されるCPU対応のデバイスドライバを備えるライブラリに対してアクセスし、前記ライブラリ内の所要CPUに対応するデバイスドライバへのインタフェースとなるドライバインタフェース部とを具備する。 - 特許庁
This substrate processor is provided with a carrying robot, in charge of the carriage of a substrate, from an indexer ID via the processing part group 20 performing the resist application processing to an interface IF and the carrying robot in charge of the carriage of the substrate, from the interface IF via the processing part group 40 (50) performing the development processing to the indexer ID.例文帳に追加
インデクサIDからレジスト塗布処理を行う処理部群20を経てインターフェイスIFまでの基板の搬送を担当する搬送ロボットと、インターフェイスIFから現像処理を行う処理部群40(50)を経てインデクサIDまでの基板の搬送を担当する搬送ロボットとが設けられている。 - 特許庁
The toner for electrostatic charge image development containing at least a binder resin and a colorant is characterized in that the interface adhesion strength (Fr) between the toner for electrostatic charge image development and polytetrafluoroethylene is 1.0 to 3.5 N and that the inner cohesive force (Ft) of the toner is 10 to 18 N.例文帳に追加
少なくとも結着樹脂と着色剤とを含有する静電荷像現像用トナーにおいて、該静電荷像現像用トナーとポリテトラフルオロエチレンとの界面付着力(Fr)が1.0〜3.5Nであり、且つ静電荷像現像用トナーの内部凝集力(Ft)が10〜18Nであることを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁
A controller development tool is a controller development tool for generating a source code which attains a process expressed by a model, and has interface means for describing the model as a library model 8A combined with blocks capable of generating a source code, and for generating a mounting source file 4 from the library model 8A, an auto source code, etc.例文帳に追加
コントローラ開発ツールは、モデルによって表現される処理を実現するソースコードが生成されるコントローラ開発ツールであって、モデルをソースコード生成可能なブロックを組み合わせたライブラリモデル8Aとして記述し、このライブラリモデル8Aや、オートソースコードなどから実装ソースファイル4を生成するインターフェイス手段を有する。 - 特許庁
The graphical user interface 25 comprises an intensity waveform display part 61 which displays an intensity waveform 62 of reflected light outputted from the surface inspection device, and a development image display part 63 which displays a development image 64 drawn with a gradient corresponding to the intensity waveform 62 in a state corresponding to the intensity waveform 62.例文帳に追加
グラフィカルユーザインタフェース25には、表面検査装置が出力する反射光の強度波形62を表示する強度波形表示部61と、強度波形62に対応する階調で描画された展開画像64を強度波形62と対応させた状態で表示する展開画像表示部63とが設けられている。 - 特許庁
To provide an interface device suitable for use in a clearance between a resist applying development device and an EUV exposure device capable of decreasing contamination in the EUV (extreme ultraviolet) exposure device with improved throughput, and to provide a substrate conveyance method.例文帳に追加
EUV露光装置内の汚染を低減するとともに、スループットの向上を可能とする、レジスト塗布現像装置とEUV露光装置との間に好適なインターフェイス装置及び基板搬送方法を提供する。 - 特許庁
To provide a technology capable of improving a development speed of an information apparatus while relieving a processing load on a microcomputer, the information apparatus including a main processing circuit, an interface circuit, and the microcomputer.例文帳に追加
メイン処理回路、インタフェース回路及びマイクロコンピュータを備える情報機器において、マイクロコンピュータの処理負荷を低減しつつ、装置の開発スピードを向上させることが可能な技術を提供することを目的とする。 - 特許庁
The substrate processing equipment 500 comprises an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a liquid immersion processing block 13, and an interface block 14.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、液浸露光用処理ブロック13およびインターフェースブロック14を備える。 - 特許庁
The substrate processing apparatus 500 includes an indexer block 9, a processing block 10 for reflection prevention films, a processing block 11 for resist films, a development/cleaning/drying block 12, a cleaning/drying block 13, and an interface block 14.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像/洗浄/乾燥処理ブロック12、洗浄/乾燥処理ブロック13およびインターフェースブロック14を含む。 - 特許庁
To provide a method for changing a graphical user interface (GUI) by which a screen can be reconstituded in real time, and the reusability of a development code can be enhanced by separating a function to be provided on the screen from a GUI part.例文帳に追加
画面をリアルタイムで再構成できるようにし、また画面で提供する機能とGUI部分を分離することによって開発コードの再活用性を高めることができるGUIの変更方法を提供する。 - 特許庁
