| 例文 |
layer patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8592件
Moreover, the electromagnetic wave shielding filter is provided with a base layer and a metal layer of a mesh pattern of a uniform thickness arranged on the base layer.例文帳に追加
さらに、電磁波遮蔽フィルターはベース層と、ベース層上に均等の厚さを持って配置されたメッシュパターンの金属層とを含む。 - 特許庁
The pattern-forming material has a cushion layer and the photosensitive layer on a support, wherein the cushion layer contains a branched polymer.例文帳に追加
支持体上に、クッション層と感光層とを有し、該クッション層が分岐状ポリマーを含むことを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁
By the double pattern formed on the photoresist layer, the carbonaceous mask layer and another optional non-photosensitive intermediate layer are patterned (250).例文帳に追加
フォトレジスト層に形成された二重パターンによって、炭素質マスク層ならびに任意の他の非感光性中間層がパターニングされる(250)。 - 特許庁
A method for manufacturing a display device is characterized in that a layer as a reference for pattern layout is determined among the layers to be formed on a substrate; and a pattern layout in an upper layer than the reference layer is determined by using a value obtained from variance of the pattern layout in the reference layer.例文帳に追加
表示装置の製造方法は、基板上に形成される層のうちパターン配置の基準となる層を定め、基準となる層のパターン配置のばらつきから求められる値を用いて、基準となる層より上層のパターン配置を決定する。 - 特許庁
A cell gate pattern in which a charge storing layer is installed is arranged in the cell region, and a high voltage type gate pattern a low voltage type gate pattern and a resistance pattern are arranged in the peripheral region.例文帳に追加
セル領域に電荷貯蔵層が備えられたセルゲートパターンが配置され、周辺領域に高電圧型ゲートパターン、低電圧型ゲートパターン及び抵抗パターンが配置される。 - 特許庁
The semiconductor element comprises a main pattern formed on a substrate, a first dummy pattern made in the direction parallel to the first main pattern on the layer where the first main pattern is formed.例文帳に追加
基板上に形成された第1メインパターンと、第1メインパターンの形成された層に、第1メインパターンと平行な方向に形成された第1ダミーパターンとを含む半導体素子とした。 - 特許庁
A first pattern fusing part 28 fetches pattern data including the oblique wiring pattern and via cell pattern from the layout data to compose the patterns of every same layer number followed by fusing in different parts.例文帳に追加
第1図形融合部28は、レイアウトデータから斜め配線図形及びビアセル図形を含む図形データを取込んで同一レイヤ番号毎に図形を合成して重なる部分で融合する。 - 特許庁
The width of the coil pattern 2 in a magnetic gap layer 11 having the coil pattern 2 and the nonmagnetic substance 3 is narrower than that of the coil pattern 2 in a magnetic substance 12 having only the coil pattern 2.例文帳に追加
コイルパターン2及び非磁性体3を有する磁気ギャップ層11におけるコイルパターン2の幅が、コイルパターン2のみを有する磁性体層12におけるコイルパターン2の幅よりも狭い。 - 特許庁
The film with hologram pattern is provided with a hologram pattern formed layer 12 on which a rugged hologram pattern is formed, wherein a cover film 15 is fixed on at least a part of the hologram pattern so as to have a gap between the hologram pattern and the cover film.例文帳に追加
凹凸状のホログラムパターンが形成されたホログラムパターン形成層12を備え、ホログラムパターンの少なくとも一部において、ホログラムパターンとの間に空隙を有するようにカバーフィルム15が固定されている。 - 特許庁
To provide a pattern forming material capable of forming a pattern free of disconnection and twist without producing reticulations in a photosensitive layer, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加
感光層にレチキュレーションを発生させることなく、断線やヨレのないパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁
Then a composition for a light shielding layer is applied all over the surface of the pattern forming substrate where the wettable pattern is formed so as to deposit and fix the composition for the light shielding layer on the lyophilic region only to form the light shielding layer pattern.例文帳に追加
そして、前記濡れ性パターンが形成されたパターン形成体用基板表面に、遮光層用組成物を全面に塗布し、親液性領域にのみ遮光層用組成物を付着、固着させて、遮光層パターンを形成する。 - 特許庁
The antenna circuit pattern layer includes a first antenna circuit pattern layer 100 having an electric conductor made principally of aluminum and a second antenna circuit pattern layer 200 having an electric conductor made principally of copper different from aluminum.例文帳に追加
アンテナ回路パターン層は、アルミニウムを主成分とする電気導電体を有する第1のアンテナ回路パターン層100と、アルミニウムと異なる銅を主成分とする電気導電体を有する第2のアンテナ回路パターン層200とを含む。 - 特許庁
A fluorescent pattern forming layer containing a fluorescent dye and a color pigment and an opaque layer for concealing the fluorescent pattern forming layer are formed from the side near to a material to be recorded on which the fluorescent pattern is formed and only the fluorescent dye in the fluorescent pattern forming layer is diffused into the opaque layer or through the opaque layer.例文帳に追加
蛍光絵柄を形成される被記録材に近い側から、蛍光染料と着色顔料とを含有する蛍光絵柄形成層と、該蛍光絵柄形成層を隠蔽する不透明層とを形成し、前記蛍光絵柄形成層の蛍光染料のみを前記不透明層中に、または前記不透明層中を通って拡散させることを特徴とする蛍光絵柄形成方法。 - 特許庁
A color filter having at least a transparent colored pattern layer 3 sectioned into pixels with a black matrix pattern layer 2 on a transparent substrate 1 and a transparent common electrode layer 5 on the transparent colored pattern layer 3 is provided with a photospacer part 4 for cell gap adjustment, formed having a large layer thickness in a projection shape, at a portion of the transparent colored pattern layer 3.例文帳に追加
透明基板1上に少なくともブラックマトリクスパターン層2により画素区分された透明着色パターン層3と、該透明着色パターン層3上に透明な共通電極層5とを備えたカラーフィルタにおいて、前記透明着色パターン層3の一部に、その層厚を突起状に厚く形成したセルギャップ調整用のフォトスペーサ部4が設けられている。 - 特許庁
A method for manufacturing a semiconductor device includes a process of manufacturing a thickened resist pattern by forming a resist pattern on a base layer and then coating the resist pattern surface with the thickening material to thicken the resist pattern and a process of patterning the base layer by etching the base layer by using the thickened resist pattern.例文帳に追加
下地層上にレジストパターンを形成後、該レジストパターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該レジストパターンを厚肉化し厚肉化レジストパターンを製造する工程と、該厚肉化レジストパターンを用いてエッチングすることにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁
To solve the problem that the deformation of a conductor pattern becomes significant due to a stress applied to the conductor pattern at the time of printing insulator paste on an insulator layer on which the conductor pattern is formed, or laminating an insulator sheet upon the layer when the film thickness of the conductor pattern becomes thicker, because the conductor pattern is protruded from the surface of the insulator layer.例文帳に追加
導体パターンが絶縁体層表面から突出しているため、導体パターンの膜厚が厚くなると、この導体パターンが形成された絶縁体層上に、絶縁体ペーストを印刷したり、絶縁体シートを積層する際に加わる応力によって、導体パターンの変形が著しくなる。 - 特許庁
To provide a card having a dual pattern which has a first pattern layer constituted of an ordinary printed pattern and a second pattern layer constituted of minute indentations formed in the surface of a transparent resin layer and has an excellent design property and forgery-preventing effect produced by a combined effect of the first and second pattern layers.例文帳に追加
本発明は、通常の印刷絵柄からなる第1絵柄層と、透明樹脂層の表面に形成された微細凹凸からなる第2絵柄層とを有し、第1絵柄層と第2絵柄層の相乗効果により優れた意匠性と偽造防止効果を備えた2重絵柄を有するカードを提供することである。 - 特許庁
The pattern 4 of the first decorative layer 6 is concealed and the pattern 8 of the second decorative layer 10 is expressed at an angle at which the multi- reflection ink of the second decorative layer 10 reflects light, while the pattern 8 of the second decorative layer 10 is concealed and the pattern 4 of the first decorative layer 6 is expressed at an angle different from the above.例文帳に追加