When the wafer W is vibrated at a prescribed resonance mode, an interface between the wafer W and developer trembles and developer is thereby stirred and old and new developer mix with each other, thus improving uniformity of development treatment.例文帳に追加
ウエハWを所定の共振モードで振動させると、ウエハWと現像液との界面が揺れ、これにより現像液が撹拌され、新旧の現像液が混ざり合うので、現像処理の均一性が向上する。 - 特許庁
The printing data from a host computer 200 is inputted to the input part 18 of a printer 100 through an interface 21 and the inputted data is analyzed in a CPU 12 to be subjected to bit map development and the bit map data is printed on paper in a printing part 17.例文帳に追加
ホストコンピュータ200からの印刷データをインターフェース21を介してプリンタ100の入力部18で入力し、CPU12にその入力データを解析し、ビットマップ展開した後、印刷部17にて用紙に印刷する。 - 特許庁
A heating section for heat-treating an exposed substrate is provided in a development processing block 4, thus preventing thermal influence to the projection aligner STP by interposing an interface block 5 between the heating section and the projection aligner STP.例文帳に追加
露光された基板を加熱処理する加熱部を現像処理ブロック4に設けることにより、この加熱部と露光装置STPとの間にインターフェイスブロック5を介在させて、露光装置STPに熱的影響が及ばないようにする。 - 特許庁
Since the management program code can be called based on an interface commonly stipulated for all the files from the program on the OS side, it can be applied to the program on the OS side and on the application program side irrespective of before and after its development.例文帳に追加
管理プログラムコードはOS側プログラムから全てのファイルについて共通に規定されたインタフェースに基づき呼び出し可能であるので、OS側プログラムとアプリケーション・プログラム側とでその開発の前後を問わず、適用可能となる。 - 特許庁
A functional material is brought into contact with the substrate surface cyclic structure 15, thereby, structure color development due to the substrate surface cyclic structure 15 is suppressed and the structure color developed by the void part interface cyclic structure 13 is made readable.例文帳に追加
この基材面周期構造15に機能材を接触させることで、基材面周期構造15による構造色の発現を抑制して、空隙部界面周期構造13により発現する構造色を読み取り可能とする。 - 特許庁
The substrate treating apparatus 500 includes an indexer block 9, a bevel treatment block 10, a treatment block 11 for an antireflection film, a treatment block 12 for a resist film, a development treatment block 13, a treatment block 14 for a resist cover film, and an interface block 15.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、ベベル処理ブロック10、反射防止膜用処理ブロック11、レジスト膜用処理ブロック12、現像処理ブロック13、レジストカバー膜用処理ブロック14およびインターフェースブロック15を含む。 - 特許庁
To advance the assemblage of the software system of a user interface(UI), and to make common screen sub-system and panel sub-system parts with the report preparation of device management information, and to realize the efficiency of the development with a UI peripheral system, and to make the system compact.例文帳に追加
ユーザインターフェース(UI)のソフトウェアシステムの部品化を進展させ、装置管理情報のレポート作成との画面サブシステム、パネルサブシステム部品の共通化を行いUI周辺システムとの開発の効率化及びシステムのコンパクト化を実現する。 - 特許庁
To provide an exchange service development aid system, with which contents of definitions are automatically replaced and generating codes are generated with new specifications by having only to read a service definition result file stored in the old specification, even when an interface is revised.例文帳に追加
インタフェースが変更になった場合においても、旧仕様で保存されたサービス定義結果ファイルを読み込むだけで、定義内容の自動置換、生成コードも新しい仕様で生成可能となる交換サービス開発支援システムを提供することである。 - 特許庁
Since a storage region for measurement remote control and a storage means for the server are controlled by the control means, only data transfer is required when a measurement result is utilized on the web server side, and development of a control software for interface is not required.例文帳に追加
また、測定遠隔制御用の記憶領域とサーバ用の記憶領域は、制御手段により制御されるため、測定結果をウェブ・サーバ側で利用する場合は単なるデータの移動で済み、インターフェース用制御ソフトウェア開発の必要が無い。 - 特許庁
The GED is an object-oriented and cross platform device built in a built-in real-time operating system, can be mounted in various types of information equipment, and has a generic application interface for the future development of an application module.例文帳に追加