前記第2の装飾層10の多重反射性インキが光を反射する角度からは前記第1の装飾層6の図柄4が隠蔽され前記第2の装飾層10の図柄8が表出され、そうでない角度からは前記第2の装飾層10の図柄8が隠蔽され前記第1の装飾層6の図柄4が表出される、 - 特許庁
The manufacturing method for a laminated electronic component has a step of laminating an internal electrode pattern layer 12a, which makes an internal electrode layer 12 after calcination, and a margin pattern layer 24, adjusted to a complementary type pattern where the internal electrode pattern layer 12a is not formed, onto a green sheet 10a, which will make a dielectric layer 10 after calcination.例文帳に追加
焼成後に内部電極層12となる内部電極パターン層12aと、その内部電極パターン層12aが形成されていない相補型パターンに合わせた余白パターン層24とを、焼成後に誘電体層10となるグリーンシート10aに対して積層させる工程を有する積層型電子部品の製造方法である。 - 特許庁
A tunnel insulating layer intervenes between the floating-gate pattern and the active regions, and a control-gate pattern is formed on the floating-gate pattern.例文帳に追加
前記浮遊ゲートパターンと前記活性領域との間にトンネル絶縁膜が介在され、制御ゲートパターンが前記浮遊ゲートパターン上に形成されている。 - 特許庁
A resistance element is constituted by connecting the diffused silicide pattern 21, polycide layer pattern 19, the diffused silicide pattern 21,... in series through wiring 26.例文帳に追加
配線26により拡散シリサイド層パターン21、ポリサイド層パターン19、拡散シリサイド層パターン21、……と直列に連結されて抵抗素子が構成されている。 - 特許庁
To provide a fine pattern method for forming a pattern by a photo-lithography technology, and for precisely working lower layer materials by using the pattern as a mask.例文帳に追加
フォトリソグラフィ技術においてパターンを形成し、且つ、それをマスクに用い、下層材料を精度良く加工する微細パターン方法を提供することにある。 - 特許庁
By applying a voltage on the metal pattern of the microheater to heat the metal pattern, the pn junction is formed between the metal pattern and conductive layer.例文帳に追加
マイクロヒーターの金属パターンに電圧を印加して金属パターンを加熱することで、金属パターンと導電層との間にpn接合を形成することができる。 - 特許庁
The conductor pattern precursor is primarily transferred to a conductor pattern holding substrate by feeding the electrical power to the conductor pattern holding substrate 8 where a bonding layer 22 is formed.例文帳に追加
接着層22が形成された導電パターン保持基板8に通電して、導電パターン前駆体を導電パターン保持基板に一次的に転写する。 - 特許庁
When the surface of the color filter layer 14 is polished, the first dummy pattern 18 is not scraped and the stress dispersed to the first dummy pattern can be dispersed to the second dummy pattern 19.例文帳に追加
カラーフィルタ層14の表面を研磨した際に、第1ダミーパターン18が削れず、第1ダミーパターン18に分散させた応力を第2ダミーパターン19に分散できる。 - 特許庁
A first conductive pattern 44 and a second conductive pattern 45 are provided in two layers at positions to form a two-layer pattern 46, thereby attaining high density of electronic parts 61.例文帳に追加
二層パターン部46となる箇所は、第1導体パターン44と第2導体パターン45が二層に設けられており、電子部品61の高密度化を達成できる。 - 特許庁
METALLIC FILM-FORMING METHOD, METALLIC FILM-FORMING SUBSTRATE, METALLIC FILM, METALLIC PATTERN-FORMING METHOD, METALLIC PATTERN-FORMING SUBSTRATE, METALLIC PATTERN, AND POLYMER LAYER-FORMING COMPOSITION例文帳に追加
金属膜形成方法、金属膜形成用基板、金属膜、金属パターン形成方法、金属パターン形成用基板、金属パターン、及びポリマー層形成用組成物 - 特許庁
The method includes forming the recording layer 13' made of CrPt_3 on a substrate 11, forming a mask pattern layer 15' on a surface of the recording layer 13', and irradiating each portion of the recording layer 13' exposed from the mask pattern layer 15' with ions.例文帳に追加
基板11上にCrPt_3からなる記録層13’を形成する工程と、記録層13’の表面にマスクパターン層15’を形成する工程と、マスクパターン層15’から露出した記録層13’の各部にイオンを照射する工程とを備えている。 - 特許庁
The tubular material 1 comprises a member body 2, a substrate layer 4 formed on an outer surface of the body, a pattern layer 6 formed on an outer surface of the layer, and a transparent or translucent protective layer 8 formed on an outer surface of the pattern layer.例文帳に追加
管状体1は、部材本体2と、この部材本体外面に形成された下地層4と、この下地層外面に形成された模様層6と、この模様層外面に形成された透明又は半透明の保護層8とを備える。 - 特許庁