GEDは、組込みリアルタイムオペレーティングシステムに組み込んだオブジェクト指向のクロスプラットフォーム装置であり、様々な種類の情報機器に実装が可能であるとともに、将来のアプリケーションモジュール開発のための汎用アプリケーションインターフェイスを有する。 - 特許庁
The substrate processing equipment 300 comprises an indexer block 9, an antireflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and a first interface block 15.例文帳に追加
基板処理装置300は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14および第1のインターフェースブロック15を備える。 - 特許庁
The substrate treating device 500 includes an indexer block 9, a treatment block 10 for reflection prevention films, a treatment block 11 for resist films, a development treatment block 12, a treatment block 13 for resist cover films, a resist cover film removal block 14, and an interface block 15.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14およびインターフェースブロック15を備える。 - 特許庁
When the data file can not be printed out in the device 2 itself, the device 2 sends the data file to the server 4 through the interface 9, allows the server 4 to execute data processing and acquires development data for printing (e.g. a bit map image or a page description language).例文帳に追加
自機内で印刷処理できない場合は、ネットワークインターフェース9を介してサーバ4に当該データファイルを送り、サーバ4にデータ処理を実行させて、印刷用の展開データ(例えば、ビットマップイメージ、或いはページ記述言語)を取得する。 - 特許庁
The substrate-treating device 500 comprises: an indexer block 9; a treatment block 10 for reflection prevention films; a treatment block 11 for resist films; a development treatment block 12; a treatment block 13 for resist cover films; a removal block 14 of resist cover films; and an interface block 15.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14およびインターフェースブロック15を含む。 - 特許庁
The substrate processor 500 includes an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removing block 14, and an interface block 15.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14およびインターフェースブロック15を備える。 - 特許庁
The substrate processing apparatus 500 includes: an indexer block 9, an anti-reflection film processing block 10, a resist film processing block 11, a development processing block 12, a resist cover film processing block 13, a resist cover film removal block 14 and an interface block 15.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14およびインターフェースブロック15を含む。 - 特許庁
A controller development tool is a controller development tool for generating a source code for attaining processing expressed by a model, and has an interface means for describing the model as a library model combined with blocks capable of generating the source code, for generating the source code by scaling management thereof for a controller, and for generating a source file by combination with a plurality of functions.例文帳に追加
本発明のコントローラ開発ツールは、モデルによって表現される処理を実現するソースコードが生成されるコントローラ開発ツールであって、モデルをソースコード生成可能なブロックを組み合わせたライブラリモデルとして記述し、ソースコードをコントローラ用にスケーリング管理して生成し、複数の関数と合わせてソースファイルにするインターフェイス手段を有することを特徴とする。 - 特許庁
This guide refers to related international standards and overseas requirements, and as well it incorporates the Japanese regulatory requirements and the results of design development etc.that reflected latest technical progresses and the operational experiences This guide also defines requirements on functions and designs of the central control room (information display, control and operation equipment, alarm devices etc.) and standardized development and design processes of the human machine interface.例文帳に追加
この指針は、関連する国際規格や海外の基準を参考とし、我が国の規制の動向、最近の技術進歩や運転経験を反映した設計開発の実績等を反映したものであり、中央制御室の機能と設計(情報表示、制御器・操作器、警報装置等)に関する要件並びにヒューマンマシンインタフェースの標準的な開発及び設計過程を定めている。 - 経済産業省
The substrate processor 500 is provided with an indexer block 9, a reflection preventing film processing block 10, a resist film processing block 11, a resist cover film processing block 12, an inspection block 13, a development processing block 14, a resist cover film removing block 15, and an interface block 16.例文帳に追加
基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、レジストカバー膜用処理ブロック12、検査ブロック13、現像処理ブロック14、レジストカバー膜除去ブロック15およびインターフェースブロック16を備える。 - 特許庁
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