The eaves portion is formed as follows: a stacked-layer structure in which a conductive layer, an insulating layer and a semiconductor layer are stacked in this order is etched collectively to determine a pattern of a gate electrode; and a pattern of the semiconductor layer is formed while side-etching is performed.例文帳に追加
庇部は、導電層、絶縁層、半導体層が順次積層された積層構造を一括でエッチングしてゲート電極のパターンを確定した後、半導体層のパターンを形成するとともにサイドエッチングを行うことによって形成する。 - 特許庁
The multilayer board, where a wiring pattern is formed on the surface or inner layer comprises: an inner layer wiring pattern 8 having a carbon connection section 28 that can be cut by applying laser beams 1; and a surface layer wiring pattern 9 connected to the inner layer wiring pattern 8 via through holes 14, 16.例文帳に追加
表面及び内層に配線パターンが形成された多層基板において、レーザ光1の照射により切断することが可能なカーボン接続部28を有する内層の配線パターン8と、内層の配線パターン8にスルーホール14、16を介して接続されてある表面の配線パターン9とを備える。 - 特許庁
A laminated film composed of a semiconductor layer, a gate insulation layer and a gate electrode layer is formed on an insulator, the laminated film is etched with a first resist pattern formed on it as a mask, then the first resist pattern is worked into a second resist pattern, and at least the gate electrode layer is etched with the second resist pattern as the mask.例文帳に追加
絶縁体上に半導体層とゲート絶縁層とゲート電極層からなる積層膜を形成し、この上に形成した第1のレジストパターンをマスクとして積層膜をエッチングした後、第1のレジストパターンを第2のレジストパターンに加工し、第2のレジストパターンをマスクとして少なくともゲート電極層をエッチングする。 - 特許庁
A pattern is formed for a reflective film layer 101, a protective film layer 102, and a mask layer 103 by using a patterned resist layer 104 as a mask, and then the resist layer 104 and the mask layer 103 for masking are removed.例文帳に追加
パターン形成したレジスト層104をマスクとして、反射膜層101、保護膜層102、マスク層103に対してパターンを形成し、その後、レジスト層104、マスク加工用マスク層103を剥離する。 - 特許庁
Then, a metal layer 17 containing Cu is formed on the upper layer of the barrier metal layer 16 by electrolytic plating using the barrier metal layer 16 as an electrode, and the barrier metal layer 16 and the metal layer 17 are processed into a wiring pattern.例文帳に追加
次に、バリアメタル層16の上層にバリアメタル層16を電極とする電解メッキによりCuを含む金属層17を形成し、バリアメタル層16及び金属層17を配線パターンに加工する。 - 特許庁
The pattern layer, the optical selective reflective layer, the hologram forming layer and the reflective layer have transmissivity to visible light and further the reflective layer has a refractive index different from that of the hologram forming layer to visible light.例文帳に追加
前記パターン層、光選択反射層、ホログラム形成層および反射層は、可視光に対して透過性を有し、かつ、前記反射層は、可視光に対して前記ホログラム形成層とは異なる屈折率を有する。 - 特許庁
In the thermal transfer film comprising a base film, a release layer formed on the surface of the base film, a pattern layer formed on the release layer and the adhesive layer so formed as to cover the pattern layer, a thermoplastic film is laminated on the surface of the adhesive layer.例文帳に追加
基体フィルム、該基体フィルムの表面上に形成された剥離層、該剥離層上に形成された絵柄層、及び該絵柄層を覆うように形成された接着剤層を含んでなる熱転写フィルムにおいて、該接着剤層の表面上に熱可塑性フィルムをラミネートする。 - 特許庁
The wiring substrate includes a first polyimide layer where a photosensitive polyimide is heated/hardened, a copper layer pattern where an electrolytic copper plated layer is grown on the polyimide layer, and a second polyimide layer where a photosensitive polyimide is heated/hardened to cover the copper layer pattern.例文帳に追加
配線基板として、感光性ポリイミドを加熱・硬化させた第1のポリイミド層と、このポリイミド層上に電解銅めっき層を成長させて形成された銅層パターンと、この銅層パターン上を覆う、感光性ポリイミドを加熱・硬化させた第2のポリイミド層とを具備する。 - 特許庁
A wiring board 1 includes a first glass ceramic layer 11, a second glass ceramic layer 12 laminated on the first glass ceramic layer 11, a conductor pattern 13 formed between the first glass ceramic layer 11 and the second glass ceramic layer 12, and a third glass ceramic layer 14 covering the conductor pattern 13.例文帳に追加
配線基板1は、第1ガラスセラミック層11と、第1ガラスセラミック層11に積層された第2ガラスセラミック層12と、第1ガラスセラミック層11と第2ガラスセラミック層12との間に形成された導体パターン13と、導体パターン13を覆っている第3ガラスセラミック層14とを含んでいる。 - 特許庁
To provide an overlapping error measuring method for calculating the true value M of a precise overlapping error with a resist pattern for forming a lower layer pattern and an upper layer pattern, even if the optical axis is deviated.例文帳に追加
光軸にズレが生じても下層パターンと上層パターンを形成するためのレジストパターンとの正しい重ね合わせ誤差の真値Mを算定するこのができる重ね合わせ誤差測定方法を提供する。 - 特許庁
In this way, the grain pattern by the ink layer 7 and the grain pattern by the printing layer 3 are positioned in the upper and lower layers to intensify the depth so that a pattern having solidity can be expressed.例文帳に追加
これにより、艶消着色インキ層7による木目柄と印刷層3による木目柄とが上下二層に位置して深みが強調され、立体感のある図柄表現が可能となる。 - 特許庁
After pattern transfer is completed to all the divided regions, the resist layer 71 is collectively developed to form a resist pattern 79 and the substrate or the working layer 70 is subjected to cutting treatment by using the resist pattern as a mask.例文帳に追加
すべての分割領域毎にパタン転写が終了したのち、レジスト層71を一括現像してレジストパタン79を形成し、これをマスクにして基板又は加工層70を切削加工する。 - 特許庁
After the groove pattern 3 is formed through development, the groove pattern 3 is re-exposed, to form a silanol-group containing layer 4 as a surface layer on the groove pattern 3, thereby controlling the amount and distribution of the silanol group.例文帳に追加
現像により溝パターン3を形成した後に、溝パターン3を再び露光して、溝パターン3の表層にシラノール基含有層4を形成することにより、シラノール基の量、分布が制御される。 - 特許庁
A hole pattern or the like free from a development defect, the pattern having a crosslinked hardened layer 5 on the surface of the resist pattern and having a size less than the resolution limit of the exposure wavelength is formed by developing the coating layer 4.例文帳に追加
被覆層4を現像することにより、レジストパターン表面に架橋、硬化層5を有し、露光波長の解像限界以下のサイズを有する、現像欠陥のないホールパターンなどが形成される。 - 特許庁
To provide a patterning method capable of shortening a tact time of pattern forming, calcining a pattern layer and a dielectric layer in a lump, and totally lowering the cost of pattern formation.例文帳に追加
パターン形成のタクトタイムの短縮を可能とし、またパターン層と誘電体層の一括焼成を可能にし、パターン形成のトータル的低コスト化が可能なパターニング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The semiconductor device which has the dummy pattern has a real dummy pattern W formed on the wiring layer to constitute circuit wiring and the dummy pattern D formed on the wiring layer to be used for the CMP method.例文帳に追加
本発明のダミーパターンを有する半導体装置は、配線層に形成され回路配線を構成する実パターンWと、配線層に形成されCMP法に用いるダミーパターンDとを備えている。 - 特許庁
Then, the supporter film, an Si layer 9 and an SiGe layer are successively dry-etched while using the resist pattern as a mask.例文帳に追加
そして、このレジストパターンをマスクに支持体膜、Si層9及びSiGe層を順次ドライエッチングする。 - 特許庁
A heating circuit pattern 40 consisting of a conductor is formed on a 2nd layer 30 so as to function as a heating layer.例文帳に追加
第2層30には発熱層と機能するように導体による発熱回路パターン40が形成されている。 - 特許庁
A first dummy pattern 18 is provided on a green resin layer 16 having the highest hardness on the outer side of a color filter layer 14.例文帳に追加
カラーフィルタ層14の外側に最も硬度が高い緑色樹脂層16にて第1ダミーパターン18を設ける。 - 特許庁
A third insulating layer 43 is formed on the second insulating layer 42 to cover the wiring pattern W2.例文帳に追加
また、第2の絶縁層42上に配線パターンW2を覆うように第3の絶縁層43が形成される。 - 特許庁
The electrical insulating layer is disposed between the metal pattern layer and the flat surface, and covers the flat surface partially.例文帳に追加
電気絶縁層は金属パターン層と平面との間に配置され、かつ平面を局所的に覆っている。 - 特許庁
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